JPS60111323A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、磁気記録ディスク等に使用する磁気記録媒体
に関する。特に、磁気記録特性と耐摩耗特性がすぐれて
いると共に磯性層が安定していて酸化されないことな特
徴とする磁気記録媒体に関する。さらに具体的に述べる
と、本発明は複数の物質の新規な組合せに関し、これら
の物質の各々は薄１４に形成され、磁気記録媒体を構成
する。また本発明は磁気特性を所望の特性に設定可能な
磁気記録媒体に関する。

〔従来技術〕

磁気記録ディスクを設計するにあたっては、利用する記
録ヘッドの特性によって、考慮しなければならない要素
が多数ある。磁気特性の中で、特に高い磁気記録密度が
目的である場合に望ましいのは、記録ヘッドの畜込み能
力によってのみ制限される高い最大保持力である。また
、記録装置においては、Ｓ／Ｎ比等によって制約される
ため、記録ヘッドのヘッド信号出力がある最低直よりも
大きい必要がある。これによって記録媒体においては、
磁気記録層の厚さとその残留磁化の積（これ以降、「磁
化・厚み積」と記す）が対応する最小１直より大きい必
要がある。さらに、高い最大保持力と所望の磁化・厚み
積には磁気記録層のＭ−Ｈヒステリシス・ループが矩形
に近いことも必要である。最大保持力と磁化・厚み積が
一定直に設定さＪｔた場合、記録密度は記録過程での分
解能の最小直に一致するような最大値であるのが望まし
い。分解能は一般に、記録密度が増大すると減少し、ま
た磁化・厚み積の最大保持力に対する比が増大すると減
少するので、記録装置を最適化するには、ディスクの最
大保持力とその磁化・厚み積が上記のように設定された
対応する最大直と最小１直にほぼ等しい必要がある。磁
化・厚み積がその最小１直より大きい場合でも、また最
大保持力がその最大呟より大きい場合でも、記録ヘッド
は本来実現可能な記録密度を得ることができない。従っ
て、最大保持力と磁化・厚み積を独立して変える必要が
ある。さらに、これらのパラメータの咳は記録ヘッドが
改善されるにつれて変える必要があるので、最大保持力
と磁化・厚み績をかなり広い範囲にわたって独立しで変
える必要がさらに生ずる。別の重快な制限要素は、磁気
特性を必要に応じて独立して変えることが、記録ディス
クな物理的に支持するのに適する滑らかな基板の上では
じめて実現できるということである。また、目標の磁気
特性を実現するだめの方法をひとたび決めた後は、磁気
特性に対する独立した微調整か、パラメータな比較的簡
単に変えることによって容易に行なうことができるのが
望ましい。

コバルトと白金の合金（Ｃｏ−Ｐｔ）の磁気記録膜特性
は公知であり、ある程度報告されている。例えば、高速
スパッタリングのターゲット対向形式による高い最大保
時力Ｃｏ−Ｐｔ合金膜の製造（Ｐｒｅｐａｒａｔ’ｉｏ
ｎ　ｏｆ　Ｈｉｇｈ　Ｃｏｅｒｃｉｒｉｔｙ　Ｃｏ−Ｐ
ｔ　ＡｌｌｏｙＦｉｌｍｓ　ｂｙ　’ｒａｒｇｅｔｓ−
Ｆａｃｉｎｇ　Ｔｙｐｅ　ｏｆ　Ｈｉｇｈ　）Ｌａｔｅ
Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ　：　Ｉｒ＋ｔｅｒｍａｇ　］　
９８３．　ｄｉｇｅｓｔ　ＡＣ−５）と題する論文によ
ると、白金の割分が約２０原子パーセントであるＣｏ−
Ｐｔ　合金で約１６００エルステツド（Ｏｅ）の最大保
持力が達成された。この合金の膜は膜の平面内で約１２
５エルステツドの直流。

