DE3710024A1 - Magnetisches speichermedium - Google Patents
Magnetisches speichermediumInfo
- Publication number
- DE3710024A1 DE3710024A1 DE19873710024 DE3710024A DE3710024A1 DE 3710024 A1 DE3710024 A1 DE 3710024A1 DE 19873710024 DE19873710024 DE 19873710024 DE 3710024 A DE3710024 A DE 3710024A DE 3710024 A1 DE3710024 A1 DE 3710024A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- magnetic
- storage medium
- thickness
- layers
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 77
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 156
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 22
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 29
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 29
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 13
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 13
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 7
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- -1 and further Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 241001676573 Minium Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910002845 Pt–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/1266—O, S, or organic compound in metal component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12806—Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component
- Y10T428/12826—Group VIB metal-base component
- Y10T428/12847—Cr-base component
- Y10T428/12854—Next to Co-, Fe-, or Ni-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12944—Ni-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein magnetisches Speichermedium
für eine Magnetscheibenvorrichtung usw. und insbesondere
auf ein magnetisches Speichermedium hoher Verläßlichkeit
bezüglich der Korrosionsbeständigkeit, der Verschleißfestigkeit
usw., das sich für eine hohe Speicherdichte
eignet.
Wie in der JP-PS 54-33 523 offenbart ist, wurde ein magnetisches
Speichermedium mit Verwendung einer dünnen metallischen
Magnetschicht für eine hohe Speicherdichte
vorgeschlagen. Allgemein wird ein magnetisches Speichermedium
durch Aufdampfen, Aufstäuben, galvanisches Beschichten,
Ionenstrahl-Aufstäuben usw. gebildet. Im Zuge
des in neuerer Zeit steigenden Bedarfs an einer höheren
Speicherdichte und einer höheren Verläßlichkeit wurde
vorgeschlagen, einem magnetischen Metall ein drittes Element, wie z. B. Cr, Nb,
usw., zuzusetzen, um insbesondere die Korrosionsbeständigkeit
zu steigern, wie in den JP-OS 57-15 406 und 57-1 96 508
angegeben ist. Jedoch beziehen sich fast alle dieser Veröffentlichungen
auf Magnetspeicherbänder, und sie genügten
noch nicht den strengen Anforderungen hinsichtlich der
Verläßlichkeit, wie sie für Computer-Hartscheiben usw.
benötigt wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein magnetisches
Speichermedium, das aus einer dünnen magnetischen Metallschicht auf Co-
Ni-Basis besteht, eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit
und wesentlich ausgezeichnete magnetische Eigenschaften
der dünnen magnetischen Metallschicht aufweist, zu entwickeln.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein magnetisches
Speichermedium, das ein nichtmagnetisches Substrat
und eine darauf gebildete dünne Magnetschicht aufweist,
die hauptsächlich aus Co und Ni besteht, mit dem Kennzeichen,
daß die dünne Magnetschicht außer den Hauptbestandteilen
Co und Ni noch wenigstens eines der Elemente Zr und
Hf enthält, wobei die Konzentration an Zr oder die Konzentration
an Hf oder die Konzentration an Zr und Hf in der
dünnen Magnetschicht 0,1 bis 30 At.-% auf der Basis der
Summe von Co und Ni beträgt, wie in den Ansprüchen 1, 13
und 19 angegeben ist.
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
gekennzeichnet.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung veranschaulichten
Ausführungsbeispiele näher erläutert; Darin zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht einer Magnetscheibe
nach einem Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
Fig. 2 und Fig. 3 graphische Darstellungen zur Veranschaulichung
der Ergebnisse von 1 mol/1-Nacl-
Sprühtests und 1 mol/1-NaCl-Tauchtests
mit den vorliegenden Magnetscheiben bzw.
mit Vergleichsproben-Magnetscheiben;
Fig. 4 und Fig. 5 graphische Darstellungen zur Veranschaulichung
magnetischer Eigenschaften der
vorliegenden Magnetscheiben und Vergleichsproben-
Magnetscheiben;
Fig. 6 eine Querschnittsansicht eines harten
Magnetscheibenmediums nach einem anderen
Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 7 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
der Magneteigenschaft des
in Fig. 6 dargestellten harten Magnetscheibenmediums;
Fig. 8 eine Querschnittsansicht eines harten
Magnetscheibenmediums nach einem anderen
Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 9 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
von Zusammensetzungen mit
der Tiefe einer CoNiZr/Cr-Schicht;
Fig. 10 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
der Beziehung zwischen der
innerebenigen Koerzitivkraft der vorliegenden
Magnetscheibe und der Zr-Konzentration
der dünnen Magnetschicht;
Fig. 11 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
der Beziehung zwischen dem
S/N (Rauschabstand) der vorliegenden
Magnetscheibe und der Ni-Konzentration
der dünnen Magnetschicht;
Fig. 12 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
von Zusammensetzungen mit
der Tiefe nach einem anderen Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
Fig. 13 und Fig. 14 graphische Darstellungen zur Veranschaulichung
der Ergebnisse von 1 mol/1-NaCl-
Sprühtests und 1 mol/l-NaCl-Tauchtests
mit den vorliegenden Magnetscheiben bzw.
Vergleichsproben-Magnetscheiben;
Fig. 15 und Fig. 16 graphische Darstellungen zur Veranschaulichung
magnetischer Eigenschaften der
vorliegenden Magnetscheiben und Vergleichsproben-
Magnetscheiben; und
Fig. 17 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung
einer Magneteigenschaft
nach einem anderen Ausführungsbeispiel
der Erfindung.
Als Ergebnis ausgedehnter Studien der magnetischen Eigenschaften,
Korrosionsbeständigkeit usw. aufgestäubter dünner
Magnetscheiben, die unter Verwendung von Co-Ni-Legierungssubstraten
hergestellt wurden, die jeweils Elemente
der 4., 5., 6. Periode usw. der Gruppen Ib, IIIa, IVa, Va
und VIII des periodischen Systems enthielten, wurde gefunden,
daß es sehr wirkungsvoll ist, den dünnen Co-Ni-
Legierungs-Magnetschichten wenigstens eines von Zr und Hf
zuzusetzen.
Wenn die dünne Magnetschicht Zr enthält, wird bevorzugt,
daß die Zr-Konzentration 0,1 bis 30 At.-% auf der Basis der
Summe von Co und Ni ist. Um die magnetischen Eigenschaften
zu verbessern, ist die Ni-Konzentration zweckmäßig 10 bis
60 At.-%, besser 20 bis 50 At.-% und am vorteilhaftesten 30
bis 48 At.-% auf der Basis des Co. Weiter ist die Zr-
Konzentration bevorzugter 2 bis 20 At.-%, noch besser 2 bis
15 At.-%, weiter verbessert 3 bis 12 At.-% und noch vorteilhafter
4 bis 11 At.-% auf der Basis der Summe von Co und
Ni.
Wenn die dünne Magnetschicht Hf oder sowohl Hf und Zr
enthält, ist die Hf-Konzentration oder die Gesamtkonzentration
an Hf und Zr vorzugsweise 0,1 bis 30 At.-% auf der
Basis der Summe von Co und Ni. Im letzteren Fall, wo die
dünne Magnetschicht sowohl Hf als auch Zr enthält, ist die
Hf-Konzentration vorteilhaft 2 bis 3 Gew.-% auf der Basis
des Zr unter dem Gesichtspunkt der Massenherstellbarkeit.
Weiter ist die Hf-Konzentration oder die Gesamtkonzentration
an Hf und Zr noch bevorzugter 0,1 bis 15 At.-% und am
meisten bevorzugt 2 bis 10 At.-% auf der Basis der Summe
von Co und Ni.
Gemäß der Erfindung läßt sich ein magnetisches Speichermedium
mit besonders ausgezeichneten Lese-und-Schreib-
Eigenschaften herstellen, indem man eine Cr-Zwischenschicht
mit einer Dicke von 10 bis 500 nm zwischen der
dünnen Magnetschicht und dem nichtmagnetischen Substrat
bildet oder im Fall des ein metallisches Substrat verwendenden
magnetischen Speichermediums die Oberfläche des
metallischen Substrats bis zu einer Tiefe von 1 bis 40 nm
oxidiert und die dünne Magnetschicht direkt darauf oder
unter Zwischenfügung der Cr-Zwischenschicht aufbringt.
