KR100896816B1 - 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 유입관이 배플에 연접되어 유입수로 유입되는 유입수가 회전하여 유입되도록 하고, 상기 유입관과 제1공급관의 위치에 따라 배플의 높이를 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부와;

상기 전처리부로부터 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질이 1개 이상의 침전여과판의 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 침전여과판에 공극밀도를 달리하여 장착된 다수의 여재를 통해 오염성물질을 여과시켜 배출하는 후처리부와;

상기 후처리부로 공급되지 않은 전처리부의 잔류 유입수와 상기 침전여과판의 하부에 수면이 위치하는 후처리부의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치에 관한 것이다.

본 발명 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치에 의하면, 유입수에 포함된 협잡물을 전처리부에서 처리함과 아울러 협잡물이 제거되어 후처리부로 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질은 침전여과판의 경사진 상면을 따라 침전됨과 동시에 다단의 여재에서 유입수에 포함된 오염성물질을 여과시켜 배출하므로 여과효율의 향상은 물론, 전처리부와 후처리부로 공급되는 유입수를 여과하여 완전배출시키면서 유입수가 잔류되지 않아 전처리부와 후처리부의 건조상태를 유지함으로써, 잔류 유입수에 의한 부폐를 방지함과 아울러 전처리부와 후처리부의 청결을 유지하여 위생적으로 사용할 수 있는 것이다.

전처리, 후처리, 오염, 여과, 침전,

Description

침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치{Apparatus for removing pollutants using plate}

본 발명은, 유입수에 포함된 오염성물질을 제거하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 침전여과판을 이용하여 유입수에 포함된 중금속과 오염물질을 여과한 후, 배출함으로써, 하천이나 지하수의 오염을 방지할 수 있도록 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치에 관한 것이다.

일반적으로 오염성물질은 생활하수, 산업폐수 및 축산폐수 등과 같이 배출지점이 뚜렷하고 한정된 점오염원(點汚染源)으로부터 배출되는 점오염성물질과 불특정지역의 농경지, 목초지, 산림지, 건축현장, 광산, 벌채지, 폐기물처리장, 쓰레기매립장, 도심지, 도로 및 산업현장 등과 같이 배출지역이 불특정하고 광범위한 비점오염원(非點汚染源)으로부터 배출되는 비점오염성물질로 나눌 수 있다.

상기의 오염성물질 중 배출지점이 뚜렷하고 한정된 점오염성물질의 경우에는 별도의 정화장치나 폐수처리장치가 설치되어 오염성물질의 정화가 이루어지고 있으 나, 비점오염성물질의 경우에는 배출지역이 광범위할 뿐만 아니라 계절간 배출량의 변화가 크고 정량화가 어려우며, 기상조건과 지형 및 지질 등에 영향을 받기 때문에 인위적 조절이 어려울 뿐만 아니라 도시화에 따라 지역의 불투수율의 증가로 인해 지역의 우수유출 특성이 변화하여 수질오염의 원인이 되고 있으므로 비점오염원에 의한 하천 및 지하수의 수질개선을 위해서는 우수유출수에 대한 적극적인 관리가 필요한 실정이다.

상기 비점오염원의 오염성물질을 처리하기 위해 근래에는 특허 제420222호의 강우수 정화장치 및 이에 사용되는 강우수 정화모듈이 등록된 바 있다.

선 등록된 강우수 정화장치 및 이에 사용되는 강우수 정화모듈은, 우수를 수집한 후, 우수에 포함된 오염성물질을 정화모듈에서 정화시켜 배출시키는 이점은 있으나, 오염성물질이 2차 오물수거망을 경유하여 정화카트리지를 통과하는데, 상기 2차 오물수거망을 통과한 오염성물질이 정화카트리지로 흐르지 않고, 정화카트리지에 관통된 복수의 접촉유로를 통해 배출됨으로써 오염성물질의 여과효율이 낮은 문제점이 있었다.

또한, 강우수 오물 침전부에 끝으로 유입되는 우수가 정화카트리지쪽으로 배출되지 못하고 체류됨과 동시에 강우수 오물 침전부에 침전된 침전성물질 및 부유성물질과 혼합된 상태로 장기간 잔류되면서 우수가 부폐되어 악취를 발생할 뿐만 아니라 모기 및 파리와 같은 곤충류의 집단 서식지를 제공하게 되는 문제점이 있었다.