磁界を用いてガラス基板上に被着した。高密度記録用耐
食Ｃｏ−Ｐｔも薄膜媒体（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ−Ｒｅｓ
ｉｓｔｉｎｇＣｏ−Ｐｔ　Ｔｈ１ｎ　ｐｉｌｍ　Ｍｅｄ
ｉｕｍ　ｆｏｒ　）Ｉｉｇｈ　ｌ）ｅｎｓｉｔｙＲｅｃ
ｏｒｄｉｎｇ　：　Ｉｎｔｅｒｍａｇ　、　１９８３　
、ｄｉｇｅｓｔ　ＡＣ−５）と頃する論文に同様の結果
が示されている。米国特許第３，７５５，７９６号は磁
区（磁気バブル）の用途で使用すくコバルトと白金の合
金を開示しているが、こＪｔは高密度嫌気記録媒体に適
する薄膜の形を取っていない。

コバルトとその合金のように高い保持力を有する場合、
その膜の結晶構造は高い磁気結晶異方性を有する六方晶
系となることが知られている。米国特許第４，２０２，
９３２号に記載されているように、低温で大方晶系の純
粋なコバルト金属は高温で面心立方構造に変わることが
良く知られている。コバルト膜の面心立方構造への変態
によって、その保持力は高密度記録用の媒体としては役
に立たないほど低下する。１９６７年９月に発行された
アイ・イー・イー・イー　トランスアクションズ　オン
　マグネチックス（Ｉ　Ｅ　Ｅ　ＥＴｒａｎｓａｃｔｉ
ｏｎｓｏｎ　Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ　：　Ｖｏｌ、　Ｍａ
ｇ−３，Ｎｏ、３．２５ページ）に高イ保持力を有する
薄い蒸着膜（Ｔｈ１ｎ　ＥｖａｐｏｒａｔｉｖｅＦｉｌ
ｍｓ　Ｗｉｔｈ　Ｈｉｇｈ　Ｃｏｅｒｃｉｖｅ　Ｆｏｒ
ｃｅ　）という要項の下に、クロムの非磁性Ｆ層が存在
することＫよる＠姓物質（コバルト）の構造と形態の乱
れによって２００ないし６００エルステツドの最大保持
力が達成され、この最大保持力はコバルト層の厚さを変
えることによって調整することができる旨記載されてい
る。これは、クロム膜とコバルト膜を順次蒸着すること
によってこのような結果を実現したのであり、２００　
Ｘの厚さのコバルト膜で最大保持力の最大呟を、そして
１４００Ａの厚さのコバルト膜で最小直な得たのである
。１９７９年７月刊のアイ・イー・イー・イー　トラン
スアクションオン　マグネチソクス（Ｉ　ＥＥＥ　’Ｉ
’ｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｎ　Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ　
：Ｖｏ　１．１５．Ｎｏ、　３．１１３５ページ）にデ
ィジタル磁気録音用のスパッタリングによる多層７　イ
／Ｉ／Ａ　（５ｐｕｔｔｅｒｅｄ　ＭｕｌｔＮａｙｅｒ
　ＦｉｌｍｓＦｏｒ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｍａｇｎｅｔｉ
ｃ　Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ）　という表題ノ下ニコバルト
とクロムのスパッタ被着フィルムについての論文にも同
様の結果が示されている。

前記の従来の文献は主としてコバルト合金の基本的な磁
気特性を扱っている。米国特許第４，０７９．１６９号
はアルミニウム基板用の１呆護クラツデイングまたは絶
縁層として非磁性のコバルトを主体とする合金な利用す
る磁気記録媒体を開示している。この磁気層はコバルト
を主体とする合金に真空蒸着した鉄、コバルトまたは鉄
とコバルトの合金であり、この蒸着層にはロジウムのよ
うな金属の保瞳層がかぶせられている。又、磁気層を形
成する前にクロムまたはチタンの下層を絶縁層上に被着
することか示されている。米国特許第４，２２１．６　
ｉ　５号において、流量計等の内部で振動するボールと
して使用する軟かた磁性拐料として５０−５０原子パー
セントの白金とコバルトの合金を使用することが開示さ
２ｔでいる。米国特許第４．１５４．８７５号で、アル
ミニウム・ベースヒに配置した無電解めっきを施したニ
ッケルとリンの台金層の一ヒに形成しｔこ無を解めっき
を施したコバルトとニッケルとリンの台金より成る磁性
層を有する磁気記録部材を開示している。この磁性層に
は多珪酸塩より成る保護被膜が設けられる。米国特許第
４．２０２，９３２号は多数のコバルト合金（コバルト
とレニウムの合金、コバルトとルテニウムの合金、コハ
ルトトオスミウムの合金、よたはこｔＬらの混合物）を
磁性記録媒体として宮及しているが、コバルトと白金を
含む合金については触れていない。

