JPS6121695B2 - - Google Patents

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JPS6121695B2
JPS6121695B2 JP59045732A JP4573284A JPS6121695B2 JP S6121695 B2 JPS6121695 B2 JP S6121695B2 JP 59045732 A JP59045732 A JP 59045732A JP 4573284 A JP4573284 A JP 4573284A JP S6121695 B2 JPS6121695 B2 JP S6121695B2
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JP
Japan
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compartment
distribution
wall
conduit
substance
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JP59045732A
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JPS59169528A (ja
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Auusutan Jan
Ninuuyu Gi
Waron Berunaaru
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ROONU PUURAN SHIMII DO BAAZU
Original Assignee
ROONU PUURAN SHIMII DO BAAZU
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Publication date
Application filed by ROONU PUURAN SHIMII DO BAAZU filed Critical ROONU PUURAN SHIMII DO BAAZU
Publication of JPS59169528A publication Critical patent/JPS59169528A/ja
Publication of JPS6121695B2 publication Critical patent/JPS6121695B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/70Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices
    • B01D33/72Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices for feeding

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Feeding And Watering For Cattle Raising And Animal Husbandry (AREA)
  • Confectionery (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、物質を一つの表面上へと分配するた
めの装置に関するものである。
本発明は特に、過されるべき物質即ち被過
物質を過表面上へと分配するのに適用され、更
に詳しく言えばフイルタ上へと洗浄液とか、時に
は固形分を有した液体を分配するのに使用するた
めに隣酸の製造分野にて使用される。
この種の装置は既に知られており、特に仏特許
番号第2418012号に開示される。該装置は本体即
ちケーシングを具備し、該ケーシングは、被過
物質が導入される供給隔室と、該供給隔室から被
過物質がオーバフローによつて流入するように
した分配隔室とを有し、被過物質は分配隔室か
ら過表面上へと流出するように構成される。
現在、製造される設備は、生産量を向上せしめ
るために大型化している。このために、各作動時
に上記タイプのケーシングに導入される被過物
質の流量は大とする必要がある。ここで、流量を
大とすると被過物質の大部分は、供給及び分配
隔室の側縁部の方へと片寄り、それによつて被
過物質のフイルタ表面への分配が不均一となる傾
向があることが問題視されている。
従つて本発明は、被過物質を全ての条件下
に、特に大流量であつても均一に分配し、それに
よつて現装置の寸法及び容量を増大させることも
ないようにした改良装置を提供するものである。
実際に、寸法の増大は装置の製造価格を増大せし
め、又装置の移動を難しくする。
斯る目的のために、本発明に従つた、被過物
質を或る表面上に分配するための装置が開発され
た。本装置は、被過物質を供給するための手段
を備えた供給隔室と、分配隔室とを有し、供給隔
室は、底部を形成する壁、後壁、二つの側壁、前
記オーバフロー手段を形成する前壁によつて画定
され、前記分配隔室は、前記オーバフロー手段に
よつて画定される後壁、二つの側壁、前壁、底部
