JPS6137993B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6137993B2 JPS6137993B2 JP20761482A JP20761482A JPS6137993B2 JP S6137993 B2 JPS6137993 B2 JP S6137993B2 JP 20761482 A JP20761482 A JP 20761482A JP 20761482 A JP20761482 A JP 20761482A JP S6137993 B2 JPS6137993 B2 JP S6137993B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- plate
- weir
- liquid supply
- notch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 75
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 12
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B3/00—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
- B05B3/02—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements
- B05B3/10—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces
- B05B3/1007—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member
- B05B3/1021—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member with individual passages at its periphery
Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスプレードライヤーなどに利用する回
転噴霧装置における給液分配装置に関するもので
ある。
転噴霧装置における給液分配装置に関するもので
ある。
従来のこの種給液分配装置は、第８図第
９図に示すように、給液分配装置１０２の給
液投下口１０３が第９図のように断面円形のも
のを同心円状に穿設するか、あるいは第９図の
ように環状に設けられている。しかし給液は給液
分配室１０２から直接液投下口１０３に流下する
ため、給液分配室１０２の液面に部分的変動があ
ると、液投下口１０３から噴霧盤１０４に流下さ
れる給液はその環状全面にわたり、均一に流下さ
れないことになり、噴霧の均一化が阻害されるこ
とになる。また、供給液量に大きな変動がる場
合、その変動巾全域にわたつて環状全面にわたる
均一な流下が、できなかつた。
９図に示すように、給液分配装置１０２の給
液投下口１０３が第９図のように断面円形のも
のを同心円状に穿設するか、あるいは第９図の
ように環状に設けられている。しかし給液は給液
分配室１０２から直接液投下口１０３に流下する
ため、給液分配室１０２の液面に部分的変動があ
ると、液投下口１０３から噴霧盤１０４に流下さ
れる給液はその環状全面にわたり、均一に流下さ
れないことになり、噴霧の均一化が阻害されるこ
とになる。また、供給液量に大きな変動がる場
合、その変動巾全域にわたつて環状全面にわたる
均一な流下が、できなかつた。
本発明はこのような従来のこの種の給液分配装
置の問題点を解決することを目的とする。
置の問題点を解決することを目的とする。
以下図面に記載された本発明の実施例について
説明する。
説明する。
（実施例の説明）
図面において１はスプレードライヤー全体を示
す。２は噴霧盤、３はその回転軸、４は給液パイ
プ、５は液分配室６の支持枠、７は液分配室６内
の最外側に位置する受液部、８は液分配室５の外
周壁であつて外周壁８１、天井８２、内側壁８３
底板８４からなる。
す。２は噴霧盤、３はその回転軸、４は給液パイ
プ、５は液分配室６の支持枠、７は液分配室６内
の最外側に位置する受液部、８は液分配室５の外
周壁であつて外周壁８１、天井８２、内側壁８３
底板８４からなる。
９は受液部７内周壁を構成する干渉板で、その
下端は同一形状、同一大きさ、同一間隔に切欠９
ａを有する。この切欠９ａに代えて干渉板９の下
端部を全周にわたつて切取つてもよい。また干渉
板９の上端は第２図のように液分配室６の天井８
２に達する。しかし第２ａ図のように液分配室６
に天板を設けることなく、給液口４を直接受液部
７の干渉板９と上端と同じレベルに開口させても
よい。１０はせき板でその上端部に同一大きさ、