Gemäß der Erfindung kann man ein magnetisches Speichermedium,
das sich besonders für das senkrechte magnetische
Speichern eignet, durch Bildung wenigstens einer Schicht
aus der Gruppe Si-Zwischenschicht, C-Zwischenschicht und
Ge-Zwischenschicht jeweils einer Dicke von 2 bis 100 nm
auf der Oberfläche des Substrats herstellen. Weiter kann
man ein magnetisches Speichermedium mit einer weiter verbesserten
Korrosionsbeständigkeit und einer ausgezeichneten
Abriebfestigkeit durch Bildung einer nichtmagnetischen
Schutzschicht einer Dicke von 10 bis 100 nm auf der Oberfläche
des magnetischen Speichermediums herstellen.
Die ausgezeichneten Eigenschaften aufgrund der Erfindung
basieren auf den folgenden Funktionen.
Dünne Magnetschichten aus (Co0,7Ni0,3)0,9Zr0,1,
(Co0,8Ni0,2)0,8Zr0,2, (Co0,9Ni0,1) 0,7Zr0,3 und
(Co0,6Ni0,4)0,95Zr0,05, die auf Glassubstraten durch RF-
Aufstäubung bei einer Substrattemperatur von 150°C in
6,5 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsdichte von 5 W/cm2
gebildet wurden, wurden durch Auger-Elektronenspektroskopie,
anodische Polarisationskurve usw. analysiert, und man
fand, daß jede der dünnen Magnetschichten eine hohe Zr-
Konzentration bis zu einer Tiefe von etwa 6 bis etwa 3 nm
von der Oberfläche aufwies und eine dichte Oberflächenoxidschicht
gebildet wurde.
In Fig. 9 ist ein typisches Auger-Tiefenprofil einer dünnen
CoNiZr-Magnetschicht gezeigt, wo die Probe hergestellt
war, indem man eine Cr-Unterschicht mit einer Dicke von
500 nm auf einem Si-Substrat bei 150°C in 13 · 10-3 mbar Ar
mit einer Leistungsdichte von 2 W/cm2 bildete und anschließend
darauf eine Schicht aus (Co0,7Ni0,3)0,95Zr0,05
bildete. Das gleiche Auger-Tiefenprofil wurde erhalten,
als eine nichtmagnetische Schutzschicht aus C usw. aus der
dünnen Magnetschicht gebildet wurde, und man beobachtete
keinen Stickstoff, Sauerstoff usw. in der dünnen Magnetschicht.
Und zwar war Zr vorwiegend an der Oberfläche der
dünnen Magnetschicht unter Bildung einer dichten Passivierungsschicht
konzentriert, und so war die Korrosionsbeständigkeit
der dünnen Magnetschicht erheblich verbessert.
Dieser Effekt wurde beobachtet, so oft die Zr-Konzentration
0,1 At.-% oder mehr war. Andererseits wurde die Sättigungsmagnetisierung
des magnetischen Speichermediums durch
den Zr-Zusatz gesenkt, doch fand man, daß, so lange die
Zr-Konzentration nicht mehr als 30 At.-% auf der Basis der
Summe von Co und Ni war, die Sättigungsmagnetisierung der
der Oxidmedien gleichwertig oder überlegen war und kein
praktisches Problem ergab.
Jedoch ist es, wie in der JP-OS 56-44 752 (= US-PS
43 06 908) und "IEEE, Trans. on Magn., MAG-16 (1986),
S. 1129-1131) offenbart ist, bekannt, daß die CoNiZr-
Legierung dazu neigt, amorph zu werden, und eine niedrigere
Koerzitivkraft hat, wenn sie nach einer Schnellabschrecktechnik
hergestellt wird, und ist daher als Magnetmaterial
für Speicherköpfe geeignet, jedoch nicht als
Magnetmaterial für Speichermedien vorzuziehen. Andererseits
wurde gefunden, daß, wenn eine dünne CoNiZr-Magnetschicht
durch Aufstäuben, Aufdampfen, Ionenstrahl-Aufstäuben
usw. nach der Bildung eines kubisch raumzentrierten
Gefüges von Cr, Mo, W usw. gebildet wurde, ein vorherrschend
kristallines Gefüge und für ein magnetisches Speichermedium
geeignete magnetische Eigenschaften, z. B. eine
Koerzitivkraft von 39,8 kA/m oder mehr, ohne irgendeine
Wärmebehandlung erhalten werden können. Und zwar konnten,
wenn eine Cr-Zwischenschicht mit einer Dicke von 250 nm
auf einem Glassubstrat oder einem mit NiP beschichteten
Aluminiumlegierungssubstrat gebildet wurde und dünne Magnetschichten
aus (Co0,6Ni0,4)1 - x Zr x (worin x = 0, 0,02,
0,03, 0,08, 0,11, 0,12, 0,125, 0,15, 0,175 und 0,225) mit
einer Dicke von 60 nm darauf durch Gleichstromaufstäuben
bei einer Substrattemperatur von 180°C in 6,5 · 10-3 mbar
Ar mit einer Leistungsdichte von 5 W/cm2 gebildet wurden,
polykristalline Schichten mit einer so hohen Koerzitivkraft
wie 39,8 kA/m oder höher bei einer niedrigen Zr-
Konzentration erhalten werden, während bei einer
höheren Zr-Konzentration als 15 At.-% die Schichten plötzlich
amorph wurden und die Koerzitivkraft geringer als
39,8 kA/m wurde, wie in Fig. 10 gezeigt ist. So lange die
Zr-Konzentration zwischen 15 und 30 At.-% war, konnten die
dünnen Co-NiZr-Magnetschichten kristallisiert werden und
hatten eine hohe Koerzitivkraft durch Wärmebehandlung des
Substrats bei 280 bis 500°C. D. h., daß die Schichten für
magnetische Speichermedien verwendet werden können, sofern
die Zr-Konzentration im genannten Bereich ist.
Allgemein wird eine Aluminiumlegierungsscheibe, die mit
amorphem, 10,5 bis 12 Gew.-% P enthaltendem NiP mit einer
Dicke von 5 bis 30 µm beschichtet ist, als ein Scheibensubstrat
verwendet, um die Betriebslebensdauer der Scheibe
und auch ihre Oberflächenglätte und Biegsamkeit zu verbessern.
Das Substrat wird durch Wärmebehandlung bei 250 bis
300°C für etwa 3 h kristallisiert und magnetisiert, und
daher ist die Wärmebehandlung des Substrats eher unvorteilhaft.
Weiter sollte diese Wärmebehandlung zweckmäßig direkt vor
der Bildung einer Schutzschicht durchgeführt werden, um
die Reaktion zu unterdrücken, doch wird das Verfahren
dadurch kompliziert. Deshalb beträgt, um eine so hohe
Koerzitivkraft wie 39,8 kA/m ohne die Wärmebehandlung zu
erhalten, die Zr-Konzentration zweckmäßig nicht mehr als
15 At.-%, wie aus Fig. 10 ersichtlich ist. Um die Korrosionsbeständigkeit
zu steigern, ist die Zr-Konzentration
vorteilhaft nicht unter 2 At.-%. Um die Koerzitivkraft
durch den Zr-Zusatz zu erhöhen, ist die Zr-Konzentration
zweckmäßig 3 bis 12 At.-%, vorzugsweise 4 bis 11 At.-%, wie
aus Fig. 10 erkennbar ist. Um die Lese-und-Schreib-
Eigenschaften, wie z. B. das Überschreiben usw., zu verbessern,
ist es erforderlich, ein magnetisches Speichermedium
in einer Dünnschichtform herzustellen, und zu diesem Zweck
wurde gefunden, daß die Ni-Konzentration zweckmäßig nicht
mehr als 60 At.-% auf der Basis des Co sein sollte. Andererseits
ist es, um die Speicherdichte des Mediums zu
verbessern, erforderlich, die Koerzitivkraft des Mediums
zu steigern. Zu diesem Zweck ist die Ni-Konzentration
zweckmäßig 20 bis 50 At.-% und noch vorteilhafter 30 bis 48
At.-% auf der Basis des Co, wie Fig. 5 zeigt. Weiter ist es
zweckmäßig, eine Cr-Schicht, eine Substratoxidoberflächenschicht
oder wenigstens eine Si-, C- und/oder Ge-Schicht
als Zwischenschicht für Längs- bzw. Senkrechtmagnetspeicherungen
vorzusehen. Unter den Gesichtspunkten der magnetischen
Eigenschaften, wie z. B. Koerzitivkraft usw., und
des Produktionswirkungsgrades ist die Dicke der Cr-Zwischenschicht
vorzugsweise 10 bis 500 nm, die Dicke der
Substratoberflächenoxidschicht ist vorzugsweise 1 bis 40
nm, und die Dicke der wenigstens einen der Si-, C- und Ge-
Schichten ist vorzugsweise 2 bis 100 nm. Weiter lassen
sich die Verschleißfestigkeit und die Korrosionsbeständigkeit
weiter verbessern, indem man eine nichtmagnetische
Schutzschicht mit einer Dicke von wenigstens 10 nm auf der
dünnen Magnetschicht ausbildet. Jedoch wächst, wenn die
Dicke der nichtmagnetischen Schutzschicht 100 nm übersteigt,
der Abstandsverlust, und dies ist unter dem Gesichtspunkt
der Lese-und-Schreib-Eigenschaften nicht
vorteilhaft.