及び前記被過物質を表面上へと流動せしめるた
めの開口を有する。又、本装置は、供給隔室にバ
ツフル部材が設けられている点に特徴を有する。
本発明によると、被過物質は大型のフイルタ
表面であつても均一に分配される。何故ならバツ
フルは分配装置の長さが大きくなり且つ被過物
質(スラリー等)が大きい流量を持つときでも、
その流れを阻害して物質が側壁部近くに集中する
傾向を大幅に減じるからである。
大きなフイルター表面上に被分配物質の均一な
分配を行うために従来行われていた対策は、分配
装置の供給隔室を大型化してスラリーの速い流れ
の影響を抑制することであつた。しかし、このよ
うな大型化は分配装置のコストを引上げることに
なり、しかも大きい慣性のためフイルター表面に
沿つて分配装置を移動させることが困難になる。
これに対して本発明では分配装置の寸法は単に
長くなるだけであり、しかもバツフルを用いたた
めに分配が均一化する。
本発明の上記並びに他の特徴及び利益は以下の
詳細な説明によつて明らかとなるであろう。
第1図及び第3図を参照すると、本発明に従つ
た分配ケーシング即ち分配装置が図示される。例
示される実施態様においては、過される物質即
ち被過物質が回転式円形フイルタへと分配さ
れ、分配ケーシングは供給隔室1及び分配隔室2
を具備する。供給隔室1は、底部3、二つの側壁
4及び5、後壁6並びに前壁7によつて画定され
る。本明細書で前及び後という語句は、第3図に
示されるように、過表面8の運動方向に関連し
て定義される。後で説明される、被過物質を供
給隔室へと導入するための手段は、特に例示され
る実施態様においては、被過物質を隔室の中央
部へと導入するようにして配設される。
又、分配隔室2は、前壁9、二つの側壁10及
び11、底部12並びに後壁にて形成される。該
隔室2の後壁は、実際には供給隔室の壁7であつ
て、両隔室に共通するものである。又、該後壁は
オーバフロー手段として作用する。更に又、分配
隔室には、被過物質が過表面8へと流出し得
る開口13が設けられる。例示される構造では、
開口13は底部12に設けられる。
第2図に図示されるように、供給隔室の底部3
は好ましくは、装置の中央部に平らな部分を具備
する。該平らな部分には二つの傾斜表面部分が連
接される。該傾斜表面部は、供給隔室の側壁4及
び5の方へと前記平らな部分から上方向へと差し
向けられる。
本発明の主たる特徴に従うと、供給隔室にはバ
ツフル(邪魔板)部材が設けられる。該バツフル
部材は、供給隔室の前又は後壁の少なくとも一方
の壁に固着される。
例示される実施態様において、アングル部材1
4がその周縁部分にて隔室1の後壁6に固着され
る。
前記したようなバツフル部材即ちアングル部材
は任意の数配設し得ることを理解されたい。好ま
しくは、バツフル部材即ちアングル部材は、被
過物質が隔室へと導入される位置に近接して設け
られる。
バツフル部材即ちアングル部材14は、垂直方
向に且つ実質的に隔室の底部3からオーバフロー
手段7の上端までの全長さにわたつて延在するよ
うに配設することができる。しかしながら、1つ
又は複数のバツフル部材即ちアングル部材につい
てはこれら部材の下端と底部3との間に空隙15
を設けるのが好ましいであろう。又、バツフル部
材又はアングル部材は高さ方向に調節可能に装着
し、それによつて該部材を流量に応じて上記空隙
を変えたり、被過物質の隔室1への導入点を変
え得るようにすることも可能であろう。
上記目的のために、バツフル部材をアングル部
材によつて形成するようにした特定の実施態様に
おいては、少なくとも1つのアングル部材が他の
アングル部材に係合し、そして該他のアングル部
材を受容するように構成される。該アングル部材
は、これら部材を固定しそして各アングル部材を
互いに高さ方向に調整するための手段を具備す
る。この構造は第4図に図示される。
第4図は、後壁16に周縁部分を溶接した内側
アングル部材16を示す。
外側アングル部材はアングル部材16上の嵌着
される。
二つのアングル部材を高さ方向に調節しそして
その状態に固定するために、アングル部材16の
各周縁部分は一連の貫通孔18を有する。同様
に、アングル部材17の各構成部片にも孔19が
設けられる。上記開口を貫通したピン20によつ
て可動の外側アングル部材17は固着された内側
アングル部材16に固定される。
従つて、上記のような構成によつて供給隔室の
底部と、可動のアングル部材17の下方端部との
間の調整が容易に達成される。
本発明の他の実施態様に従うと、オーバフロー
手段7には、特にその上縁部分に被過物質のた
めのオーバフローオリフイスを設けることができ
る。斯るオーバフローオリフイスは特に、オーバ
フロー手段を通つての被過物質の流動を十分に
行なわしめることができる。
第2図に図示されるように、オリフイス21は
三角形状とすることができ、該三角形オリフイス
の頂点は装置の底部の方へと下方向に差し向けら
れる。一方、三角形オリフイスの基底はオーバフ
ロー手段7の上縁と一致している。
仏特許番号第2,418,012号は、上記の如きタ
イプのオリフイス、特に回転式円形フイルタを備
えた装置を使用した場合のオリフイスを開示して
いる。このときの各オリフイスの面積は各々異な
つており、その面積はオリフイスを通る流量が被