許容できる磁気記録特性を有することに加えて、磁気記
録ディスクがすぐれた耐摩耗特性を有し。

そして安定していて磁性層が酸化されないことが大いに
沼ましい。下にある層を摩耗と汚染から保護するために
、記録ディスクに特殊な層または膜を設けることが一般
的である。例えば、米国特許第４．１５２，４８７号と
米国特、許第４，１５４，８７５号には保護用の条理酸
膜を使用することが開示されている。同様に、米国特許
第４，０７９．１６９号において、ロジウム等の貴金属
の硬い保護層を使用することが開示されている。

また、米国特許第４．０６９．３６０号において、記録
ディスクの表面と磁気記録ヘッドの表面の両方を保護し
、摩擦による摩耗を減らすために潤滑層で被膜した無機
酸化物層を使用することが開示されている。この特許に
開示されている無機酸化物膜は石英、ガラス、珪酸ガラ
ス、ホク化物ｄラス、ホウ珪酸ガラス、リン酸がラス、
非晶ｍアルミニウムのような多珪酸塩である。この米国
特許に開示さ２ｔた潤滑剤は、表面結合剤としてのシリ
コーン油、フッ素油、フルオロ珪酸油、シラン、７ラザ
ン類である。

〔発明の目的〕

本発明は高密度記録可能且つ磁気特性が可変な磁気記録
媒体を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

純粋なコバルトをクロムの上に被着するとき、コバルト
膜の保持力は膜の厚さと共に著しく変化する。本発明は
少な（とも部分的には、白金を加えると膜の最大保持力
が増大すること、結果として最大保持力が膜の厚さにあ
まり依存しないこと、そして残留磁化が白金の割合に対
して大きく変化したり減少したりしない、という発見に
基づいている。従って、磁化・厚み積は膜の厚さに依存
し、主として膜の厚さと共に変化する。従ってこれらの
特徴によって、最大保持力と磁化・厚み積因子を独立し
て変化したり調整したりすることができる。コバルト・
白金膜の厚さを調整することによって最大保持力にさほ
ど影響を与えることなく望みの磁化・厚み積を得ること
ができる。最大保持力は白金の含有量を変えることによ
って望みの値にすることができる。さらに、クロム層の
厚さを変えることによって最大保持力を微調整すること
ができる。

このように、クロム層の上に配置したコバルト・白金合
金膜の組合せによって、最大保持力と磁化・厚み積が広
範囲にわたって独立して変えることができる新規な構造
が提供され、この変化は白金の含有量とコバルト・白金
層の膜の岸さを変えることＫよって実現される。磁化串
厚み積の最大保持力に対する比によって各記録領域の間
の遷移幅が決定され、この比の肱が低いほど実現できる
記録密度が高くなる。従って、一定のディジタル記録装
置（記録ヘッドとディスク）の場合、本発明によってク
ロム層の上のコバルト・白金層の磁気特性は容易に最適
化することができて、利用できるヘッドの書込み磁界と
必要な出力信号の最小随に合致する最大記録密度を得る
ことができる。