Als Ergebnis entsprechender Analyse durch Auger-Elektronenspektroskopie,
anodische Polarisationskurven usw. dünner
Magnetschichten aus:
(Co0,7Ni0,3)0,9Hf0,1, (Co0,8Ni0,2) 0,85Hf0,15,
(Co0,7Ni0,3)0,98(Hf0,9Zr0,1)0,02 und
(Co0,7Ni0,3)0,9(Hf0,02Zr0,98)0,1,
(Co0,7Ni0,3)0,98(Hf0,9Zr0,1)0,02 und
(Co0,7Ni0,3)0,9(Hf0,02Zr0,98)0,1,
die jeweils mit einer Dicke von 50 nm auf Glassubstraten
durch RF-Aufstäuben bei einer Substrattemperatur von
150°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar bei einem Strömungsdurchsatz
von 20 Standard-cm3/min mit einer Leistungsdichte von
7 W/cm2 gebildet wurden, fand man, daß jede der dünnen
Magnetschichten eine hohe Hf- oder Zr-Konzentration bis in
eine Tiefe von etwa 4 bis etwa 8 nm von der Oberfläche
aufwies und eine dichte Oberflächenoxidschicht gebildet
wurde. Hf oder Zr konzentrierte sich also vorwiegend an
der Oberfläche der dünnen Magnetschicht unter Bildung
einer dichten Passivierungsschicht, und dadurch war die
Korrosionsbeständigkeit der dünnen Magnetschicht erheblich
verbessert. Diese Wirkung wurde beobachtet, so oft die Hf-
oder Zr-Konzentration 0,1 At.-% oder mehr war. Andererseits
wurde die Sättigungsmagnetisierung des magnetischen Speichermediums
durch den Zusatz von Hf oder Hf und Zr verringert,
doch fand man, daß, so lange die Konzentration an Hf
oder Hf und Zr nicht mehr als 30 At.-% auf der Basis der
Summe von Co und Ni war, die Sättigungsmagnetisierung
derjenigen der Oxidmedien gleichwertig oder überlegen war
und kein praktisches Problem brachte. Jedoch ist es, um
die Lese-und-Schreib-Eigenschaften, wie z. B. das Überschreiben
usw., zu verbessern, erforderlich, eine magnetische
Speicherschicht in einer Dünnschichtform herzustellen,
und zu diesem Zweck wurde gefunden, daß die Ni-
Konzentration vorzugsweise 20 bis 40 At.-% auf der Basis
des Co war und daß die Konzentration an Hf oder Hf und Zr
0,1 bis 15 At.-% auf der Basis der Summe von Co und Ni war.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im einzelnen
anhand der Fig. 1 beschrieben.
Man erkennt ein Substrat 11, das aus einer Al-Legierung
oder dergl. besteht, nichtmagnetische Überzugsschichten 12
und 12′, die aus Ni-P, Ni-W-P oder dergl. bestehen, Zwischenschichten
13 und 13′, die aus Cr oder dergl. bestehen,
und dünne Magnetschichten 14 und 14′, die aus einer
Co-Ni-Zr-Legierung bestehen, wobei die Herstellung in der
folgenden Weise erfolgte:
Nichtmagnetische 12 Gew.-% P-Ni-Überzugsschichten 12 und
12′ wurden mit einer Dicke von 20 µm auf einem Al-Legierungssubstrat
11 von 130 nm Außendurchmesser, 40 mm Innendurchmesser
und 1,9 mm Dicke gebildet, und dann wurden
dünne Cr-Schichten 13 und 13′ darauf mit einer Dicke von
250 nm bei einer Substrattemperatur von 180°C in 6,5 · 10-3
mbar Ar mit einer RF-Leistungsdichte von 4 W/cm2 gebildet.
Dann wurden dünne Magnetschichten 14 und 14′ mit einer
Dicke von 60 nm aus Co0,7Ni0,3-Legierungstargets, die
jeweils 0,05, 0,1, 1, 10, 15, 20, 30, 40 bzw. 50 At.-%
wenigstens eines Elements der Gruppe Ti, Zr, V, Nb, Ta,
Cr, Mo, W, Ru, Rh, Pd und Pt als ein drittes Element
enthielten, unter den gleichen Bedingungen wie oben gebildet.
Fig. 2 zeigt Ergebnisse von 1 mol/l-NaCl-Sprühtests bei
40°C, wo die zeitlichen Änderungen in der Sättigungsmagnetisierung
von magnetischen Speicherscheiben, die 10
At.-% des dritten Elements auf der Basis der Summe von Co
und Ni enthielten, gezeigt sind, und die Kurve 21 zeigt
das Ergebnis einer magnetischen Speicherscheibe mit Verwendung
einer dünnen Co0,7Ni0,3-Magnetlegierungsschicht.
Man sieht daraus, daß sich die Korrosionsbeständigkeit der
Co-Ni-Legierungen durch den Zusatz von Ti, Pt, Ru, Ta, Rh,
V, Nb, Cr, Zr oder Pd verbessern läßt und daß besonders
der Zusatz von Zr oder Nb eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit
ohne viel Verschlechterung der Sättigungsmagnetisierung
ergeben kann. Im wesentlichen die gleiche
Wirkung konnte durch Zusatz von wenigstens 0,1 At.-% des
dritten Elements erhalten werden.
Dann wurden Cr-Zwischenschichten 13 und 13′ mit einer
Dicke von 150 nm auf einem Al-Legierungssubstrat von
220 mm Außendurchmesser und 1,9 mm Dicke mit nichtmagnetischen
11 Gew.-% P-Ni-Überzugsschichten 12 und 12′ einer
Dicke von 15 µm bei einer Substrattemperatur von 150°C in
13 · 10-3 mbar Ar mit einer Gleichstromleistungsdichte von
7 W/cm2 gebildet. Dann wurden dünne Magnetschichten 14 und
14′ mit einer Dicke von 50 nm darauf unter Verwendung von
Co0,75Ni0,25-Legierungstargets, die jeweils 8 At.-% Zr, Rh,
Nb, Pd, W oder V enthielten, unter den gleichen Bedingungen
gebildet.
Fig. 3 zeigt die zeitlichen Änderungen in der Sättigungsmagnetisierung,
wenn die so erhaltenen Scheiben in
eine wässerige 1 mol/l-NaCl-Lösung bei 40°C eingetaucht
wurden. Man fand, daß besonders ein Zusatz von Zr einen
beträchtlichen Anstieg der Korrosionsbeständigkeit ergab,
wo die dünne Magnetschicht vorwiegend polykristallin war.
Dieser Effekt konnte mit Zr als dem Hauptzusatz erhalten
werden, und die ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit
konnte auch mit Zr als dem dritten Element und Ti, Pt, Ru,
Ta, Rh, V, Nb, Cr oder Pd als einem vierten Element erhalten
werden. Und zwar wurde die Korrosionsbeständigkeit
dünner Magnetschichten, die durch Zusatz von 0,5 oder 1,0
At.-% Ru, 1, 2 oder 5 At.-% Ta, 1, 2, oder 5 At.-% Cr, 1, 2
oder 4 At.-% Ti, 2, 4 oder 6 At.-% Nb, 0,2, 0,5 oder 1,0
At.-% Rh, 0,2, 0,5 oder 1,0 At.-% Pt, 0,2, 0,5 oder 1,0
At.-% Pd, oder 2, 4 oder 6 At.-% V zu
(Co0,7Ni0,3)0,95Zr0,05, (Co0,6Ni0,4) 0,94Zr0,06 oder
(Co0,55Ni0,45)0,95Zr0,05 hergestellt wurden, durch Temperatur/
Feuchtigkeit-Tests in einer Kammer bei 60°C, 90%
relativer Feuchtigkeit und der Klasse 10 000 (d. h., daß die
Zahl von Staubteilchen mit Abmessungen von höchstens 0,5
µm in 0,028 m3 höchstens 10 000 war) ausgewertet. Der Zusatz
des vierten Elements konnte die Verringerung der Magnetisierung
jeder der dünnen Magnetschichten nach 2 Wochen auf
weniger als 5% unterdrücken und wurde somit als besonders
wirksam befunden. Es scheint, daß der Zusatz des vierten
Elements das Gefüge der Oberflächenoxidschicht fester
macht und die Beständigkeit gegenüber gleichmäßiger Korrosion
und Oxidation verbessert. Der vorstehend genannte
Effekt wurde beobachtet, sofern wenigstens 0,01 At.-%
wenigstens eines der vierten Elemente in der Magnetschicht
enthalten war. Falls über 15 At.-% des vierten Elements
darin enthalten waren, wurde die Sättigungsmagnetisierung
merklich verringert, was unerwünscht ist.