過物質を受容する過表面の大きさに比例する
ように設計されている。このようなオリフイスを
設けることも本発明では極めて好適であることを
理解されたい。
第1図、第2図及び第3図から分るように、デ
フレクタ22が供給隔室に設けられる。デフレク
タ22はオーバフロー手段を形成する壁7にオリ
フイス21の近傍にて、つまり被過物質が物質
の導入点から両側壁の方へと移動するときオリフ
イスに差し向けられるような壁7のその部分に取
付けられる。
デフレクタ22は、オーバフロー手段を形成す
る壁の実質的に全高さにわたつて延在する平らな
部材又はバーにて形成することができる。しかし
ながら、デフレクタと底部3との間には空隙23
が設けられる。
第1図〜第3図に図示されるように、デフレク
タは好ましくは、壁7に対し垂直方向に配置され
る。加うるに、デフレクタは、オリフイスが形成
されている高さより大きい長さにわたつて壁に形
成することができ、例えば例示される実施態様に
おいてはデフレクタは、オリフイスを形成する三
角形の頂点より下方向へと延在している。
又、本発明の他の実施態様に従うと、分配隔室
にはスクリーンを形成するプレートが設けられ
る。該スクリーンは分配隔室の前又は後壁のいず
れかの壁に固着され、又該壁の流出開口の上方に
配置される。スクリーンは隔室の全長にわたつて
延在し、好ましくは隔室の底部の方へと傾斜して
設けられる。
第3図は、隔室の前壁9に固着された前述のス
クリーン24を示す。
更に又、本発明に係る装置は被過物質を供給
隔室へと導入するための手段を具備し、該導入手
段は供給隔室に開口した導管25から成る。第5
図から分るように、導管25はその下方端にリン
グ状の部材26が設けられる。該部材は導管25
に沿つて且つ該導管のまわりに回転自在に高さ方
向に変位可能とされる。リング部材には隔室の底
部の方へと差し向けられた突起、即ち、ラグ部分
が設けられる。各ラグ部分相互間の間隔は変動自
在とすることができる。部材26を適当に配向せ
しめることによつて、本実施態様の場合には被
過物質を実質的に一方向に流動せしめることも可
能ある。
本発明に従うと、導管25には又該導管に対し
垂直方向に配置された保護板27が設けられる。
保護板27は供給隔室の導管隣接部分を覆う。つ
まり、保護板27は隔室の全幅にわたつて延び且
つ供給室の後壁6に隣接して設けられる。
本発明に従つた装置の作動態様は前記説明より
明らかであろう。
被過物質は導管25によつて、例えば極めて
大きな流量にて隔室1へと流入する。保護板27
は、被過物質が偶然にも装置の後方へと飛び散
るのを防止しそれによつて被過物質による装置
ケーシングの隣接部分の腐食を防止することがで
きる。
次で、被過物質は、壁7を介して供給隔室か
ら分配隔室へとオーバフローする。
デフレクタ22は、デフレクタが配置された近
傍のオリフイス21の働きによつて被過物質流
動体に溝部を形成する。
被過物質は、分配隔室2内へと流動するとき
スクリーン24に当り、流動方向が変えられ、次
で底部12に至り、過表面8上へと流出する。
本発明の範囲内で種々の変更態様が可能であろ
う。
特に、バツフル部材は上述したアングル部材以
外の任意のタイプのものとすることができる。例
えば単なる平らの又は棒状の部材、孔付金属板、
又は格子状のパネル様部材とすることも可能であ
る。バツフル部材の数、位置及び構成は装置の使
用態様によつて種々に変えることが可能である。
特に、バツフル部材を単に供給隔室の底部に固着
することも可能である。
オーバフロー手段のオリフイスは説明した以外
の任意のものとすることができることを理解され
たい。
加うるに、分配隔室に複数のスクリーン形成プ
レート部材を設けることも可能である。
更に又、供給導管は、供給隔室の中央部分以外
の装置の一部分に、例えば装置の両側壁の一方の
側壁に位置せしめることも可能である。加うる
に、被過物質は上記導管以外の手段によつて装
置へと供給することもできる。被過物質は底部
供給態様、即ち、底部から供給することも可能で
あろう。
上述したように、本発明に従つた装置は、隣酸
の製造に使用するのが好適であろう。その場合、
装置は、洗浄水、再循環液及び時にはアタツク
(腐食用)スラリーの分配に利用することができ
る。しかしながら、本装置は、相当量の物質の
過を必要とする他のプロセスに、任意のタイプの
フイルタ、特に回転式又はベルト式のフイルタと
組合せて使用することができる。
更に一般的に言えば、本発明に従つた装置は、
物質を均一に或る表面上に分配する必要がある場
合には常に使用することができるであろう。
本発明は上記実施態様に限定されるものではな
く、一例に過ぎないことを理解されたい。特に、
本発明は上記手段と技術的に均等な手段をも全て
包含するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に従つた装置、即ち、ケーシ
ングの平面図である。第2図は、第1図の線A―
Aに沿つて取つた横断面図である。第3図は、第
2図の線B―Bに沿つて取つた横断面図である。
第4図は、本発明に従つた装置のバツフル部材の
実施態様を示す概略図である。第5図は、ケーシ
ングに被分配物質を供給するための装置の概略図
である。 1…供給隔室、2…分配隔室、3,12……底