本発明の薄膜磁気記録媒体またはディスク構造の特徴は
、最大記録密度を実現しながら最小読取り分解能のしき
い値を越える性能を生ずることである。本発明の記録デ
ィスクは十分に研摩した基板の一ヒに４つの別々の層を
スパッタすることによって１険次形成される。これらの
層のうちの第１の層は、基板からの汚染に対する障壁と
なると共に基板表面の局所的な不均一を隠すための、１
００ＯＡないし３０００Ａの厚さの薄いクロムの絶縁層
である。この絶縁機能に加えて、クロムの下層は磁性層
の最大保持力を制御する機能を有する。

次の第２の層は、白金の含有蓋が約１原子パーセントか
ら約２０原子パーセントであり厚さが１２５Ａないし１
００ＯＡである、スパッタされた磁性コバルト・白金膜
である。白金の含有蓋と膜の厚さを変えることによって
磁気特性を望むように変えることができる。白金の含有
蓋を１６原子パ一セント以上にして、１，６００エルス
テツドより大きい最大保持力を得ることができる。

磁性膜上に配置される第３の層つまり障壁層は、ディス
クの寿命の間、特に次の酸化物摩耗層の製造の間、磁性
層を安定に保って酸化を防止するための、厚さが１００
ないし６００Ａのクロムより成る。

最後の層は、記録ヘッドに接触するときディスクの始動
・停止作動の間、摩耗から十分に保護する摩耗層である
。例えば、満足できて現在好ましい摩耗層はコバルトの
１つまたは２つ以上の酸化物より成る。この摩耗層は（
０３０４またはＣ８Ｏまたはその他のコバルトと酸−素
の非化学量論的組合せと考えられる。いずれにしても、
本明細書で使用する「コバルト酸化物」とは上に定義し
たコバルトの酸化物のすべてを意味する。コバルト・酸
素系の状態図によると、室温では安定な酸化物の状態が
Ｃｏ３Ｏ４であり、約９００℃以上の温度でこの酸化物
はＣｏＯに変わる。

（実施例） 第１図は本発明の磁気記録媒体の側面図である。

ディスクｌは約０，１９ｃｆｒＬ（約０．０７５インチ
）の厚さのアルミニウム（Ａｎ　の支持基板２を含む。

高度に研摩され十分に滑らかなアルミニウムの表面、つ
まり、きすや研摩の跡が全くない表面、を得ることは困
難であるため、ニッケル・リン（Ｎ　ｉ　−Ｐ　）の平
滑層４がアルミニウム基板２の表面に形成される。この
ニッケル・リンの平滑層４は好ましくは厚さが約０．７
６ｘｌＯ−３ｃ７ｒＬ（約３ｘ　１０−’　イ：ｙ＋　
＞テアリ、最大厚さが約帆０２５ｃ＋＋ｔ（約０．０１
インｆ−）”Ｃ−あり、無電解めっきによって形成され
る。このめっきによって形成さ２ｔたニッケル・リンは
高度の平坦さを生ずるまで研摩され、そして基板２の均
一で硬くて滑らかな表面となる。

クロム（Ｃｒ　）の絶縁層６は平滑層４の上にスパッタ
リングで被着され、約２．２０ＯＡの厚さにされる。絶
縁層６の上にはコバルトと白金の合金（Ｃ。

−ＰＬ）の磁性層８がスパッタリングで形成される。

すでに述べたように、絶縁層６は磁性層８を基板から隔
離し、基板からの汚染を防止する障壁として働く。この
絶縁特性に加えて、絶縁層６はコバルト・白金合金の磁
性膜の磁気特性を改善する。

磁性膜のＣ軸の好適な平面内の向きの程度はこの絶縁層
６で調整することができる。これによって高密度記録を
実現するのに必要不可欠である最大保持力と平面内のＭ
−Ｈヒステリシス・ループの矩形度が増大する。さらに
また、この絶縁層６の厚さを変えることによって上にあ
る磁性層８の最大保持力を調整することができる。例え
ば、約３原子パーセント白金を含む約４１ＯＡの厚さの
コバルト・白金合金の磁性層８の最大保持力は、絶縁層
の厚さを約１．００　ＯＡから約３，０ＯＯＡまで変え
ることによりて約４５０エルステツドから約７５０エル
ステツドまで連続的に変えることができる。