Im Fall der Bildung einer Cr-Zwischenschicht mit einer
Dicke von 200 nm und einer dünnen Magnetschicht einer
Dicke von 70 nm darauf unter Verwendung eines Legierungstargets
aus Co0,9Ni0,1, Co0,6Ni0,4, Co0,5Ni0,5,
Co0,4Ni0,6, Co0,3Ni0,7 oder Co0,62Ni0,3Cr0,08,deren jedes
15 At.-% Zr enthielt, wurde die gleiche Wirkung wie in den
vorigen beiden Ausführungsbeispielen durch den Zr-Zusatz
erhalten, und die Korrosionsbeständigkeit wurde durch den
Zusatz von wenigstens 0,1 At.-% Zr merklich verbessert,
doch wurden die Sättigungsmagnetisierung und die Koerzitivkraft
durch den Zusatz von mehr als 30 At.-% merklich
verschlechtert. Somit erkannte man den Zusatz von mehr als
30 At.-% Zr als praktisch unerwünscht. Man fand also, daß
höchstens 30 At.-% Zr zu bevorzugen sind.
Fig. 4 zeigt die Koerzitivkraft für die in Fig. 2 gezeigten
Magnetscheiben. Die Koerzitivkraft und die Koerzitivkraftrechteckigkeit
sind über 47,8 kA/m bzw. über 0,8 mit
Ausnahme der Pd enthaltenden Magnetscheibe, und alle Magnetscheiben
mit Ausnahme der Pd enthaltenden haben ausgezeichnete
Lese-und-Schreib-Eigenschaften.
In Fig. 5 ist die Beziehung zwischen der Koerzitivkraft
und der Konzentration an Ni auf der Basis des Co in dem
Fall gezeigt, wo eine dünne Magnetschicht aus Co und Ni,
die 12 At.-% Zr enthielt, mit einer Dicke von 60 nm auf
einer Cr-Zwischenschicht einer Dicke von 100 nm durch
Gleichstrom-Magnetron-Aufstäubung in 9,1 · 10-3 mbar Ar mit
einer Leistungsdichte von 8 W/cm2 gebildet wurde. Wenn die
Ni-Konzentration auf der Basis des Co 10 bis 60 At.-% ist,
läßt sich eine innerebenige Koerzitivkraft von mehr als
etwa 43,8 kA/m, wie sie für die Hochdichte-Speicherung
erforderlich ist, erhalten. Wenn die Ni-Konzentration 20
bis 50 At.-% ist, läßt sich eine viel höhere Speicherdichte
erhalten. Tatsächlich konnte eine höhere Speicherdichte
als 20 KFCI (= 103 Magnetisierungsumkehrungen je
25,4 mm) mit einem Mn-Zn-Ferritringkopf mit einer Spaltlänge
von 0,4 µm bei einer Flughöhe von 0,25 µm erhalten
werden. Weiter kann nach Fig. 5 eine höhere Koerzitivkraft
als 51,7 kA/m bei einer Ni-Konzentration von 20 bis 50
At.-% auf der Basis des Co erhalten werden, und eine noch
höhere Koerzitivkraft als 59,7 kA/m kann bei einer Ni-
Konzentration von 30 bis 48 At.-% erhalten werden, und
daher sind diese Ni-Konzentrationsbereiche unter dem Gesichtspunkt
der Lese-und-Schreib-Eigenschaften sehr erwünscht.
Beispielsweise wurde 11,5 Gew.-% P-Ni mit einer Dicke von
20 µm auf einem Al-Legierungssubstrat 11 von 130 mm
Durchmesser und 1,9 mm Dicke abgeschieden, und dann wurden
die Scheibenoberflächen mit einem Al2O3- oder Diamantschleifmittel
poliert und geglänzt, um eine gleichmäßige
umfängliche Textur mit einer Oberflächenrauhigkeit von 6
nm (Ra) zu erhalten. Auf den so erhaltenen nichtmagnetischen
Überzugsschichten 12 und 12′ mit einer verringerten
Dicke von 15 µm wurden Cr-Zwischensichten 13 und 13′ mit
einer Dicke von 300 nm bei einer Substrattemperatur von
200°C in 19,5 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsdichte von
1 W/cm2 gebildet. Dann wurden dünne Magnetschichten 14 und
14′ aus (Co1-x Ni x )0,955Zr0,045(x = 0,2, 0,25, 0,3, 0,37,
0,40, 0,45, 0,48 oder 0,50) mit einer Dicke von 60 nm auf
den Cr-Zwischenschichten 13 und 13′ unter den gleichen
Bedingungen wie oben gebildet, dann wurden nichtmagnetische
C-Überzugsschichten mit einer Dicke von 45 nm darauf
in 3,9 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsichte von 8 W/cm2
gebildet, und schließlich wurden flüssige Schmierschichten
aus Perfluoralkylpolyether darauf mit einer Dicke von 4 nm
gebildet, um eine Magnetscheibe herzustellen. Dann wurden
die Lese-und-Schreib-Eigenschaften der Magnetscheibe mit
einem Dünnschichtmagnetkopf mit einer Spaltlänge von
0,4 µm ausgewertet. Man fand, wie Fig. 11 zeigt, daß bei
einer Ni-Konzentration von 30 bis 48 At.-% auf der Basis
des Co ein besonders hohes Rauschabstandsverhältnis (S/N)
erhalten wurde. Es wurden also ausgezeichnete Lese-und-
Schreib-Eigenschaften erhalten.
Wenn die dünnen Magnetschichten direkt auf den NiP-Überzugsschichten
im vorigen Ausführungsbeispiel gebildet
wurden, erhielt man eine innerebenige Koerzitivkraft von
nur etwa 3,98 kA/m, während eine praktisch befriedigende
innerebenige Koerzitivkraft durch Bilden der dünnen Magnetschichten
über den Cr-Zwischenschichten mit einer
Dicke von 10 nm oder mehr erhalten werden konnte. Jedoch
konnte man, auch wenn Cr-Zwischenschichten mit einer Dicke
von mehr als 500 nm gebildet wurden, keinen stärkeren
Effekt auf die Koerzitivkraft als den erhalten, der über
Cr-Zwischenschichten mit einer Dicke von nicht mehr als
500 nm erhalten wurde. Unter dem Gesichtspunkt des Produktionswirkungsgrades
ist daher die Dicke der Cr-Zwischenschicht
nicht mehr als 500 nm, vorzugsweise nicht
mehr als 300 nm.
Wenn C-Zwischenschichten 13 und 13′ mit einer Dicke von
10 nm auf Ni-W-P-Überzugsschichten 12 und 12′ mit einer
Dicke von 25 µm auf einem Al-Legierungssubstrat 11 bei
einer Substrattemperatur von 100°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar
mit einer Leistungsdichte von 4 W/cm2 gebildet wurden und
dünne Magnetschichten 14 und 14′ aus (Co0,6Ni0,4) 0,8Zr0,2
darauf mit einer Dicke von 0,2 µm unter den gleichen
Bedingungen wie oben gebildet wurden, konnte eine Magnetspeicherscheibe
mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit
und ausgezeichneten senkrechten Speichereigenschaften
erhalten werden. Gleichartige Ergebnisse konnten mit Si-
Zwischenschichten einer Dicke von 20 nm und Ge-Zwischenschichten
einer Dicke von 5 nm erhalten werden. Weiter
wurde die Wirkung der Zwischenschichten beobachtet, so oft
die Zwischenschicht eine Dicke von 2 nm oder mehr hatte,
doch praktisch wurde die Dicke von nicht mehr als 100 nm
als ausreichend gefunden.
