JPS5998752A - 回転噴霧装置における給液分配装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスプレードライヤーなどにオら用する回転噴霧
装置における給液分配装置に関するものである。

従来のこの種給液分配装置は、第８図■■■、第９図■
■に示すように、給液分配室１０２の給液投下口１０３
が第９図■のように断面円形のものを同心円・状に穿設
するか、あるいは第９図■のように環状に設けられてい
る。しかし給液は給液分配室１０２から直接液投下口１
０３に流下するため、給液分配室１０２の液面に部分的
変動があると、液膜下口１０３から噴霧盤］、　０４に
流下される給液はその環状全面にわたり、均一に流下さ
れないことになり、噴霧の均一化が阻害されることにな
る。また、供給液量に大きな変動がある場合、その変動
中全域にわたっての環状全面にわたる均一な流下が、で
きなかった。

本発明はこのような従来のこの種の給液分配装置の問題
点を解決することを目的とする。

以下図面に記載された本発明の実施例について説明する
。

（実施例の説明） 図面において１はスジレート９ライヤー全体を示す。２
は噴霧盤、３はその回転軸、４は給液、Ｓイブ、５は液
分配室６の支持枠、７は液分配室６内の最外側に位置す
る受　液　部、８は液分配室５の外周壁であって外側壁
８１、天井８２、内側壁８３底板８４からなる。

９は受液部７内周壁を構成する干渉板で、その下端に同
一形状、同一大きさ、同一間隔に切欠９ａを有する。こ
の切欠９ａに代えて干渉板９の下端部を全周にわたって
切取ってもよい。また干渉板９の上端は第２図のように
液分配室６の天井８２に達する。しかし第２ａ図のよう
に液分配室６に天板を設けることなく、給液口４を直接
受液部７の干渉板９上端と同じしはルに開口させてもよ
い。

１０はせき板でその上端部に同一大きさ、同一間隔、同
一形状に切欠い　たせき切欠け１０ａを有する。１０′
ａはせき切欠けに代るせき穴、１１は環状の液膜下口（
第５図参照）、１２はせき板１０と干渉板９との間に形
成される液上外部、１３はせき板１０の下端に設けたド
レーン孔である。

（本発明の作用） つぎに本発明の詳細な説明する。

■　給液パイプ４から供給されたスラリーまたは溶液（
以下単に゛給液゛′という。）はまづ受液部７に入る。

そして干渉板９の下端切欠９ａを潜り抜け、液上外部６
を上昇する。

つぎにせき板１０のせき切欠け１０ａを通り抜け、液膜
下口１１に流下する。

（本考案の作用効果） ■　液膜下口１１から投下される給液の量は流量が変動
しても絶えず均一になる。

すなわち、まづレシーバ一部７で給液が貯溜され、その
液面に多少の変動はあるが、干渉板９の下部の切欠９ａ
から液上外部へ流出する液量は切欠９ａの面積が均一で
あるので均一になる。

そして、適当な間隙を選定することにより、受液部７の
液面の上下による多少の変動は無視少となる。

そして液量は十分大きい範囲（１０：３〜１０：１）で
せき板１０の上端部の切欠け１０ａから均一に分散され
て液膜下口１１に流入する。

（実験結果として干渉板９を付けることによって付けな
い場合の３倍の流量を流すことができた。）このときせ
き切欠け１０ａは同一大きさ、同一形状に配置されてい
るので、流量が犬の時は切り込みの下部から上部までの
開口から流量が小の時は切り込みの下部からせき板１０
内壁に均一に流下する。

もしせき切欠け１０ａが無いと、　　液上外部１２の液
面に部分的変動のあった場合、その部にわたる均一な流
下が行なわれなくなる。第６図■は切欠けのない場合、
第６図■は切欠け１０ａのある場合を示す。第６図■で
は液面！が波形となるとそのま＼せき板１０を乗り越え
る。

第６図■では液面！がノ′とじて示すように水平となっ
て均一におのおのの切欠１０ａから流出する。

以上のようにして、本発明では液膜下口１１環状全面に
わたり、噴霧、盤２への均一な投下が行なわれる。

なおせき穴１０’ａを設けた場合も同様である。

（第７図■■）

【図面の簡単な説明】

第１図：本発明装置を用いたスプレードライヤー１の一
部欠截断面図、 第２図：本発明装置の断面図、 第２ａ図：第２図の液分配室７の他の実施例の部分断面
図、 第３図：同じく斜視図、 第４図二本発明装置をスケルトン式に示す欠截斜視図、 第４ａ図：干渉板１０の展開図、 第５図：第２図Ｖ−Ｖ断面図、 第６図■■：せき切欠け１０ａの作用説明同第８図■：
従来の給液分配室の断面図、第８図■■：従来の分配室
の他の例の部分断面図、 第９図■■：第８図■ＩＸ−ＩＸ断面の２実施例を示す
。 １・・・・・・スプレードライヤー、２・・・・・・噴
霧盤、３・・・・・・回転軸、４・・・・・・給液パイ
プ、５・・・・・・支持枠、６・・・・・・液分配室、
７・・・・・・受液部、８・・・・・液分配室外壁、８
１・・・・・・外側壁、８２・・・・・・天井、８３・
・・・・・内側壁、８４・・・・・・底板、９・・・・
・・干渉板、９ａ・・・・・・切欠け、１０・・・・・
・せき板、１０ａ・・・・・・せき切欠け、１ｏＱ・・
・・・せき穴、１１・・・・・・液膜下口、１２・・・
・・・液上外部、１３・・・・・・ドレーン穴、１０１
・・・・・・回転軸、１０２・・・・・・給液分配室、
１０３・・・・・・液膜下口、１ｏ４・・・・・・噴霧
盤。 代理人弁理士　　羽　生　栄　吉 図面の浄書（内″ｆ；１こ変更なＬ） ＦＩＧ、１ Ｆ、ｉＧ、２ ＦＩＧ、５ ＦｒＧ、３ 八 手続補正書（方式） 昭和５８年　１ｚ８日 特許庁　長官　若杉　和犬　　殿 −１，事件の表示 昭和５７年特　許　願第２０７６１４号゛２、発明の名
称　　回転噴霧装置における給液分配装置３、補正をす
る者 事件との関係　　　特許出励人 ４、代理人 ８、補正の内容　正式図面を提出する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　液分配室（６）内に干渉板（９）と、せき板（１０
   ）とを設け、 干渉板（９）と液分配室（６）の外側壁（８１）天井（
   ８２）の間を受液部（７）、干渉板（９）とせき板（１
   ０）との間を液上昇部（１２）、せき板（１０）と液分
   配室（６）の内側壁（８３）との間を液膜下口（１１）
   とし、環状の干渉板（９）下端部を給液が　　　環状全
   面にわたり均一に液上昇部（１２）に流入するように空
   隙部が設けられ、 せき板（１０）の上端部に同一大きさ、同一形状のせき
   切欠け（１０ａ）を同一間隔に設けた、ことを特徴とす
   る回転噴霧装置における給液分配装置。 ■　せき板（１０）のせき切欠け（ｌ　Ｑ　ａＡＶ型ま
   たはＵ型とした特許請求の範囲第１項記載の給液分配装
   置 ■　せき板（１０）の下端部に円または長円の孔を穿け
   た特許請求の範囲第１項記載の給液分配装置。 ■　干渉板（９）の下端に長方形または円形の孔を穿け
   た特許請求の範囲第１項記載の給液分配装置。 ■　液分配室（６）をスプレードライヤー（１）から着
   脱自在とした特許請求の範囲第１項記載の給液分配装置
   。