JPS6241793B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6241793B2 JPS6241793B2 JP22090882A JP22090882A JPS6241793B2 JP S6241793 B2 JPS6241793 B2 JP S6241793B2 JP 22090882 A JP22090882 A JP 22090882A JP 22090882 A JP22090882 A JP 22090882A JP S6241793 B2 JPS6241793 B2 JP S6241793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- nozzle
- small holes
- coating liquid
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本装置は、回転塗布装置に使用する塗布ノズル
に関するものである。
に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来の回転塗布装置の構成を第１図に示す。
１は被塗布物で、主に円形を成している。２は
塗布液で、３は塗布液を吹出すノズルである。図
に示すように、被塗布物（以降ワークと呼ぶ）を
回転させながら１本のノズル３をワーク１の半径
方向に移転させると同時に塗布液２を塗布してい
く。このとき、ノズル３のワーク１上の軌跡は、
らせん状になり、ノズル３の移動速度がワーク１
の回転に対して速すぎると、ワーク１が１回転す
るごとに塗布されない部分が残つてしまい、均一
な塗布膜が得られない。一方、ワーク１の回転速
度は、塗布液の種類、粘度等の条件により、速く
しすぎると気泡を巻き込む等の不良を発生するの
で、無制限に速くはできない。このことから、従
来の塗布方法で、塗りムラなく、所定の厚さで塗
布するには、ワーク１の回転数も、ノズル３の移
動速度も低く抑えなくてはならず、塗布工程の時
間短縮を困難なものにしている。
塗布液で、３は塗布液を吹出すノズルである。図
に示すように、被塗布物（以降ワークと呼ぶ）を
回転させながら１本のノズル３をワーク１の半径
方向に移転させると同時に塗布液２を塗布してい
く。このとき、ノズル３のワーク１上の軌跡は、
らせん状になり、ノズル３の移動速度がワーク１
の回転に対して速すぎると、ワーク１が１回転す
るごとに塗布されない部分が残つてしまい、均一
な塗布膜が得られない。一方、ワーク１の回転速
度は、塗布液の種類、粘度等の条件により、速く
しすぎると気泡を巻き込む等の不良を発生するの
で、無制限に速くはできない。このことから、従
来の塗布方法で、塗りムラなく、所定の厚さで塗
布するには、ワーク１の回転数も、ノズル３の移
動速度も低く抑えなくてはならず、塗布工程の時
間短縮を困難なものにしている。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、塗布しながら、半径
方向に移動する必要のないノズルを提供するもの
である。
方向に移動する必要のないノズルを提供するもの
である。
発明の構成
本発明は、塗布部分の半径方向の幅に相当する
長さの溝部と、該溝部の底面に適当な間隔で設け
られた複数個の小孔と、これら複数個の小孔を連
結するように設けられた横穴と、この横穴の適当
な箇所に塗布液が供給されるように設けられた供
給穴とを有し、前記複数の小孔はその開口位置に
対応した回転半径に合わせて口径を変えることに
より、半径の違いによつて生じる塗布面全体に所
定量の塗布液を塗布出来るノズルを提供するもの
で、塗布時間を大幅に短縮することができる。
長さの溝部と、該溝部の底面に適当な間隔で設け
られた複数個の小孔と、これら複数個の小孔を連
結するように設けられた横穴と、この横穴の適当
な箇所に塗布液が供給されるように設けられた供
給穴とを有し、前記複数の小孔はその開口位置に
対応した回転半径に合わせて口径を変えることに
より、半径の違いによつて生じる塗布面全体に所
定量の塗布液を塗布出来るノズルを提供するもの
で、塗布時間を大幅に短縮することができる。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について図面を参照しな
がら説明する。第２図は本発明のノズルを使用し
て、円形のワークに塗布している状態を示すもの
で、４はワーク、５は塗布液、６はノズル、７は
ノズル６が取りつけられたデイスペンサである。
がら説明する。第２図は本発明のノズルを使用し
て、円形のワークに塗布している状態を示すもの
で、４はワーク、５は塗布液、６はノズル、７は
ノズル６が取りつけられたデイスペンサである。
第３図は本発明のノズルの正面図で、８がノズ
ル本体、９はノズルをデイスペンサ７に固定する
ための専用ナツトである。第４図は本発明のノズ
ルの第３図のＡ−Ａ面で切断した場合の平面断面
図である。第５図は同Ｂ−Ｂ面で切断した場合の
側面断面図である。図中１０はデイスペンサから
の供給穴、１１は供給穴１０から流入した塗布液
５を複数の小孔１２に同時に送る横穴である。１
２は小孔で、ここを通つた塗布液は溝部１３を経
て外部に流れ出る。
ル本体、９はノズルをデイスペンサ７に固定する
ための専用ナツトである。第４図は本発明のノズ
ルの第３図のＡ−Ａ面で切断した場合の平面断面
図である。第５図は同Ｂ−Ｂ面で切断した場合の
側面断面図である。図中１０はデイスペンサから
の供給穴、１１は供給穴１０から流入した塗布液
５を複数の小孔１２に同時に送る横穴である。１
２は小孔で、ここを通つた塗布液は溝部１３を経
て外部に流れ出る。
次に塗布液が供給穴１０から溝部１３を経て外
部に出るまでの過程を述べながら、ノズル各部の
作用を説明する。供給穴１０の開口部にはテーパ
が設けてあり、デイスペンサ７の先端とすき間無
くはめ合わされる。デイスペンサ７から圧送され
た塗布液は、供給穴１０を通つて横穴１１に流入
する。横穴１１は、小孔１２に比べ充分大きい内
径であるので、まず横穴１１全体に塗布液が満た