In Fig. 6 ist ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung
als das in Fig. 1 gezeigte dargestellt, das aus einem
Substrat 61, das aus einer Al-Legierung oder dergl. besteht,
nichtmagnetischen Überzugsschichten 62 und 62′ und
aus Co-Ni-Zr bestehenden dünnen Magnetschichten 63 und 63′
zusammengesetzt ist.
Ein Al-Legierungssubstrat 61 von 90 nm Außendurchmesser
mit nichtmagnetischen 11,5 Gew.-% Pt-Ni-Überzugsschichten
62 und 62′ mit einer Dicke von 15 µm auf den Oberflächen
des Substrats wurde einem reaktiven Zerstäubungsätzen bei
einer Substrattemperatur von 100°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar
mit einem O2-Gehalt von 20 Vol.-% mit einer Leistungsdichte
von 0,4 W/cm2 unterworfen, um Oberflächenoxidschichten
bis zu einer Tiefe von 3 nm auf beiden Oberflächen
zu bilden, und dann wurden dünne Magnetschichten
63 und 63′ mit einer Dicke von 60 nm mit einem 5, 10 oder
15 At.-% Zr enthaltenden Co-Ni-Legierungstarget bei einer
Substrattemperatur von 150°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar mit
einer Leistungsdichte von 6 W/cm2 gebildet.
In Fig. 7 ist die Beziehung zwischen der Sättigungsmagnetflußdichte
einer dünnen Magnetschicht, die 10 At.-% Zr auf
der Basis der Summe von Co und Ni enthält, und der Konzentration
des Ni auf der Basis des Co gezeigt. Es ist daraus
erkennbar, daß sich eine praktisch befriedigende Sättigungsmagnetflußdichte
bei einer Ni-Konzentration von nicht
mehr als 50 At.-% erhalten läßt. Eine innerebenige Koerzitivkraft
des gleichen Niveaus wie des in Fig. 5 gezeigten
konnte erhalten werden, und es konnten auch ausgezeichnete
Lese-und-Schreib-Eigenschaften wie die der in Fig. 1
gezeigten Magnetspeicherscheiben erhalten werden. Man
fand, daß die Korrosionsbeständigkeit der der in der Fig.
1 gezeigten Magnetspeicherscheibe etwas unterlegen war,
jedoch auf dem praktischen Niveau kein Problem brachte.
Wenn die dünnen Magnetschichten über Cr-Zwischenschichten,
wie sie in Fig. 1 gezeigt sind, auf den durch das reaktive
Zerstäubungsätzen der NiP-Überzugsschichten erhaltenen
Oxidschichten gebildet wurden, konnten die ausgezeichnetsten
Lese-und-Schreib-Eigenschaften erhalten werden.
In einem anderen Ausführungsbeispiel als dem vorstehenden
Ausführungsbeispiel wurden dünne Magnetschichten in O2
enthaltendem Ar zur Bildung von Magnetspeicherscheiben mit
dünnen Magnetschichten gebildet, die eine Sauerstoffkonzentration
von 0,1 bis 15 At.-% aufwiesen. In Fig. 12 sind
typische Beispiele der Zusammensetzungsverteilung mit der
Tiefe (Auger-Tiefenprofil) von Magnetspeicherscheiben gemäß
der Erfindung gezeigt. In diesem Ausführungsbeispiel
wurden keine anderen Elemente, wie z. B. Stickstoff usw.,
beobachtet, und, obwohl es Nachteile gab, indem die Sättigungsmagnetisierung
verringert war und die Korrosionsbeständigkeit
etwas verschlechtert war, konnten die Magnetspeicherscheiben
ohne irgendein praktisches Problem
erhalten werden.
Beispielsweise wurde 11 Gew.-% P-Ni auf den Oberflächen
eines Al-Legierungssubstrats 11 von 130 mm Außendurchmesser,
das mit einem Al2O3- oder Diamantschleifmittel poliert
und geglättet war, um eine gleichmäßige umfängliche
Textur mit einer Oberflächenrauhigkeit von 7 nm zu erhalten,
abgeschieden, wodurch nichtmagnetische Überzugsschichten
12 und 12′ mit einer Dicke von 10 µm auf den
Oberflächen des Substrats 11 erhalten wurden. Dann wurden
dünne Magnetschichten 14 und 14′ aus (Co0,7Ni0,3)0,95
Zr0,05, (Co0,7Ni0,3)0,94Zr0,06, (Co0,65Ni0,35)-0,94Zr0,06,
(Co0,60Ni0,40)0,94Zr0,06, (Co0,7Ni0,3)0,945Zr-0,05Ru0,005,
(Co0,6Ni0,4)0,91Zr0,05Ta0,04 oder (Co0,7Ni0,3)0,9Zr0,05
Mo0,05, die jeweils 0, 5, 7, 10 oder 15 At.-% Sauerstoff
enthielten, mit einer Dicke von 60 nm darauf über Cr-
Zwischenschichten 13 und 13′ mit einer Dicke von je 250 nm
gebildet. Dann wurden Schutzschichten aus C, B4C oder SiO2
mit einer Dicke von 40 nm auf der Oberfläche der dünnen
Magnetschichten gebildet, und weiter wurden flüssige
Schmiermittelschichten aus Perfluoralkylpolyether mit
einer Dicke von 5 nm auf den Oberflächen der Schutzschichten
gebildet, wodurch Magnetspeicherscheiben hergestellt
wurden.
Dann wurden die Lese-und-Schreib-Eigenschaften der so
erhaltenen Magnetspeicherscheiben mit einem Dünnschichtmagnetkopf
mit einer Spaltlänge von 0,7 µm bei einer
Relativgeschwindigkeit von 13,5 m/s und einer Flughöhe von
0,22 µm ausgewertet. Man fand, daß sich das Ausgangssignal
mit steigender Sauerstoffkonzentration verringerte und das
Rauschen des Mediums stärker als das Ausgangssignal sank,
während der Rauschabstand (S/N) des Mediums im Gegensatz
dazu mit steigender Sauerstoffkonzentration stieg. Dies
ist darauf zurückzuführen, daß sich der Sauerstoff vorwiegend
mit Zr an den Korngrenzen verbindet, so daß die
magnetische Wechselwirkung zwischen den Körnern verringert,
und daß der Übergangsbereich zwischen den gespeicherten
Bits mit steigender Sauerstoffkonzentration verengt
wird. Bei einer Sauerstoffkonzentration von mehr als
15 At.-% verringerte sich das Ausgangssignal erheblich,
und der gesamte Rauschabstand (S/N) verringerte sich eher
bezüglich des Kopf-Medium-Systems, und daher war eine
Sauerstoffkonzentration von mehr als 15 At.-% nicht vorteilhaft.
Magnetische Speichermedien mit C-Schichten, die mit einer
Dicke von 50 nm auf den Oberflächen einer Magnetspeicherscheibe
gemäß dem in Fig. 1 oder Fig. 6 dargestellten
Ausführungsbeispiel der Erfindung durch Gleichstrom-Magnetron-
Aufstäuben bei einer Substrattemperatur von 150°C in
6,5 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsdichte von 8 W/cm2
gebildet wurden, zeigten keine Änderung durch Oxidation
sogar nach mehr als 8 h in dem in Fig. 3 gezeigten Korrosionstest,
und man fand, daß die Korrosionsbeständigkeit
erheblich gesteigert war. Weiter fand man, daß die Betriebslebensdauer
101- bis 105-mal höher als die der Magnetspeicherscheibe
ohne die C-Schichten war, und daher
erwies sich das Vorsehen der C-Schichten auch bezüglich
der Betriebslebensdauer als vorteilhaft. Die vorstehenden
Wirkungen wurden beobachtet, sofern die Dicke der
Schutzschicht 10 nm oder mehr war, doch verschlechterten
sich die Lese-und-Schreib-Eigenschaften erheblich bei
einer Dicke von mehr als 100 nm. Daher war eine Dicke der
Schutzschicht von mehr als 100 nm praktisch unzweckmäßig.
Gleichartige Wirkungen wurden beobachtet, wenn
Schutzschichten aus B, NB oder SiC gebildet wurden oder
wenn die Oberflächen der dünnen Magnetschichten oxidiert
wurden. Durch Vorsehen organischer Schmierstoffschichten
auf den Schutzschichten wurde die Betriebslebensdauer
zusätzlich 2- oder 3-mal gesteigert.