이에 본 발명은, 상술한 바와 같은 종래의 제반결함을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은, 유입수에 포함된 협잡물을 전처리부에서 처리함과 아울러 협잡물이 제거되어 후처리부로 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질은 침전여과판의 경사진 상면을 따라 침전됨과 동시에 다단의 여재에서 유입수에 포함된 오염성물질을 여과시켜 배출하므로 여과효율을 향상시킬 수 있는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치를 제공함에 있다.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 전처리부와 후처리부로 공급되는 유입수를 여과하여 완전배출시키면서 유입수가 잔류되지 않아 전처리부와 후처리부의 건조상태를 유지함으로써, 잔류 유입수에 의한 부폐를 방지함과 아울러 전처리부와 후처리부의 청결을 유지하여 위생적으로 사용할 수 있는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치를 제공함에 있다.

본 발명 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치는,

유입관이 배플에 연접되어 유입수로 유입되는 유입수가 회전하여 유입되도록 하고, 상기 유입관과 제1공급관의 위치에 따라 배플의 높이를 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부와;

상기 전처리부로부터 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질이 1개 이상의 침 전여과판의 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 침전여과판에 공극밀도를 달리하여 장착된 다수의 여재를 통해 오염성물질을 여과시켜 배출하는 후처리부와;

상기 후처리부로 공급되지 않은 전처리부의 잔류 유입수와 상기 침전여과판의 하부에 수면이 위치하는 후처리부의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치에 의하면, 유입수에 포함된 협잡물을 전처리부에서 처리함과 아울러 협잡물이 제거되어 후처리부로 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질은 침전여과판의 경사진 상면을 따라 침전됨과 동시에 다단의 여재에서 유입수에 포함된 오염성물질을 여과시켜 배출하므로 여과효율을 향상시킬 수 있는 이점을 가질 수 있는 것이다.

또한, 본 발명 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치에 의하면, 전처리부와 후처리부로 공급되는 유입수를 여과하여 완전배출시키면서 유입수가 잔류되지 않아 전처리부와 후처리부의 건조상태를 유지함으로써, 잔류 유입수에 의한 부폐를 방지함과 아울러 전처리부와 후처리부의 청결을 유지하여 위생적으로 사용할 수 있는 이점을 가질 수 있는 것이다.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 정면 구성도이고, 도 2는 본 발명의 평면 구성도이며, 도 3은 본 발명의 측면 구성도이다.

본 발명 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치는, 유입관(111)이 배플(120)에 연접되어 유입수로 유입되는 유입수가 회전하여 유입되도록 하고, 상기 유입관(111)과 제1공급관(112)의 위치에 따라 배플(120)의 높이를 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부(100)가 구성되며, 상기 전처리부(100)로부터 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질이 1개 이상의 침전여과판(231)의 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 침전여과판(231)에 공극밀도를 달리하여 장착된 다수의 여재(231c)를 통해 오염성물질을 여과시켜 배출하는 후처리부(200)가 구성되며, 상기 후처리부(200)로 공급되지 않은 전처리부(100)의 잔류 유입수와 상기 침전여과판(231)의 하부에 수면이 위치하는 후처리부(200)의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부(300)를 포함하여 구성되는 것으로, 이를 좀더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

상기 전처리부(100)는, 상기 유입관(111)과 제1공급관(112)이 설치된 전처리조(110)가 구비되고, 상기 전처리조(110) 내부에 유입관(111)과 연접되는 배플(120)이 구비되며, 상기 배플(120)의 설치 높이를 조절하는 높이조절부(130)를 포함하여 구비된다.

상기 높이조절부(130)는, 상기 배플(120)의 하부에 결합공(131')이 일정간격 이격되게 관통되어 장착되는 제1링크(131)가 구비되고, 상기 제1링크(131)의 결합공(131')과 결합공(132')이 연통되게 관통되어 전처리조(110) 바닥면에 고정되는 제2링크(132)가 구비되며, 상기 제1링크(131)의 결합공(131')과 제2링크(132)의 결합공(132')에 결합되어 고정하는 고정부재(133)를 포함하여 구비된다.