同一間隔、同一形状に切欠いたせき切欠け１０ａ
を有する。１０′ａはせき切欠けに代るせき穴、
１１は環状の液投下口（第５図参照）、１２はせ
き板１０と干渉板９との間に形成かれる液上昇
部、１３はせき板１０の下端に設けたドレーン孔
である。
下端は同一形状、同一大きさ、同一間隔に切欠９
ａを有する。この切欠９ａに代えて干渉板９の下
端部を全周にわたつて切取つてもよい。また干渉
板９の上端は第２図のように液分配室６の天井８
２に達する。しかし第２ａ図のように液分配室６
に天板を設けることなく、給液口４を直接受液部
７の干渉板９と上端と同じレベルに開口させても
よい。１０はせき板でその上端部に同一大きさ、
同一間隔、同一形状に切欠いたせき切欠け１０ａ
を有する。１０′ａはせき切欠けに代るせき穴、
１１は環状の液投下口（第５図参照）、１２はせ
き板１０と干渉板９との間に形成かれる液上昇
部、１３はせき板１０の下端に設けたドレーン孔
である。
（本発明の作用）
つぎに本発明の作用を説明する。
給液パイプ４から供給されたスラリーまたは
溶液（以下単に“給液”という。）はまづ受液
部７に入る。そして干渉板９の下端切欠９ａを
潜り抜け、液上昇部６を上昇する。
溶液（以下単に“給液”という。）はまづ受液
部７に入る。そして干渉板９の下端切欠９ａを
潜り抜け、液上昇部６を上昇する。
つぎにせき板１０のせき切欠け１０ａを通り
抜け、液投下口１１に流下する。
抜け、液投下口１１に流下する。
（本発明の作用効果）
液投下口１１から投下される給液の量は流量
が変動しても絶えず均一になる。
が変動しても絶えず均一になる。
すなわち、まづレジーバー部７で給液が貯溜
され、その液面に多少の変動はあるが、干渉板
９の下部の切欠９ａから液上昇部へ流出する液
量は切欠９ａの面積が均一になるので均一にな
る。そして、適当な間隙を選定することによ
り、受液部７の面の上下による多少の変動は無
視少となる。
され、その液面に多少の変動はあるが、干渉板
９の下部の切欠９ａから液上昇部へ流出する液
量は切欠９ａの面積が均一になるので均一にな
る。そして、適当な間隙を選定することによ
り、受液部７の面の上下による多少の変動は無
視少となる。
そして液量は十分大きい範囲（10：３〜10：
１）でせき板１０の上端部の切欠け１０ａから
均一に分散されて液投下口１１に流入する。
（実験結果として干渉板９を付けることによつ
て付けない場合の３倍の流量を流すことができ
た。）このときせき切欠け１０ａは同一大き
さ、同一形状に配置されているので、流量が大
の時は切り込みの下部から上部までの開口から
流量が小の時は切り込みの下部からせき板１０
内壁に均一に流下する。
１）でせき板１０の上端部の切欠け１０ａから
均一に分散されて液投下口１１に流入する。
（実験結果として干渉板９を付けることによつ
て付けない場合の３倍の流量を流すことができ
た。）このときせき切欠け１０ａは同一大き
さ、同一形状に配置されているので、流量が大
の時は切り込みの下部から上部までの開口から
流量が小の時は切り込みの下部からせき板１０
内壁に均一に流下する。
もしせき切欠け１０ａが無いと、液上昇部１
２の液面に部分的変動のあつた場合、その部分
的変動がそのまゝ液投下口１１内の液量の部分
的変動となつて現われ、液投下口環状面全面に
わたる均一な流下が行なわれなくなる。第６図
は切欠けのない場合、第６図は切欠け１０
ａのある場合を示す。第６図では液面ｌが波
形となるとそのまゝせき板１０を乗り越える。
第６図では液面ｌがl′として示すように水平
となつて均一におのおのの切欠１０ａから流出
する。
２の液面に部分的変動のあつた場合、その部分
的変動がそのまゝ液投下口１１内の液量の部分
的変動となつて現われ、液投下口環状面全面に
わたる均一な流下が行なわれなくなる。第６図
は切欠けのない場合、第６図は切欠け１０
ａのある場合を示す。第６図では液面ｌが波
形となるとそのまゝせき板１０を乗り越える。
第６図では液面ｌがl′として示すように水平
となつて均一におのおのの切欠１０ａから流出
する。
以上のようにして、本発明では液投下口１１環
状全面にわたり、噴霧盤２への均一な投下が行な
われる。
状全面にわたり、噴霧盤２への均一な投下が行な
われる。
なおせき穴１０′ａを設けた場合も同様であ
る。
る。
（第７図）
第１図：本発明装置を用いたスプレードライヤ
ー１の一部欠截断面図、第２図：本発明装置の断
面図、第２ａ図：第２図の液分配室７の他の実施
例の部分断面図、第３図：同じく斜視図、第４
図：本発明装置をスケルトン式に示す欠截斜視
図、第４ａ図：干渉板１０の展開図、第５図：第
２図Ｖ−Ｖ断面図、第６図：せき切欠け１０
ａの作用説明図、第７図：せき切欠１０ａの
代りにせき穴１０′ａを穿けた場合の斜視図、第
８図：従来の給液分配装置の断面図、第８図
：従来の分配室の他の例の部分断面図、第９図
：第８図−断面の２実施例を示す。 １……スプレードライヤー、２……噴霧盤、３