In Fig. 8 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel gezeigt,
und man erkennt ein Al-Substrat 81, dessen Oberflächen
einer Alumilitbehandlung unterworfen wurden, oder ein
organisches Substrat aus Polyimid, Polyethylen oder
dergl., die gleichen Zwischenschichten 82 und 82′ wie die
in Fig. 1 gezeigten, dünne Magnetschichten 83 und 83′ aus
Co-Ni-Zr und die gleichen nichtmagnetischen Schutzschichten
84 und 84′, wie oben beschrieben. Ihre Zusammensetzungen,
die Dicke der Schichten und die Verfahren zur
Bildung der Schichten sind die gleichen wie die oben
beschriebenen.
In den vorstehenden Ausführungsbeispielen wurden harte
Magnetscheibenmedien und externe Scheibenmedien als Beispiele
beschrieben, doch erhält man die bisher beschriebenen
Wirkungen der Erfindung nicht nur in Fällen dieser
Medien, sondern auch in Fällen von Magnetbandmedien usw.
Außerdem können die Schichten nicht nur durch Aufstäuben,
sondern auch durch Aufdampfen, Ionenstrahl-Aufstäuben usw.
gebildet werden.
Weitere Ausführungsbeispiele von Hf enthaltenden dünnen
Magnetschichten werden nun im einzelnen beschrieben.
Dünne Magnetschichten wurden mit einer Dicke von 60 nm
unter den gleichen Bedingungen wie die dem in Fig. 2
gezeigten Test unterworfenen Proben unter Verwendung von
Co0,7Ni0,3-Legierungstargets gebildet, die 0,05, 0,1, 1,
5, 10, 15, 20 oder 25 At.-% Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W,
Ru, Rh, Pd, Pt oder Hf enthielten.
Fig. 13 zeigt zeitliche Änderungen in der Sättigungsmagnetisierung
von Magnetscheiben, die 10 At.-% eines dritten
Elements auf der Basis der Summe von Co und Ni enthalten,
gemäß Sprühtests unter Verwendung einer wässerigen
1 mol/l-NaCl-Lösung bei 40°C. Die Kurve 131 entspricht
den Ergebnissen von Magnetscheiben unter Verwendung von
dünnen Magnetschichten aus Co0,7Ni0,3-Legierung, und man
sieht daraus, daß die Sättigungsmagnetisierung nicht verschlechtert
wird und eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit
durch den Zusatz von Hf, Zr oder Nb erhältlich
ist. Es wurde gefunden, daß dieser Effekt wesentlich erhalten
werden konnte, so lange die Konzentration an Hf, Zr
oder Nb 0,1 At.-% oder höher war.
Nichtmagnetische Ni-11 Gew.-% P-Überzugsschichten 12 und
12′ mit einer Dicke von 15 µm wurden auf den Oberflächen
eines Al-Legierungssubstrats von 220 mm Außendurchmesser
und 1,9 mm Dicke gebildet, und dann wurden darauf Cr-
Zwischenschichten einer Dicke von 150 nm bei einer
Substrattemperatur von 150°C in 13 · 10-3 mbar Ar bei einem
Gasströmungsdurchsatz von 20 Standard-cm3/min und einer
Gleichstromleistungsdichte von 7 W/cm2 gebildet, und weiter
wurden dünne Magnetschichten darauf mit einer Dicke
von 50 nm unter Verwendung eines Co0,75Ni0,25-Legierungstargets,
das 8 At.-% Hf, Zr, Rh, Nb, Pd, W oder V
enthielt, unter den gleichen Bedingungen wie oben gebildet.
Fig. 14 zeigt zeitliche Änderungen in der Sättigungsmagnetisierung,
wenn die so hergestellte Magnetspeicherscheibe
in eine wässerige 1 mol/l-NaCl-Lösung getaucht wurde.
Besonders wenn Hf oder Zr darin enthalten war, zeigte sich
eine erheblich verbesserte Korrosionsbeständigkeit, und
jede der dünnen Magnetschichten war in diesem Fall vorherrschend
polykristallin.
Im Fall der Bildung von Cr-Zwischenschichten mit einer
Dicke von 200 nm und dünnen Magnetschichten mit einer
Dicke von 70 nm unter Verwendung eines Legierungstargets
aus Co0,9Ni0,1, Co0,6Ni0,4, Co0,4Ni0,6 oder Co0,62
Ni0,3Cr0,08 mit jeweils einem Gehalt von 9 At.-% Hf wurden
die gleichen Wirkungen wie in den vorstehenden beiden
Ausführungsbeispielen durch den Zusatz von Hf beobachtet,
und die Korrosionsbeständigkeit wurde durch den Zusatz von
wenigstens 0,1 At.-% Hf beträchtlich erhöht. Jedoch wurden
die Koerzitivkraft und die Sättigungsmagnetisierung durch
den Zusatz von mehr als 30 At.-% Hf merklich verschlechtert,
und daher war ein solcher Zusatz von mehr als 30
At.-% Hf praktisch ungünstig. Weiter wurde gefunden, daß
man noch bevorzugter nicht mehr als 15 At.-% Hf zusetzen
soll.
Fig. 15 zeigt die innerebenige Koerzitivkraft für die in
Fig. 13 gezeigten Magnetscheiben, wo die innerebenige
Koerzitivkraft mehr als 47,8 kA/m ist und ausgezeichnete
Lese-und-Schreib-Eigenschaften in allen Magnetscheiben
mit Ausnahme der Pd enthaltenden erreicht werden. Eine
hohe innerebenige Koerzitivkraftrechteckigkeit wurde in
der Hf, Zr oder Nb enthaltenden Magnetscheibe erhalten,
und sie war 0,94 für die Hf enthaltende Scheibe, 0,94 für
die Zr enthaltende Scheibe und 0,93 für die Nb enthaltende
Scheibe. Die innerebenige Koerzitivkraftrechteckigkeit der
Ta, Cr, Ru, Rh oder Pt enthaltenden Magnetscheibe war etwa
0,92, und die der Ti, V, Mo oder W enthaltenden Scheibe
war etwa 0,90. Diese Niveaus waren praktisch problemlos.
Andererseits hatte die Pd enthaltende Magnetscheibe eine
recht niedrige innerebenige Koerzitivkraftrechteckigkeit
wie etwa 0,45 und war daher als Speichermedium nicht
geeignet.
Fig. 16 zeigt die Beziehung zwischen der innerebenigen
Koerzitivkraft und der Konzentration von Ni auf der Basis
des Co, wenn dünne Magnetschichten aus Co-Ni mit einem
Gehalt von 20 At.-% Hf mit einer Dicke von 60 nm auf Cr-
Zwischenschichten mit einer Dicke von 100 nm durch Gleichstrom-
Magnetron-Aufstäubung in 9,1 · 10-3 mbar Ar mit einer
Leistungsdichte von 8 W/cm2 gebildet wurden, wobei eine
innerebenige Koerzitivkraft von mehr als etwa 43,8 kA/m,
wie sie für eine hohe Speicherdichte benötigt wird, im
Fall einer Ni-Konzentration von 10 bis 60 At.-% auf der
Basis des Co erhalten werden kann. Eine weit höhere Speicherdichte
läßt sich bei einer Ni-Konzentration von 20 bis
50 At.-% auf der Basis des Co und einer Hf-Konzentration
von 2 bis 10 At.-% auf der Basis der Summe von Co und Ni
erhalten. Der gleiche Effekt wurde mit dünnen Magnetschichten
beobachtet, die Zr anstelle von Hf enthielten.
Tatsächlich konnte eine höhere Speicherdichte als 20%
Magnetisierungsumkehrungen je 25,4 mm mit einem Mn-Zn-
Ferritkopf mit einer Spaltlänge von 0,4 µm bei einer
Flughöhe von 0,28 µm erhalten werden.
Wenn die dünnen Magnetschichten direkt auf den Ni-P-
Abscheideschichten auf dem Substrat in den vorstehenden
Ausführungsbeispielen gebildet wurden, erhielt man eine
Koerzitivkraft von nur etwa 3,98 kA/m, doch konnte eine
praktisch ausreichende Koerzitivkraft erhalten werden,
indem man die dünnen Magnetschichten auf Cr-Zwischenschichten
mit einer Dicke von wenigstens 10 nm bildete.
Jedoch wurde, auch wenn Cr-Zwischenschichten mit einer
Dicke von mehr als 500 nm gebildet wurden, keine weitere
Wirkung bezüglich des Anstiegs der Koerzitivkraft erhalten,
als wenn Cr-Zwischenschichten mit einer Dicke von
höchstens 500 nm gebildet wurden. Daher ist die Dicke der
Cr-Zwischenschichten zweckmäßig nicht über 500 nm, vorteilhaft
nicht über 300 nm, wenn man den Produktionswirkungsgrad
berücksichtigt.