상기 배플(120)의 하부에 장착되어 협잡물의 역류를 방지하도록 내측으로 경사진 역류방지부재(140)를 더 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 후처리부(200)는, 상기 전처리부(100)의 제1공급관(112)으로 공급되는 유입수를 수용하는 후처리조(210)가 구비되고, 상기 제1공급관(112)에 결합되어 전처리부(100)의 제1공급관(112)으로 공급되는 유입수를 후처리조(210)의 바닥면으로 공급되도록 하는 제2공급관(220)이 구비되며, 상기 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)에 저장되는 유입수에 포함된 오염성물질을 여과하여 배출하는 여과부(230)를 포함하여 구비된다.

상기 여과부(230)는, 상기 후처리조(210)에 유입된 유입수에 포함된 부유하는 침전성물질이 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 유입수에 포함된 오염성물질은 공극밀도를 달리하는 다수의 여재(231c)를 통해 여과하는 침전여과판(231)이 구비되며, 상기 침전여과판(231)을 통해 여과된 여과수가 제1배출관(233)으로 배출되도록 하는 연결관(232)이 구비되고, 상기 연결관(232)으로 공급되는 여과수를 후처리조(210)의 외부로 배출하는 제1배출관(233)을 포함하여 구비된다.

상기 침전여과판(231)은, 상기 연결관(232)이 결합되는 케이스(231a)가 구비되고, 상기 케이스(231a)에 내장되는 메쉬형 스트레나(231b)가 구비되며, 상기 메쉬형 스트레나(231b)에 밀착되도록 케이스(231a)에 장착되어 오염성물질을 제거하 도록 장착되는 다수의 여재(231c)가 구비되고, 상기 다수의 여재(231c)를 가압하여 케이스(231a)에 장착되는 타공판(231d)을 포함하여 구비된다.

상기 침전여과판(231)은 50~80°로 경사지게 형성되는 것이 바람직하나, 60~70°로 경사지게 형성되는 것이 더 바람직하다.

또한, 상기 여과배출부(300)는, 상기 전처리부(100)의 전처리조(110) 바닥면과 후처리부(200)의 후처리조(210) 바닥면이 연통되도록 요입되는 설치공간(310)이 구비되고, 상기 설치공간(310)에 장착되어 잔류 여과수를 배출하도록 다수의 배출공(미도시)이 타공된 제2배출관(320)이 구비되며, 상기 제2배출관(320)을 감싸 전처리조(110)와 후처리조(210)에 위치한 유입수를 여과하는 여과부재(330)를 포함하여 구비된다.

또한, 상기 전처리부(100)와 후처리부(200)는 일체로 형성되는 것이 바람직하다.

다음은 상기와 같이 구성된 본 발명의 설치 및 작동과정을 설명한다.

먼저, 전처리부(100)와 후처리부(200)가 일체로 형성되는 전처리조(110)와 후처리조(210) 바닥면에 여과배출부(300)의 설치공간(310)을 형성하는데, 상기 설치공간(310)은 제2배출관(320)을 수용하도록 하며, 상기 설치공간(310)에 다수의 배출공(미도시)이 타공된 제2배출관(320)을 안착시킨 후, 제2배출관(320)이 회전하지 않도록 한다.

여기서, 상기 제2배출관(320)은 여과수의 배출이 용이하도록 소정각도 기울 어지게 형성하는 것이 바람직하고, 상기 전처리조(110)와 후처리조(210)의 바닥면은, 바닥면의 양단보다 설치공간(310)이 낮아지도록 경사지게 형성하는 것이 바람직하다.

상기 여과배출부(300)가 연통되도록 전처리조(110)와 후처리조(210)에 설치된 전처리부(100)와 후처리부(200)를 지면에 매설된 상태에서 상기 전처리부(100)의 전처리조(110)에 배플(120)을 장착하는데, 상기 전처리조(110)의 바닥면에 높이조절부(130)의 제2링크(132)를 적어도 3개 이상 방사상으로 고정시킨 상태에서 상기 제2링크(132)에 배플(120)의 하부에 고정된 제1링크(131)를 연결한다.

이때, 상기 배플(120)은 전처리조(110)의 유입관(111)과 제1공급관(112)의 위치에 따라 높이를 조절할 수 있으며, 상기 배플(120)의 높이가 조절된 상태에서 상기 제1,2링크(131)(132)의 각 결합공(131')(132')에 고정부재(133)를 결합하여 배플(120)을 고정시킴과 동시에 상기 배플(120)의 외주면과 전처리조(110)의 내면을 고정구(미도시)로 더 고정시켜 지지할 수도 있다.