される。塗布液は横穴１１に充満すると、ほぼ同
時に複数の小孔１２から流出して溝部１３に入
る。ここで隣接する小孔から流出した塗布液は溝
部１３から流出するまでに合流して、ワーク４に
塗布されるときには、塗布部分を相当する幅を持
つた塗布液の流れとなつている。ここで、小孔１
２の口径をその開口位置に対応するワーク４の半
径に比例して変化をつけてやると、塗布された液
の厚みを一定にすることができる。このことを第
６図を用いて説明する。今、塗布部分の最内周の
半径をr1、最外周の半径をr2とし、r1部の塗布厚
をt1、r2部の塗布厚をt2とすると、r1とt1の関係は
次のように表わされる。今、r1の部分を口径がｄ
なるノズルで塗布すると考え、その単位時間当り
の塗布量をｇとする。さらにワーク４の単位時間
当りの回転数をｎとすれば塗布厚t1は、t1＝ｇ／
２πr1nと表わされる。この式のr1をr2に変えれ
ば、当然t2も求められる。もしr2がr1の２倍であ
ればt2はt1の1/2となり第６図に示すようにワーク
４の内周から外周に行くに従つて膜厚が薄くなつ
てしまう。t1＝t2にするためには、ｇをｒに比例
して大きくするか、外周ほど回転数ｎを小さくす
るかであるが、後者は、本発明のように、同時に
内、外周を塗る方法では不可能である。ｇは大き
くするには、ｄを大きくしてやれば良く、本発明
ではこの考え方に基いて小孔１２の径を変えてい
るのである。
部に出るまでの過程を述べながら、ノズル各部の
作用を説明する。供給穴１０の開口部にはテーパ
が設けてあり、デイスペンサ７の先端とすき間無
くはめ合わされる。デイスペンサ７から圧送され
た塗布液は、供給穴１０を通つて横穴１１に流入
する。横穴１１は、小孔１２に比べ充分大きい内
径であるので、まず横穴１１全体に塗布液が満た
される。塗布液は横穴１１に充満すると、ほぼ同
時に複数の小孔１２から流出して溝部１３に入
る。ここで隣接する小孔から流出した塗布液は溝
部１３から流出するまでに合流して、ワーク４に
塗布されるときには、塗布部分を相当する幅を持
つた塗布液の流れとなつている。ここで、小孔１
２の口径をその開口位置に対応するワーク４の半
径に比例して変化をつけてやると、塗布された液
の厚みを一定にすることができる。このことを第
６図を用いて説明する。今、塗布部分の最内周の
半径をr1、最外周の半径をr2とし、r1部の塗布厚
をt1、r2部の塗布厚をt2とすると、r1とt1の関係は
次のように表わされる。今、r1の部分を口径がｄ
なるノズルで塗布すると考え、その単位時間当り
の塗布量をｇとする。さらにワーク４の単位時間
当りの回転数をｎとすれば塗布厚t1は、t1＝ｇ／
２πr1nと表わされる。この式のr1をr2に変えれ
ば、当然t2も求められる。もしr2がr1の２倍であ
ればt2はt1の1/2となり第６図に示すようにワーク
４の内周から外周に行くに従つて膜厚が薄くなつ
てしまう。t1＝t2にするためには、ｇをｒに比例
して大きくするか、外周ほど回転数ｎを小さくす
るかであるが、後者は、本発明のように、同時に
内、外周を塗る方法では不可能である。ｇは大き
くするには、ｄを大きくしてやれば良く、本発明
ではこの考え方に基いて小孔１２の径を変えてい
るのである。
発明の効果
以上のように本発明は、塗布部に相当する長さ
の溝部と、その底面に開口した複数の小孔と小孔
を連結するように設けられた横穴と、横穴に塗布
液を供給する供給穴とを設け、さらに前記小孔の
それぞれの口径を塗布部の半径に比例して順次大
きくしたことにより、塗布部全体を同時に塗れ、
さらにその膜厚を半径方向に揃えられるので、塗
布時間の短縮と塗布品質の向上に対してその効果
は大なるものがある。
の溝部と、その底面に開口した複数の小孔と小孔
を連結するように設けられた横穴と、横穴に塗布
液を供給する供給穴とを設け、さらに前記小孔の
それぞれの口径を塗布部の半径に比例して順次大
きくしたことにより、塗布部全体を同時に塗れ、
さらにその膜厚を半径方向に揃えられるので、塗
布時間の短縮と塗布品質の向上に対してその効果
は大なるものがある。
第１図は従来の塗布方法を示す斜視図、第２図
は本発明の実施例における塗布方法を示す斜視
図、第３図は本発明の実施例におけるノズルの正
面図第４図は第３図Ａ−Ａ線で切断した場合のノ
ズルの平面断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ線で
切断した場合のノズルの側面断面図、第６図は半
径と膜厚の関係を示す概念図である。 ４……被塗布物、５……塗布液、６……ノズ
ル、１０……供給穴、１１……横穴、１２……小
孔、１３……溝部。
は本発明の実施例における塗布方法を示す斜視
図、第３図は本発明の実施例におけるノズルの正
面図第４図は第３図Ａ−Ａ線で切断した場合のノ
ズルの平面断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ線で
切断した場合のノズルの側面断面図、第６図は半
径と膜厚の関係を示す概念図である。 ４……被塗布物、５……塗布液、６……ノズ
ル、１０……供給穴、１１……横穴、１２……小
孔、１３……溝部。
Claims (1)
- １ 塗布部分の半径方向の幅に相当する長さの溝
部と、該溝部の底面に適当な間隔で設けられた複
数個の小孔と、これら複数個の小孔を連結するよ
うに設けられた横穴と、この横穴の適当な箇所に
塗布液が供給されるように設けられた供給穴を有
し前記複数の小孔はその開口位置に対応した被塗
布物の半径に比例して口径を順次大きくしてなる
回転塗布装置用ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22090882A JPS59109273A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 回転塗布装置用ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22090882A JPS59109273A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 回転塗布装置用ノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59109273A JPS59109273A (ja) | 1984-06-23 |