Wenn C-Zwischenschichten 13 und 13′ mit einer Dicke von
1 nm auf Ni-W-P-Überzugsschichten 12 und 12′ auf einem
Aluminiumlegierungssubstrat 11 bei einer Substrattemperatur
von 100°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsdichte
von 4 W/cm2 gebildet wurden und dann dünne
Magnetschichten aus (Co0,6Ni0,4)0,91Hf0,09 14 und 14′ mit
einer Dicke von 0,2 µm darauf gebildet wurden, konnte ein
Magnetspeichermedium mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit
und ausgezeichneten senkrechten Magnetspeichereigenschaften
erhalten werden. Die gleichen Ergebnisse wie
oben können mit Si-Zwischenschichten einer Dicke von 5 nm
oder Ge-Zwischenschichten einer Dicke von 9 nm erhalten
werden. Die Wirkung der Zwischenschichten wurde beobachtet,
als die Dicke der Zwischenschichten wenigstens 0,5 nm
war. Jedoch war eine Dicke von höchstens 10 nm praktisch
ausreichend.
Magnetspeicherscheiben des in Fig. 6 gezeigten Aufbaus
wurden in der gleichen wie der schon oben beschriebenen
Weise mit der Ausnahme hergestellt, daß sowohl Zr als auch
Hf in den dünnen Magnetschichten enthalten waren. Und zwar
wurden dünne Magnetschichten mit einer Dicke von 60 nm
mittels eines Co-Ni-Legierungstargets gebildet, das 4 At.-%
Zr und 5, 10 oder 15 At.-% Hf enthielt.
Fig. 17 zeigt die Beziehung zwischen der Sättigungsmagnetflußdichte
einer 5 At.-% Hf und 4,0 At.-% Zr auf der Basis
der Summe von Co und Ni enthaltenden dünnen Magnetschicht
und der Ni-Konzentration auf der Basis des Co. Es ist
daraus ersichtlich, daß man eine praktisch ausreichende
Sättigungsmagnetflußdichte bei einer Ni-Konzentration von
höchstens 50 At.-% erhalten kann. Eine innerebenige Koerzitivkraft
auf dem gleichen Niveau wie dem in Fig. 16
gezeigten konnte erhalten werden, und es konnten auch
ausgezeichnete Lese-und-Schreib-Eigenschaften wie die der
in Fig. 1 gezeigten Magnetspeicherscheibe erhalten werden.
Man fand, daß die Korrosionsbeständigkeit der der in Fig.
1 gezeigten Magnetspeicherscheibe etwas unterlegen war,
sich jedoch in der Praxis kein Problem ergab.
In einem anderen Ausführungsbeispiel als dem vorstehenden
wurden dünne Magnetschichten in O2 enthaltendem Ar zur
Bildung von Magnetspeicherscheiben mit dünnen Magnetschichten
mit einer Sauerstoffkonzentration von 0,1 bis 15
At.-% gebildet. Obwohl es solche Nachteile gab, daß die
Sättigungsmagnetisierung verringert war und die Korrosionsbeständigkeit
etwas schlechter war, konnten die Magnetspeicherscheiben
ohne irgendein praktisches Problem
erhalten werden.
Magnetische Speichermedien mit C-Schutzschichten, die mit
einer Dicke von 40 nm auf den Oberflächen einer Magnetspeicherscheibe
nach dem in Fig. 1 oder Fig. 6 dargestellten
Ausführungsbeispiel der Erfindung durch Gleichstrom-
Magnetron-Aufstäuben bei einer Substrattemperatur von
150°C in 6,5 · 10-3 mbar Ar mit einer Leistungsdichte von
8 W/cm2 gebildet wurden, zeigten sogar nach mehr als 8 h in
dem in Fig. 14 gezeigten Korrosionstest keine Änderung in
der Magnetisierung, und man fand, daß die Korrosionsbeständigkeit
beträchtlich verbessert war. Weiter wurde
gefunden, daß die Betriebslebensdauer 101- bis 104-mal
höher als die der Magnetspeicherscheibe ohne die C-
Schutzschichten war, und somit war die Vorsehung der C-
Schutzschichten auch hinsichtlich der Betriebslebensdauer
vorzuziehen. Die vorstehenden Effekte wurden beobachtet,
so lange die Dicke der Schutzschicht 10 nm oder mehr war,
doch wurden die Lese-und-Schreib-Eigenschaften im Fall
einer Dicke von mehr als 100 nm merklich verschlechtert.
Daher war eine Dicke der Schutzschicht von mehr als 100 nm
praktisch unzweckmäßig. Gleichartige Effekte waren zu
beobachten, wenn Schutzschichten aus B, B-15 At.-% C oder
SiC gebildet wurden oder wenn die Oberflächen der dünnen
Magnetschichten oxidiert wurden. Durch Vorsehen von organischen
Schmierstoffschichten auf den Schutzschichten
wurde die Betriebslebensdauer weiter 2- oder 3-mal gesteigert.
Claims (26)
1. Magnetisches Speichermedium, das ein nichtmagnetisches
Substrat und eine darauf gebildete dünne Magnetschicht
aufweist, die hauptsächlich aus Co und Ni besteht,
dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Magnetschicht (14, 14′; 63, 63′; 83, 83′)
0,1 bis 30 At.-% Zr, bezogen auf die Summe von Co und
Ni, enthält.
2. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß Zr vorwiegend nahe der Oberfläche der dünnen Magnetschicht
(14, 14′; 63, 63′; 83, 83′) vorliegt.
3. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Zr-Konzentration 2 bis 20 At.-%, bezogen auf
die Summe von Co und Ni, ist.
4. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Ni-Konzentration 10 bis 60 At.-% auf der Basis
des Co ist.
5. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Ni-Konzentration 20 bis 50 At.-% auf der Basis
des Co ist und die Zr-Konzentration 2 bis 20 At.-% auf
der Basis der Summe von Co und Ni ist.
6. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Magnetschicht (14, 14′; 63, 63′; 83, 83′)
insgesamt 0,01 bis 5 At.-% wenigstens eines von Ti, Pt,
Ru, Ta, Rh, V, Nb, Cr und Pd zusätzlich zu Co, Ni und
Zr enthält.
7. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß 0,1 bis 15 At.-% Sauerstoff in der dünnen Magnetschicht
(63, 63′) enthalten sind.
8. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Cr-Zwischenschicht (13, 13′; 82, 82′) einer
Dicke von 10 bis 500 nm zwischen dem nichtmagnetischen
Substrat (11; 81) und der dünnen Magnetschicht (14,
14′; 83, 83′) vorgesehen ist.
9. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das nichtmagnetische Substrat (11) eine nichtmagnetische
Metallplatte ist, deren Oberfläche bis zu einer
Tiefe von 1 bis 40 nm oxidiert ist.
10. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Magnetschicht (14, 14′; 83, 83′) ein
senkrecht magnetisches Speichermedium ist und wenigstens
eine Si-, C- oder Ge-Zwischenschicht (13, 13′;
82, 82′) einer Dicke von 2 bis 100 nm zwischen dem
nichtmagnetischen Substrat (11; 81) und der dünnen
Magnetschicht (14, 14′; 83, 83′) vorgesehen ist.
11. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine nichtmagnetische Schutzschicht (84, 84′)
einer Dicke von 10 bis 100 nm auf der Oberfläche der
dünnen Magnetschicht (83, 83′) gebildet ist.
12. Speichermedium nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das nichtmagnetische Substrat (11; 61; 81) eine
mit NiP oder NiWP beschichtete Aluminiumlegierung ist.
13. Magnetisches Speichermedium, das ein nichtmagnetisches
Substrat und eine darauf gebildete dünne Magnetschicht
aufweist, die hauptsächlich aus Co und Ni besteht,
dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Magnetschicht (14, 14′; 63, 63′; 83,
83′) 0,1 bis 30 At.-% Hf, bezogen auf die Summe von Co
und Ni, enthält.
14. Speichermedium nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Ni-Konzentration 10 bis 60 At.-% auf der Basis
des Co ist.
15. Speichermedium nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Cr-Zwischenschicht (13, 13′; 82, 82′) einer
Dicke von 10 bis 500 nm zwischen dem nichtmagnetischen
Substrat (11; 81) und der dünnen Magnetschicht
(14, 14′; 83, 83′) vorgesehen ist.