磁性層８はコバルトと白金の合金より成る。

第１図の実施例において、合金の白金含有量は約３原子
パーセントであって約６００エルステツドの最大保持力
を生じ、層の厚さは約４１ＯＡである。

層は好ましくは少なくとも３００Ａの厚さである。

白金の含有量を変えることによって、磁性層８の磁気特
性を望むとおりに調整することができる。

これは第２図を参照することによって容易に理解するこ
とができよう。第２図において、曲線Ａはシリコン上に
形成さＪｔたコバルト・白金層内の白金含有針に対する
最大保持力の変化を示し、曲線ＢとＣは２つの異なる厚
さの膜の最大保持力を示すものである。曲線Ｂば３７０
Ａ厚の層を表わし、曲線Ｃは６００Ａ厚の層な表わして
いる。曲線ＢとＣで表わさｊする２つの層は約２．５０
ＯＡ厚のクロムの絶縁層に被着される。白金含有量が同
一の場合、薄い方の層（曲線Ｂ）は厚い方の層よりかな
り高い最大保持力を有することが理解されよう。

すでに述べたように、本発明のコバルト・白金合金層の
好適な白金含有量は約３原子パーセントであり、こＪｔ
は約６００エルステツドの最大保持力を生ずる。白金の
濃度が低い（８原子パーセント以下）場合よりも濃度が
高い場合、最大保持力は絶縁１−６が存在１−ることに
対してより鈍感であムまた、平面内のループの矩形度は
クロムの上に形成したコバルト・白金膜の白金含有量に
対し７てあまり変化しない。

コバルト・白金磁性層８を被着した後、クロムの障壁層
１０を磁性膜の上にスパッタする。好ましい厚さは約５
０ＯＡであるが、これより薄い膜も使用することができ
る。下にある磁性層を保護するために必要な最低の厚さ
は少なくとも１００Ａであり、主要な基準は連続してい
る層の厚さである。

通常、この厚さはｔｏｏ　Ａ以上である。クロムはこの
障壁層ＩＯに好ましい物質であるが、チタン、タンタル
、ジルコニウムのような他の物質を使用することもでき
る。障壁層ｌＯの必要条件は次の２つである。＋１１障
壁層の下の磁性層とその上の摩耗層に十分に付着するこ
と′。（２）化学的不活性があって接触するいずれの層
とも反応しないこと。本発明の磁気記録媒体は、後に詳
細に説明するようにスパッタリングで作られ、そして絶
縁層６としてクロムを使用しているため、クロムは障壁
層１０の材料として好ましい。

摩耗層１２はスパッタリングによって障壁層ＩＯの上に
形成さ１する。摩耗層１２は酸化物コバルトの層であり
、好ましくは厚さが約４２ＯＡである。

すでに記載したように、この酸化物コバルトはＣＯ３Ｏ
４またはＣｏＯまたはコバルトと酸素のその他の非化学
量論的組合せまたはコバルト・酸素系の２つまたはそｉ
ｔ以上の相の複雑な混合物である。

安定な酸化物の相が室温でＣＯ３Ｏ４であるが、本発明
に従って膜を形成するスパッタリングが非平衡被着法で
あるため、摩耗層１２はコバルトと酸素の非化学量論的
混合物、つまり、ＣＯ３Ｏ４相またはＣｏＯ相または両
者の混合物、であると考えられる。厚さはディスクの始
動・停止作動等の９因に応じて小さくすることができる
。磁気記録ヘッドはディスクが回転し始めるときディス
クに接触し、ディスクが減速し停止するときにも接触す
る。例えば、５００Ａの酸化物膜は２万回以上の始動・
停止作動に耐えることがテストｆｉ１認された。同様に
、２５０Ａの厚さの摩耗層１２は１万回の連続始動・停
止の後にほとんど劣化しないことが確認さ７ｔな。前述
の摩耗層１２は５０％以下の相対湿度に比較的影響され
ない低い摩擦係数と摩耗特性を有する。酸化コバルトの
摩耗層１２が現在好ましいけれども、他の物質の酸化物
も使用することができる。例えば、チタン、シリコン、
アルミニウムの酸化物も使用することができるが、これ
らに限定されない。