| JPS6241793B2 true JPS6241793B2 (ja) | 1987-09-04 |
Family
ID=16758412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22090882A Granted JPS59109273A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 回転塗布装置用ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59109273A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012157434A1 (ja) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 膜状塗布ノズル、塗布装置および塗布方法 |
| CN102899463A (zh) * | 2012-10-09 | 2013-01-30 | 无锡信德隆工业炉有限公司 | 直线水帘装置 |
| WO2020231747A1 (en) * | 2019-05-12 | 2020-11-19 | Magik Eye Inc. | Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images |
| US11002537B2 (en) | 2016-12-07 | 2021-05-11 | Magik Eye Inc. | Distance sensor including adjustable focus imaging sensor |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6351972A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-05 | Nitto Seiko Co Ltd | 自動グリス塗布方法およびその装置 |
| JPH0641869U (ja) * | 1992-06-30 | 1994-06-03 | 株式会社シーテック | 液体塗布用ノズル |
| NL1020701C2 (nl) * | 2002-05-29 | 2003-12-02 | Stichting Energie | Werkwijze en inrichting voor het op een laag van een nanokristallijn eerste materiaal aanbrengen van een laag van een tweede materiaal. |
| JP4767482B2 (ja) * | 2003-07-08 | 2011-09-07 | ノードソン コーポレーション | 液体又は溶融体の塗布方法及びノズル |
| DE102004002421A1 (de) * | 2004-01-16 | 2005-08-18 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
| JP2007058200A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-03-08 | Hoya Corp | マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 |
| JP6847566B1 (ja) * | 2020-10-01 | 2021-03-24 | 中外炉工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
-
1982
- 1982-12-15 JP JP22090882A patent/JPS59109273A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012157434A1 (ja) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 膜状塗布ノズル、塗布装置および塗布方法 |
| JP2012239930A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Musashi Eng Co Ltd | 膜状塗布ノズル、塗布装置および塗布方法 |
| CN103596700A (zh) * | 2011-05-16 | 2014-02-19 | 武藏工业株式会社 | 膜状涂布喷嘴、涂布装置及涂布方法 |
| CN102899463A (zh) * | 2012-10-09 | 2013-01-30 | 无锡信德隆工业炉有限公司 | 直线水帘装置 |
| US11002537B2 (en) | 2016-12-07 | 2021-05-11 | Magik Eye Inc. | Distance sensor including adjustable focus imaging sensor |
| WO2020231747A1 (en) * | 2019-05-12 | 2020-11-19 | Magik Eye Inc. | Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images |
| US11019249B2 (en) | 2019-05-12 | 2021-05-25 | Magik Eye Inc. | Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59109273A (ja) | 1984-06-23 |
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