部、4,5,10,11…側壁、6…後壁、7…
オーバフロー手段、8…過表面、9…前壁、1
3…開口、14…アングル部材(バツフル部
材)、24…スクリーン、25…供給導管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 分配すべき物質を供給するための手段を備え
    た供給隔室と、該物質を一表面上に分配する分配
    隔室とを有し、前記供給隔室は、底部を形成する
    壁、後壁、二つの側壁、及びオーバフロー手段を
    形成する前壁によつて画定され、前記分配隔室
    は、前記オーバフロー手段によつて画定される後
    壁、二つの側壁、前壁、底部、及び前記物質を前
    記表面上へと流出せしめるための開口を有して構
    成される、物質を一表面へと分配するための装置
    であつて、前記供給隔室の前壁及び後壁の少なく
    とも1つの壁にほぼ垂直な複数のバツフル部材を
    固着させて成る分配装置。 2 少なくとも1つのバツフル部材の下端と、供
    給隔室の底部を形成する壁との間には空隙が設け
    られて成る特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 バツフル部材は高さ方向に調整自在とされて
    成る特許請求の範囲第1項から第2項のいずれか
    の項に記載の装置。 4 バツフル部材はアングル部材によつて形成さ
    れて成る特許請求の範囲第1項から第3項のいず
    れかの項に記載の装置。 5 少なくとも1つのアングル部材は第2のアン
    グル部材に組合わされ前記各アングル部材は、該
    アングル部材を高さ方向に相対的に調整自在に固
    定する手段を具備して成る特許請求の範囲第4項
    記載の装置。 6 分配隔室には前記分配隔室の前壁及び後壁の
    少なくとも1つの壁に固定され且つ分配隔室の流
    出開口より上方にて分配隔室の全長にわたり、且
    つ前記分配隔室の底部の方へと傾斜して形成され
    たスクリーンプレートを有する特許請求の範囲第
    1項から第5項のいずれかの項に記載の装置。 7 オーバフロー手段を形成する壁には、その上
    方部分に過される被過物質のオーバフローを
    なすためのオリフイスが形成され、又供給隔室は
    オーバフロー手段を形成する壁で且つ前記オリフ
    イスに隣接して固着されたデフレクタを具備して
    成る特許請求の範囲第1項から第6項のいずれか
    の項に記載の装置。 8 デフレクタは、オーバフロー手段を形成する
    壁の実質的に全高さにわたつて延在した平らの部
    材によつて形成されて成る特許請求の範囲第7項
    記載の装置。 9 供給手段は供給隔室に開口する導管から成
    り、該導管にはその下方端にリング部材が設けら
    れ、前記リング部材は、供給隔室の底部の方へと
    差し向けられた突起部分を有し、又導管に沿つて
    且つ導管のまわりに回転するようにして高さ方向
    に調整自在とされて成る特許請求の範囲第1項か
    ら第8項のいずれかの項に記載の装置。 10 導管には導管の近傍にて供給隔室を覆いそ
    して該隔室の全幅にわたつて延在した保護板が設
    けられて成る特許請求の範囲第1項から第9項の
    いずれかの項に記載の装置。
JP59045732A 1983-03-14 1984-03-12 物質を一表面に分配するための装置 Granted JPS59169528A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8304119 1983-03-14
FR8304119A FR2542629B1 (fr) 1983-03-14 1983-03-14 Dispositif de distribution d'un produit sur une surface

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JPS59169528A JPS59169528A (ja) 1984-09-25
JPS6121695B2 true JPS6121695B2 (ja) 1986-05-28

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JP59045732A Granted JPS59169528A (ja) 1983-03-14 1984-03-12 物質を一表面に分配するための装置

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FR (1) FR2542629B1 (ja)
GR (1) GR81774B (ja)
IL (1) IL71209A (ja)
MA (1) MA20059A1 (ja)
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OA (1) OA07678A (ja)
PH (1) PH21417A (ja)
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