ニツ、ケル・リンの平滑層４を除いて、本発明の記録デ
ィスクの各層は当該技術分野で周知のスパッタリングで
作る。平滑層４は無電解めっきによってアルミニウム基
板２の表面に形成する。アルミニウム基板２０表面は周
知の亜鉛酸塩前処理サイクルで作る。この前処理サイク
ルの詳細は、米国オハイオ州シンクナチ、メイン・スト
リート６００のガードナー社（Ｇａｒｄｎｅｒ　Ｐｕｂ
ｌｉｃａｔｉｏｎｓ、　Ｉｎｃ、　、　）より発行され
、無電解ニッケルめっきの表面処理（５ｕｒｆａｃｅ　
Ｔｒｅａｔｍｅｎｔｓ　ｆｏｒ　Ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓ
ｓ　ＮｉｃｋｅｌＰｌａｔｉｎｇ　）という表題を付さ
れ、１９８１年３月１７日に無電解ニッケル会ｐ■（Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ　Ｎ１ｃｋｅｌＣｏｎｆｅｒｅｎ
ｃｅ　■）にお（・で提供された論文に記載されている
。無電解ニッケルめっきは周知であり、その詳細は米国
ニューヨーク州ニューヨーク、パンｅノストランド・ラ
インホルト社（Ｖ；ｒｎ　Ｎｏ５ｔｒａｎａＲｈｉｎｅ
ｈｏｌａ　Ｃｏｍｐａｎｙ　）より１９７１年に発行さ
れた′電気めっき工学ハンドブフク（，１３１ｅｃｔｒ
ｏｐｌａｔｉｎｇＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　Ｈａｎｄｂ
ｏｏｋ　）第３版に記載されていル（特に４８８ないし
５０１ページを参照のこと）。めっきされたニッケル・
リンディスクを洗浄し、研摩した後、ディスクをスパッ
タリング室の中に置き、そしてディスクをスパッタリン
グ室またはスパッタリング室系統からディスクを除去す
ることなく残りの層を順次形成する。

クロムの絶縁層６は例えば約７ミリトールの圧力のアル
ゴン雰囲気内でクロム・ターゲットを用いてスパッタリ
ングで形成する。基板の加熱を最小限に抑えるために直
流マグネトロン・スパッタリング法を利用して約７．５
分で約２．２０ＯＡのクロム膜を形成することができる
。なお、スパッタリングによる膜形成速度は主としてマ
グネトロンに供給される電力の大きさに左右される。

次にディスクを隣りのスパッタリング室に移動し、そし
て白金とコバルトより成る合成ターゲットを用いて高周
波ダイオード・スパッタリングによって磁性層８をクロ
ム絶縁層６−Ｆに形成する。

この工程は例えば約１５ミリトールの圧力のアルゴン雰
囲気内で実行する。スパッタしたコバルトと混ぜて合金
にしたい白金の割付が、白金の露出される１面積のター
ゲット表面上のコバルトの露出される面積に対する比を
決定する。この方法によって、好ましくは約３原子パー
セントの白金を含有していて厚さが約４１ＯＡのコバル
ト・白金層８を約０．６フツト／ｄで約２分間形成した
。

次にディスクを、クロム障壁１０を形成するスパッタリ
ング室に移動する。雰囲気はやはりアルゴンで約７ミリ
トールの圧力である。もちろんターゲットはクロムであ
る。障壁層１０の厚さか約５０ＯＡであるため、スパッ
タ時間はやはり直流マグネトロンを使用して約１．５な
いし２分間のみである。

摩耗層１２は、クロム障壁層１０の上に酸化コバルトの
層をスパッタすることによって形成する。

この層を形成するため、コバルト・ターゲットを約１５
ミリトールの圧力でアルゴン８０％、酸素２０％の雰囲
気中でコバルト・ターゲットを使用する。高周波ダイオ
ード・スパッタリングを利用して、約０．６ワツト／ｄ
で約９分間約４２５Ａの厚さの層を形成する。