여기서 상기 배플(120)이 고정되는 위치는 유입관(111)이 배플(120)의 외주면에 연접되는 위치가 바람직하며, 상기 배플(120)과 후처리조(210)와 연통되도록 제1공급관(112)을 연결한 후, 상기 제1공급관(112)에 제2공급관(220)을 결합하는데, 상기 제2공급관(220)은 'T'자 형상으로 일단부가 후처리조(210) 바닥면을 향하도록 한다.

또한, 상기 후처리조(210)의 바닥면으로부터 일정간격 이격되도록 여과부(230)의 제1배출관(233)을 바닥면에 고정구(미도시)로 고정시키는데, 이는 후처 리조(210)에 위치하면서 제1배출관(233)보다 낮은 수위의 유입수가 여과배출부(300)의 제2배출관(320)으로 이동할 수 있도록 하기 위함이다.

상기 고정구로 고정된 제1배출관(233) 상부에 공극밀도를 달리하는 다수의 여재(231c)를 형성하는데, 먼저 상기 케이스(231a)에 메쉬형 스트레나(231b)를 안착시킨 상태에서 상기 메쉬형 스트레나(231a)에 제1 내지 제4여재를 순차적으로 안착하여 압축시킨 후, 상기 제4여재에 타공판(231d)이 면접촉되도록 케이스(231a)에 내장하여 침전여과판(231)을 형성한 후, 후처리조(210) 내부에 프레임(미도시)을 이용하여 경사지게 형성하는데, 상기 침전여과판(231)은 50~80°로 경사지게 장착되는 것이 바람직하나, 60~70°로 경사지게 장착되는 것이 더욱 바람직하다.

상기 침전여과판(231)의 케이스(231a)와 제1배출관(233)을 연결관(232)으로 연결한 후, 상기 전처리조(110)와 후처리조(210)의 설치공간(310)에 여과부재(330)를 공급하여 여과배출부(300)의 제2배출관(320)을 감쌀 수 있도록 한다.

이러한 상태에서 도 4에 도시된 바와 같이, 유입수가 전처리부(100)의 유입관(111)을 통해 배플(120) 내부로 유입되면, 상기 유입수는 배플(120)의 다공판의 내체(121)를 통과하여 외체(122) 내면을 따라 회전하면서 와류를 형성함과 동시에 유입수에 포함된 협잡물의 일부는 배플(120)의 다공판 내체(121)에서 여과되나, 상기 유입수의 회전력과 구심력 및 자중에 의해 회전하면서 배플(120)의 하부로 이동한다.

이때, 상기 배플(120)의 하부로 이동하는 협잡물은 역류방지부재(140)를 통 과하여 배플(120)의 외부인 전처리조(110) 내부로 이동함과 동시에 전처리조(110) 내부로 이동한 협잡물은 역류방지부재(140)가 내부로 경사지게 형성되어 있으므로 배플(120) 내부로 역류하지 못한다.

여기서, 전처리조(110) 내부로 유입된 유입수의 일부는, 여과배출부(300)의 여과부재(330)에서 오염성물질이 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)으로 배출되며, 상기 제2배출관(320)으로 배출되는 여과수보다 유입수의 유입량이 많음으로 전처리조(110)에 저장되면서 수위가 높아지게 된다.

상기의 과정으로 협잡물이 제거된 유입수는 배플(120)에 연결된 제1공급관(112)을 경유하여 후처리부(200)의 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)의 바닥면에서 퍼지면서 저장되는데, 상기 바닥면에서 퍼지는 유입수의 압력에 의해 여과배출부(300)의 여과부재(330)가 제2배출관(320)에서 이탈될 수 있기 때문에 상기 제2배출관(320)의 배출공(미도시)은 제2배출관(320)의 양단에 관통됨이 바람직하며, 상기 배출공(미도시)은 여과부재(330)가 빠져나가지 않는 크기로 관통되는 것이 바람직하므로, 상기 여과배출부(300)로 여과되어 배출되는 여과수는 소량이다.

또한 상기 제2배출관(320)으로 배출되어 후처리조(210) 내부로 유입된 대부분의 유입수는 여과부(230)에서 처리하는데, 상기 여과배출부(300)의 여과부재(330)에서 오염성물질이 여과된 후, 제2배출관(320)으로 배출되는 여과수보다 제2배출관(320)으로 유입되는 유입수의 유입량이 많음으로 전처리조(210)에 저장되면서 수위가 높아진다.