……回転軸、４……給液パイプ、５……支持枠、
６……液分配室、７……受液部、８……液分配外
壁、８１……外側壁、８２……天井、８３……内
側壁、８４……底板、９……干渉板、９ａ……切
欠け、１０……せき板、１０ａ……せき切欠け、
１０′ａ……せき板、１１……液投下口、１２…
…液上昇部、１３……ドレーン穴、１０１……回
転軸、１０２……給液分配室、１０３……液投下
口、１０４……噴霧盤。
ー１の一部欠截断面図、第２図：本発明装置の断
面図、第２ａ図：第２図の液分配室７の他の実施
例の部分断面図、第３図：同じく斜視図、第４
図：本発明装置をスケルトン式に示す欠截斜視
図、第４ａ図：干渉板１０の展開図、第５図：第
２図Ｖ−Ｖ断面図、第６図：せき切欠け１０
ａの作用説明図、第７図：せき切欠１０ａの
代りにせき穴１０′ａを穿けた場合の斜視図、第
８図：従来の給液分配装置の断面図、第８図
：従来の分配室の他の例の部分断面図、第９図
：第８図−断面の２実施例を示す。 １……スプレードライヤー、２……噴霧盤、３
……回転軸、４……給液パイプ、５……支持枠、
６……液分配室、７……受液部、８……液分配外
壁、８１……外側壁、８２……天井、８３……内
側壁、８４……底板、９……干渉板、９ａ……切
欠け、１０……せき板、１０ａ……せき切欠け、
１０′ａ……せき板、１１……液投下口、１２…
…液上昇部、１３……ドレーン穴、１０１……回
転軸、１０２……給液分配室、１０３……液投下
口、１０４……噴霧盤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 液分配室６内に干渉板９と、せき板１０とを
設け、 干渉板９と液分配室６の外側壁８１天井８２の
間を受液部７、干渉板９とせき板１０との間を液
上昇部１２、せき板１０と液分配室６の内側壁８
３との間の液投下口１１とし、 環状の干渉板９下端部を給液が環状全面にわた
り均一に液上昇部１２に流入するように空隙部が
設けられ、 せき板１０の上端部に同一大きさ、同一形状の
せき切欠け１０ａを同一間隔に設けた、 ことを特徴とする回転噴霧装置における給液分
配装置。 ２ せき板１０のせき切欠け１０ａをＶ型または
Ｕ型とした特許請求の範囲第１項記載の給液分配
装置。 ３ せき板１０の下端部に円または長円の孔を穿
けた特許請求の範囲第１項記載の給液分配装置。 ４ 干渉板９の下端に長方形または円形の孔を穿
けた特許請求の範囲第１項記載の給液分配装置。 ５ 液分配室６をスプレードライヤー１から着脱
自在として特許請求の範囲第１項記載の給液分配
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20761482A JPS5998752A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 回転噴霧装置における給液分配装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20761482A JPS5998752A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 回転噴霧装置における給液分配装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998752A JPS5998752A (ja) | 1984-06-07 |
| JPS6137993B2 true JPS6137993B2 (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=16542700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20761482A Granted JPS5998752A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 回転噴霧装置における給液分配装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998752A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117732627B (zh) * | 2024-02-21 | 2024-05-14 | 特丝丽化工有限公司 | 一种洗衣粉的喷射装置 |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP20761482A patent/JPS5998752A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5998752A (ja) | 1984-06-07 |
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