第３図は、所定の制限条件を満足するためにどのように
磁気記録ディスクの設計を調整するのか示している。シ
ステムの制限条件とは許容最犬呟以下の書込み磁界、最
小読取り能力、および最小分解能である。これら制限条
件は点ではなくて小さな領域を形成するように図示され
ているので、システムのパラメータの避けられない小変
動を許容するものである。最大書込み磁界は磁性膜の望
みの最大保持力を決定する。第３図に示すように、これ
は適当な含有量の白金を含むコバルト・白金を選択する
ことによって実現される。コバルト層の厚さは２５００
Ａである。図示の３つの曲線のいずれでも、例えば利用
できる最大書込み電流によって決定される最大保持力で
の動作を可能にするこの特定の目的は白金の含有量が０
ないし４原子パーセントであるコバルト膜によって達成
されるけれども、白金の含有量が約２．５原子パーセン
トである磁性膜でさえ残りの２つの制限条件、つまり許
容最小分解能および最小読取り能力、な満足する。図示
の最大書込み電流のレベルでは、図示の膜の１つだけが
ヘッド特性とシステムの構造によって課されている制限
条件を満足し、この満足する膜は約２，５原子パーセン
トの含有量の白金を含み厚さが３０ＯＡないし４２０Ａ
の膜である。これら３つのパラメータつまり、最大書込
み電流、最小読取り能力、および最小分解能が、第３図
に斜線で描かれている三角形Ａを形成する。２．５パー
セントのコバルト・白金膜だけがこの三角形を横切る。

システムの構造上、最大書込み磁界が同一であるが出力
読取り電流を太きくして動作する心安がある場合は、上
記の三角形は三角形Ｂで指示されている位置まで右に移
動する。白金の含有量をあまり変えることな（膜の厚さ
を増大すると、ディスクの設計−ヒの心安条件に新たに
合致する。

記録密度を減らして埋会わせするのでなければ、分解能
は低ドする。

三角形Ｃが示す例においては、三角形Ａと同じ分解能で
あるが、ヘッドは信号出力に関してより大きな磁化・厚
み積を必要とするが、より高い磁界の書込みが可能であ
る。三角形りが表わすシステムにおいては、より高い磁
界で瞥込みを行なうことができるが、信号出力な増大す
る心安はないヘッドでより高い分解能が実現される。白
金の含有量と膜の厚さを適当に独立して選択することに
よって、ディスクの磁気特性を望みの値に合わせること
かできる。

このように、本発明に従ってコバルト・白金膜の厚さと
その白金含有液の両方または一方を変えることによって
、広範囲の記録システムの構造のパラメータに適合する
ように磁性記録ディスクを作ることができる。さらにま
た、本発明に従って作ったディスクは極めて望ましくて
制御可能な磁気特性を示すだけでなく、酸化と摩耗を非
常に受けにくい。本発明は全くまたはほとんど複雑な手
順や作動なしに連続的１ｆまたは１組の処理に容易に適
せできる比較的簡単な製造方法でこれらの利点を生ずる
ものである。

〔発明の効果〕

本発明の磁気記録媒体は、記録密度、残留磁化の大きさ
を独立して変えることができ、種々の装置に使用するこ
とか可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の側面図。 第２図は本発明の磁気記録媒体における白金濃度と最大
保持力との関係を示す図。 第３図は本発明の磁気記録媒体における層の厚みと最大
保持力との関係を示す図。 ２：基板　４：平滑層 ６：絶縁層　８：磁性１− １０：障壁層　１２：摩耗層。 出願人　横河者ヒユーレット・バノカード株式会社代理
人　弁理士　長　谷　川　次　男 ゴ胃−２ 、龜０尋２　（入） コ百−３

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板と、前記基板上に設けらＪｔたクロムの層と、前記
   クロムの層上に設けらｎたコバルトと白金の合金の層と
   を具備して成る磁気記録媒体。