상기 후처리조(210)로 유입되는 유입수의 수위가 높아져 여과부(230)에 위치 하면, 상기 유입수에 포함된 침전성물질은 유입수 내에서 부유하여 침전여과판(231)의 경사진 케이스(231a) 상면에 안착됨과 동시에 소정각도 즉, 60~70°로 경사진 케이스(231a) 상면을 따라 자중으로 하강하면서 후처리조(210)의 바닥면에 침전된다.

또한, 상기 유입수에 포함된 오염성물질은 침전여과판(231)의 타공판(231d)을 통과하여 다수의 여재(231c)를 통해 오염성물질을 여과하는데, 상기 여재(231c)의 제1여재는 공극밀도가 넓은 것으로, 1mm 이상의 오염성물질을 여과시키고, 상기 제1여재보다 공극밀도가 조밀한 제2여재는, 1mm 이내의 오염성물질을 여과시키며, 상기 제2여재보다 공극밀도가 더 조밀한 제3여재는, 1㎛ 이내의 오염성물질을 여과시키고, 상기 제3여재보다 공극밀도가 더 조밀한 제4여재는 100㎛ 이하의 미세입자까지 여과된 여과수는 메쉬형 스트레나(231b)를 경유하여 연결관(232)으로 공급되나, 상기 제1 내지 제4여재는 사용자의 선택 및 유입수의 여과질에 따라 여재의 갯수를 줄이거나 늘릴 수 있는 것이다.

이때, 상기 후처리조(210)에 저장되는 유입수량이 많아 유입수의 수위가 점점 상승하면, 상기 침전여과판(231)의 여과면적이 넓어지므로 오염성물질을 여과하는 여과량이 향상됨과 아울러 상기 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)의 바닥면에서 퍼지도록 유입수가 공급되어 후처리조(210)에 저장되는 유입수의 유동성을 완화시켜 비교적 정적인 상태를 유지하므로 침전성물질의 침전효과를 증대시킬 수 있을 뿐만 아니라 상기 침전여과판(231)은 침전성물질의 침전을 안내하는 기능과 오염성물질을 여과하는 기능을 동시에 수행할 수 있는 것이다.

상기 다수의 여재(231c)에서 오염성물질이 여과된 여과수는 연결관(232)을 경유하여 제1배출관(233)을 통해 외부로 배출된다.

또한, 상기 전처리조(110)로 과다 유입되어 후처리조(210)로 공급되지 않은 잉여 유입수는 유입관(111)과 동일 선상으로 형성된 잉여배출관(113)을 통해 외부로 배출되도록 하며, 상기 잉여배출관(113)은, 후처리조(210)의 상단부에 설치할 수도 있다.

또한, 상기 전처리조(110)로부터 유입되는 유입수의 공급이 중단되면, 상기 유입수의 오염성물질이 여과부(230)에서 여과됨과 동시에 오염성물질이 여과된 여과수는 제1배출관(233)을 통해 외부로 배출되면서 후처리조(210)에 위치한 유입수의 수위가 여과부(230)보다 낮아질 경우, 상기 여과부(230)에서 유입수의 오염성물질을 여과하지 못한다.

상기 여과부(230)보다 유입수의 수위가 낮아져 오염성물질을 여과부(230)에서 여과하지 못할 경우, 유입수는 후처리조(210)의 경사진 바닥면을 통해 여과배출부(300)의 설치공간(310)으로 이동함과 아울러 유입수의 오염성물질이 여과부재(330)에서 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)을 통해 서서히 외부로 배출되면서 후처리조(210) 내부에 유입수가 잔류되지 않음으로 후처리조(210) 내부는 건조된 상태를 유지하게 되는 것이다.

또한, 상기 전처리조(110)로 유입되어 후처리조(210)로 공급되지 못한 유입수는 여과배출부(300)의 설치공간(330)에 위치한 여과부재(330)에서 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)을 통해 서서히 외부로 배출되어 전처리조(110) 내 부에 유입수가 잔류되지 않음으로 전처리조(110) 내부는 건조된 상태를 유지하게 되는 것이며, 본 발명의 전처리조(110)의 협잡물과 후처리조(210)의 침전성물질 및 여재(231c)에서 여과된 오염성물질은 정기적으로 제거해 주어야 됨을 밝혀둔다.

이상과 같이 본 발명은, 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정되어 해석되어서는 아니되며, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 일실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 발명의 청구범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도 1은 본 발명의 정면 구성도

도 2는 본 발명의 평면 구성도

도 3은 본 발명의 측면 구성도

도 4은 본 발명의 작동상태도

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

100: 전처리부 110: 전처리조

120: 배플 130: 높이조절부

140: 역류방지부재 200: 후처리부

210: 후처리조 220: 제2공급관

230: 여과부 231: 침전여과판

232: 연결관 233: 제1배출관

300: 여과배출부 310: 설치공간

320: 제2배출관 330: 여과부재

Claims (11)

1. 유입관이 배플에 연접되어 유입수로 유입되는 유입수가 회전하여 유입되도록 하고, 상기 유입관과 제1공급관의 위치에 따라 배플의 높이를 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부와;

   상기 전처리부로부터 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질이 1개 이상의 침전여과판의 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 침전여과판에 공극밀도를 달리하여 장착된 다수의 여재를 통해 오염성물질을 여과시켜 배출하는 후처리부와;

   상기 후처리부로 공급되지 않은 전처리부의 잔류 유입수와 상기 침전여과판의 하부에 수면이 위치하는 후처리부의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
2. 청구항1에 있어서, 전처리부는,

   상기 유입관과 제1공급관이 설치된 전처리조와;

   상기 전처리조 내부에 유입관과 연접되는 배플과;

   상기 배플의 설치 높이를 조절하는 높이조절부를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
3. 청구항 2에 있어서, 높이조절부는,

   상기 배플의 하부에 결합공이 일정간격 이격되게 관통되어 장착되는 제1링크와;

   상기 제1링크의 결합공과 결합공이 연통되게 관통되어 전처리조 바닥면에 고정되는 제2링크와;

   상기 제1링크의 결합공과 제2링크의 결합공에 결합되어 고정하는 고정부재를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
4. 청구항 2에 있어서,

   상기 배플의 하부에 장착되어 협잡물의 역류를 방지하도록 내측으로 경사진 역류방지부재를 더 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
5. 청구항 1에 있어서, 후처리부는,

   상기 전처리부의 제1공급관으로 공급되는 유입수를 수용하는 후처리조와;

   상기 제1공급관에 결합되어 전처리부의 제1공급관으로 공급되는 유입수가 후처리조의 바닥면으로 공급되도록 하는 제2공급관과;

   상기 제2공급관을 통해 후처리조에 저장되는 유입수에 포함된 오염성물질을 여과하여 배출하는 여과부를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
6. 청구항 5에 있어서, 여과부는,

   상기 후처리조에 유입된 유입수에 포함된 부유하는 침전성물질이 경사진 상면을 따라 침전되도록 하고, 상기 유입수에 포함된 오염성물질은 공극밀도를 달리하는 다수의 여재를 통해 여과하는 침전여과판과;

   상기 침전여과판을 통해 여과된 여과수가 제1배출관으로 배출되도록 하는 연결관과;

   상기 연결관으로 공급되는 여과수를 후처리조의 외부로 배출하는 제1배출관을 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
7. 청구항 6에 있어서, 침전여과판은,

   상기 연결관이 결합되며, 내부에 공간이 요입되는 케이스와;

   상기 케이스에 내장되는 메쉬형 스트레나와

   상기 메쉬형 스트레나에 밀착되도록 케이스에 장착되어 오염성물질을 제거하 도록 장착되는 다수의 여재와;

   상기 다수의 여재를 가압하여 케이스에 장착되는 타공판을 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
8. 청구항 1 또는 청구항 6 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,

   상기 침전여과판은 50~80°로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
9. 청구항 1에 있어서, 여과배출부는,

   상기 전처리부의 전처리조 바닥면과 후처리부의 후처리조 바닥면이 연통되도록 요입되는 설치공간과;

   상기 설치공간에 장착되어 잔류 여과수를 배출하도록 다수의 배출공이 타공된 제2배출관과;

   상기 제2배출관을 감싸 전처리조와 후처리조에 위치한 유입수를 여과하는 여과부재를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
10. 청구항 9에 있어서,

    상기 설치공간이 바닥면의 양단보다 낮아지도록 전처리조와 후처리조의 바닥면이 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.
11. 청구항 1에 있어서,

    상기 전처리부와 후처리부가 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 침전여과판을 이용한 오염성물질 제거장치.

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