16. Speichermedium nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß das nichtmagnetische Substrat (11) ein nichtmagnetisches
Metallsubstrat ist, dessen Oberfläche bis zu
einer Tiefe von 1 bis 40 nm oxidiert ist.
17. Speichermedium nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens eine Si-, C- oder Ge-Zwischenschicht
(13, 13′; 82, 82′) einer Dicke von 0,5 bis 10 nm zwischen
dem nichtmagnetischen Substrat (11; 81) und der
dünnen Magnetschicht (14, 14′; 83, 83′) vorgesehen
ist.
18. Speichermedium nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine nichtmagnetische Schutzschicht (84, 84′)
einer Dicke von 10 bis 100 nm auf der Oberfläche der
dünnen Magnetschicht (83, 83′) gebildet ist.
19. Magnetisches Speichermedium, das ein nichtmagnetisches
Substrat und eine darauf gebildete dünne Magnetschicht
aufweist, die hauptsächlich aus Co und
Ni besteht,
dadurch gekennzeichnet,
daß die dünne Magnetschicht (14, 14′; 63, 63′; 83,
83′) 0,1 bis 30 At.-% Hf und Zr auf der Basis der
Summe von Co und Ni enthält.
20. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Hf-Konzentration 2 bis 3 Gew.-% auf der Basis
des Zr ist.
21. Speichermedium nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Ni-Konzentration 10 bis 60 At.-% auf der Basis
des Co ist.
22. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Ni-Konzentration 20 bis 50 At.-% auf der Basis
des Co ist und die Konzentration von Hf und Zr 0,1
bis 15 At.-% auf der Basis der Summe von Co und Ni
ist.
23. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Cr-Zwischenschicht (13, 13′; 82, 82′) einer
Dicke von 10 bis 500 nm zwischen dee nichtmagnetischen
Substrat (11; 81) und der dünnen Magnetschicht
(14, 14′; 83, 83′) vorgesehen ist.
24. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß das nichtmagnetische Substrat (11) ein nichtmagnetisches
Metallsubstrat ist, dessen Oberfläche bis zu
einer Tiefe von 1 bis 40 nm oxidiert ist.
25. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens eine Si-, C- oder Ge-Zwischenschicht
(13, 13′; 82, 82′) einer Dicke von 0,5 bis 10 nm zwischen
dem nichtmagnetischen Substrat (11; 81) und der
dünnen Magnetschicht (14, 14′; 83, 83′) vorgesehen
ist.
26. Speichermedium nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine nichtmagnetische Schutzschicht (84, 84′)
einer Dicke von 10 bis 100 nm auf der Oberfläche der
dünnen Magnetschicht (83, 83′) gebildet ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61068329A JPS62226414A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | 磁気記録媒体 |
JP6832786 | 1986-03-28 | ||
JP61306421A JP2515771B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-12-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3710024A1 true DE3710024A1 (de) | 1987-10-22 |
DE3710024C2 DE3710024C2 (de) | 1990-12-20 |
Family
ID=27299706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873710024 Granted DE3710024A1 (de) | 1986-03-28 | 1987-03-27 | Magnetisches speichermedium |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4786553A (de) |
DE (1) | DE3710024A1 (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2791015B2 (ja) * | 1986-12-24 | 1998-08-27 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
US4939045A (en) * | 1987-03-23 | 1990-07-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2728498B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1998-03-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
DE69007261D1 (de) * | 1989-12-27 | 1994-04-14 | Mitsubishi Chem Ind | Langgestreckter magnetischer Aufzeichnungsträger. |
US5614329A (en) * | 1991-03-05 | 1997-03-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft-magnetic thin film |
JPH0653039A (ja) * | 1992-08-03 | 1994-02-25 | Hitachi Ltd | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド |
US5631094A (en) * | 1994-01-28 | 1997-05-20 | Komag, Incorporated | Magnetic alloy for improved corrosion resistance and magnetic performance |
US6797188B1 (en) | 1997-11-12 | 2004-09-28 | Meihua Shen | Self-cleaning process for etching silicon-containing material |
US20060063025A1 (en) * | 2004-04-07 | 2006-03-23 | Jing-Yi Huang | Method and system for making thin metal films |
KR100813261B1 (ko) * | 2006-07-13 | 2008-03-13 | 삼성전자주식회사 | 자구벽 이동을 이용한 반도체 장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3415794A1 (de) * | 1983-04-30 | 1984-10-31 | Tdk Corp., Tokio/Tokyo | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu seiner herstellung |
DE3426178A1 (de) * | 1983-07-16 | 1985-01-31 | Alps Electric Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
EP0140513A1 (de) * | 1983-08-24 | 1985-05-08 | International Business Machines Corporation | Magnetische Dünnfilmaufzeichnungsstruktur |
JPS6139919A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56137602A (en) * | 1980-03-29 | 1981-10-27 | Tdk Corp | Magnetic recording body |
JPS5974606A (ja) * | 1982-10-21 | 1984-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS59116925A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-06 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
US4599280A (en) * | 1983-04-25 | 1986-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
US4567116A (en) * | 1983-08-06 | 1986-01-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium |
JPS6035327A (ja) * | 1983-08-06 | 1985-02-23 | Canon Inc | 磁気記録媒体 |
US4610911A (en) * | 1983-11-03 | 1986-09-09 | Hewlett-Packard Company | Thin film magnetic recording media |
JPS60101710A (ja) * | 1983-11-05 | 1985-06-05 | Alps Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
US4525759A (en) * | 1984-04-02 | 1985-06-25 | Shipley Company Inc. | Aluminum storage disc |
JPH0618059B2 (ja) * | 1984-04-11 | 1994-03-09 | 株式会社日立製作所 | 垂直磁気記録媒体 |
JPS62120628A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS62120627A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-03-27 DE DE19873710024 patent/DE3710024A1/de active Granted
- 1987-03-27 US US07/030,600 patent/US4786553A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3415794A1 (de) * | 1983-04-30 | 1984-10-31 | Tdk Corp., Tokio/Tokyo | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu seiner herstellung |
DE3426178A1 (de) * | 1983-07-16 | 1985-01-31 | Alps Electric Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
EP0140513A1 (de) * | 1983-08-24 | 1985-05-08 | International Business Machines Corporation | Magnetische Dünnfilmaufzeichnungsstruktur |
JPS6139919A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Patent Abstracts of Japan & JP 61039919 A * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3710024C2 (de) | 1990-12-20 |
US4786553A (en) | 1988-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3538852C2 (de) | ||
DE3888990T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen scheibenförmigen Aufzeichnungsträgers und resultierender Aufzeichnungsträger. | |
DE69631077T2 (de) | Plattenspeichersystem sowie Dünnfilmmagnetkopf und Herstellungsverfahren dafür | |
DE3546325C2 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium | |
DE69330292T2 (de) | Laminat und verschleissfeste darauf in Dünnschichtverfahren gebildete magnetische Leseeinrichtung | |
DE3850833T2 (de) | Magnetischer Aufzeichnungsträger. | |
DE3623285C2 (de) | ||
DE3743967A1 (de) | Magnetisches speichermedium | |
US4929514A (en) | Thin film media for high density longitudinal magnetic recording | |
DE69729705T2 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium, Herstellungsverfahren für dasselbe und magnetischer Speicher | |
DE4325329C2 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69417806T2 (de) | Magnetooptischer Aufzeichnungsträger | |
DE3710024C2 (de) | ||
DE3810244A1 (de) | Ferromagnetfilm und damit hergestellter magnetkopf | |
DE102012003821A1 (de) | Stapel mit einer magnetischen nullschicht | |
DE69128056T2 (de) | Magnetischer Aufzeichnungsträger, sein Herstellungsverfahren und ein magnetisches Aufzeichnungsgerät | |
DE19744348A1 (de) | Magnetisches Speichermedium und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69603796T2 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3538442C2 (de) | ||
DE3788579T2 (de) | Ferromagnetischer dünner Film und ihn verwendender Magnetkopf. | |
DE19711733A1 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3228044A1 (de) | Magnetisches aufzeichnungsmaterial | |
DE3334324C2 (de) | ||
DE69314581T2 (de) | Film für magnetische Senkrechtaufzeichnung, mehrschichtiger Film geeignet für die Konversion zum Film für magnetische Senkrechtaufzeichnung, und Verfahren zur Herstellung vom Film für magnetische Senkrechtaufzeichnung aus diesem mehrsichtigen Film. | |
DE3810269A1 (de) | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |