JPS596305B2 - １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
１，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS596305B2 JPS596305B2 JP3077980A JP3077980A JPS596305B2 JP S596305 B2 JPS596305 B2 JP S596305B2 JP 3077980 A JP3077980 A JP 3077980A JP 3077980 A JP3077980 A JP 3077980A JP S596305 B2 JPS596305 B2 JP S596305B2
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- Japan
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- triazole
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１・２・３−トリアゾール誘導体の新規な製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
さらに詳しくいうと、本発明は、一般式Ｒ〃−Ｎ’Ｎ、
Ｈ（Ｉ）
ＲＲ’
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基又はアリール基であ
り、Ｒ’はカルボン酸基又はその官能性誘導体基あるい
はアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基であ
り、Ｒ″はアルキル基又はアリール基を示す）で表わさ
れる１・２・３−トリアゾール誘導体の製造方法に関す
るものである。
り、Ｒ’はカルボン酸基又はその官能性誘導体基あるい
はアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基であ
り、Ｒ″はアルキル基又はアリール基を示す）で表わさ
れる１・２・３−トリアゾール誘導体の製造方法に関す
るものである。
このような１・２・３−トリアゾール誘導体は、医薬、
農薬などの中間体として有用である。前記したような１
・２・３−トリアゾール誘導体は、従来は、一般的に、
４アセチレン誘導体とアジド化合物をオートクレーブ中
高温処理して得るか又は２ビニル化合物とアジド化合物
を反応させて得られた１・２・３−トリアゾリン誘導体
を酸化処理することによつて製造されていた。
農薬などの中間体として有用である。前記したような１
・２・３−トリアゾール誘導体は、従来は、一般的に、
４アセチレン誘導体とアジド化合物をオートクレーブ中
高温処理して得るか又は２ビニル化合物とアジド化合物
を反応させて得られた１・２・３−トリアゾリン誘導体
を酸化処理することによつて製造されていた。
しかしながら、これらの従来法においては、４の方法の
場合、アセチレン誘導体の入手の問題、オートクレーブ
の使用が必要であるなどの反応条件の問題、２の方法の
場合、第２段目の反応で酸化反応を含み、収率の低下を
引き起こすなどの問題があつた。本発明は、このような
従来法とは異なり、一般式（式中、Ｒ及びＲ’は前記と
同じであり、ｘはハロゲン原子である）で表わされるハ
ロゲン化ビニル化合物と、一般式（式中、Ｒ″ は前記
と同じである）で表わされるアジド化合物とを反応させ
た後、アルカリ処理又は加熱処理することを特徴とする
。
場合、アセチレン誘導体の入手の問題、オートクレーブ
の使用が必要であるなどの反応条件の問題、２の方法の
場合、第２段目の反応で酸化反応を含み、収率の低下を
引き起こすなどの問題があつた。本発明は、このような
従来法とは異なり、一般式（式中、Ｒ及びＲ’は前記と
同じであり、ｘはハロゲン原子である）で表わされるハ
ロゲン化ビニル化合物と、一般式（式中、Ｒ″ は前記
と同じである）で表わされるアジド化合物とを反応させ
た後、アルカリ処理又は加熱処理することを特徴とする
。
本発明の反応を化学式で示すと次の通りである。前記式
（ｍにおけるＲの具体例としては、メチル、エチル、プ
ロピル、シクロヘキシルなどの鎖状又は環状のアルキル
基、フエニル、ベンジル、トリルなどのアリール基が挙
げられる。また、式（ｎで示したハロゲン原子ｘの具体
例としては、塩素や臭素を挙げることができ、また置換
基Ｒ’は、カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）又はそれから常
法により誘導されるカルボン酸の官能性誘導体基、ある
いはアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基で
あり、この場合カルボキシ基の官能性誘導体基の具体例
としては、エステル基（−ＣＯＯＲ．Ｒはメチル、エチ
ル、プロピル、シクロヘキシルなどのァ，Ｌ／キル基、
フェニル、ベンジルなどのアリール基）、シアノ基（−
ＣＮ）、アミド基、アルキルカルボニル基の官能性誘導
体基の具体例としては、メチルカルボニル基、エチルカ
ルボニル基、アリールカルボニル基の官能性誘導体基の
具体例として、フエニルカルボニル基、トリルカルボニ
ル基が挙げられる。式叫におけるＲ″ の具体例として
は、メチル、エチル、プロピル、オクチル、ドデシル
シクロヘキシルなどのアルキル基、フエニル、ベンジル
、β−フエニルエチルなどのアリール基が挙げられる。
本発明で用いる原料化合物（Ｑとしては、Ｘとして臭素
を含むものが好ましい。
（ｍにおけるＲの具体例としては、メチル、エチル、プ
ロピル、シクロヘキシルなどの鎖状又は環状のアルキル
基、フエニル、ベンジル、トリルなどのアリール基が挙
げられる。また、式（ｎで示したハロゲン原子ｘの具体
例としては、塩素や臭素を挙げることができ、また置換
基Ｒ’は、カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）又はそれから常
法により誘導されるカルボン酸の官能性誘導体基、ある
いはアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基で
あり、この場合カルボキシ基の官能性誘導体基の具体例
としては、エステル基（−ＣＯＯＲ．Ｒはメチル、エチ
ル、プロピル、シクロヘキシルなどのァ，Ｌ／キル基、
フェニル、ベンジルなどのアリール基）、シアノ基（−
ＣＮ）、アミド基、アルキルカルボニル基の官能性誘導
体基の具体例としては、メチルカルボニル基、エチルカ
ルボニル基、アリールカルボニル基の官能性誘導体基の
具体例として、フエニルカルボニル基、トリルカルボニ
ル基が挙げられる。式叫におけるＲ″ の具体例として
は、メチル、エチル、プロピル、オクチル、ドデシル
シクロヘキシルなどのアルキル基、フエニル、ベンジル
、β−フエニルエチルなどのアリール基が挙げられる。
本発明で用いる原料化合物（Ｑとしては、Ｘとして臭素
を含むものが好ましい。
このような化合物は、アクリル酸又はその官能性誘導体
を臭素化してその二重結合に臭素を付加させた後、脱臭
化水素を行うことになり容易に得ることができる。本発
明の反応は、無溶媒又は反応溶媒の存在下で行われ、反
応温度は１０〜１００℃、好ましくは２０〜４０℃であ
る。反応溶媒としては反応物を溶解させ得るものであれ
ば任意であり、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジオキサンなどが好適であり、殊にジメチルホ
ルムアミドが好ましい。反応生成物は、アルカリ処理又
は加熱処理する。
を臭素化してその二重結合に臭素を付加させた後、脱臭
化水素を行うことになり容易に得ることができる。本発
明の反応は、無溶媒又は反応溶媒の存在下で行われ、反
応温度は１０〜１００℃、好ましくは２０〜４０℃であ
る。反応溶媒としては反応物を溶解させ得るものであれ
ば任意であり、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジオキサンなどが好適であり、殊にジメチルホ
ルムアミドが好ましい。反応生成物は、アルカリ処理又
は加熱処理する。
このアルカリ処理又は加熱処理は、反応生成物である１
・２・３−トリアゾン誘導体から脱ハロゲン化水素を行
わせ、目的とするトリアゾール誘導体を得ることを目的
として行うもので、この場合、アルカリ処理は、アルカ
リとしては、トリエチルアミン、ピリジンジメチルアニ
リンなどの有機アミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機アルカ
リを用いて室温で１〜２時間行う。加熱処理は、反応生
成物を、８０〜１００℃において、１〜２時間加熱する
ことによつて実施される。従来法では、アクリル酸メチ
ルエステルとフェニルアジドを、５日間２５℃暗中放置
して７７％の収率で得た１−フエニル一４−メトキシカ
ルボニル−１・２・３−トリアゾリンを、過マンガン酸
カリで酸化することにより３４％の収率で１−フエニル
一４ホメトキシカルボニル一１・ ２ ・ ３ −トリ
アゾールを得ることができる。すなわちアクリル酸とメ
チルエステルからの目的生成物の収率は２６．２％であ
り、本発明による目的生成物の収率９１％の１／３以下
である。また、１−フエニル一４−エトキシカルボニル
−１・２・３−トリアゾールでの収率は従来法で３０．
５％であるが本発明では７５％である。
・２・３−トリアゾン誘導体から脱ハロゲン化水素を行
わせ、目的とするトリアゾール誘導体を得ることを目的
として行うもので、この場合、アルカリ処理は、アルカ
リとしては、トリエチルアミン、ピリジンジメチルアニ
リンなどの有機アミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機アルカ
リを用いて室温で１〜２時間行う。加熱処理は、反応生
成物を、８０〜１００℃において、１〜２時間加熱する
ことによつて実施される。従来法では、アクリル酸メチ
ルエステルとフェニルアジドを、５日間２５℃暗中放置
して７７％の収率で得た１−フエニル一４−メトキシカ
ルボニル−１・２・３−トリアゾリンを、過マンガン酸
カリで酸化することにより３４％の収率で１−フエニル
一４ホメトキシカルボニル一１・ ２ ・ ３ −トリ
アゾールを得ることができる。すなわちアクリル酸とメ
チルエステルからの目的生成物の収率は２６．２％であ
り、本発明による目的生成物の収率９１％の１／３以下
である。また、１−フエニル一４−エトキシカルボニル
−１・２・３−トリアゾールでの収率は従来法で３０．
５％であるが本発明では７５％である。
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。実施
例 １ α一臭化メチルアクリル酸エステル２．０７とベンジル
アジド１．３ｔを無溶媒で温度２０℃で３週間暗中に放
置しておく。
例 １ α一臭化メチルアクリル酸エステル２．０７とベンジル
アジド１．３ｔを無溶媒で温度２０℃で３週間暗中に放
置しておく。
反応後、反応混合物にトリエチルアミン１．０ｆを含む
ベンゼンを５０ｍ１加え１時間攪拌する。不溶物を口別
し、口液をエバポレートして生成物２．０７（収率９１
％）を得た。このものは元素分析及びＲ．ＮＭＲ．Ｍａ
ｓｓスペクトル分析の結果１−ベンジル−４−メトキシ
カルボニル−１・２・３−トリアゾールであることが確
認された。実施例 ２ 実施例１と同様にしてα一臭化エチルアクリル酸エステ
ル１．０ｙとβ−フエニルエチルアジド０．７ｔを４日
間室温で反応させてトリエチルアミンで処理した後、生
成物１−フエニルエチル一４−エトキシカルボニルが１
・２・３−トリアゾール０．９ｔ（収率７５％）得られ
た。
ベンゼンを５０ｍ１加え１時間攪拌する。不溶物を口別
し、口液をエバポレートして生成物２．０７（収率９１
％）を得た。このものは元素分析及びＲ．ＮＭＲ．Ｍａ
ｓｓスペクトル分析の結果１−ベンジル−４−メトキシ
カルボニル−１・２・３−トリアゾールであることが確
認された。実施例 ２ 実施例１と同様にしてα一臭化エチルアクリル酸エステ
ル１．０ｙとβ−フエニルエチルアジド０．７ｔを４日
間室温で反応させてトリエチルアミンで処理した後、生
成物１−フエニルエチル一４−エトキシカルボニルが１
・２・３−トリアゾール０．９ｔ（収率７５％）得られ
た。
実施例 ３
実施例１と同様にしてα一臭化アクリル酸１．５ｔとベ
ンジルアジド１．３ｔを室温４日間放置してトリエチレ
ン処理すると１−ベンジル−４−カルボキシル−１・２
・３−トリアゾールが１．８ｙ（収率８８％）得られた
。
ンジルアジド１．３ｔを室温４日間放置してトリエチレ
ン処理すると１−ベンジル−４−カルボキシル−１・２
・３−トリアゾールが１．８ｙ（収率８８％）得られた
。
実施例 ４
実施例３において、反応溶媒としてジメチルホルムアミ
ド３ｍ１を加え室温で１２日間放置したのちトリエチル
アミン処理すると、実施例３の生成物が１．３ｙ（収率
６５％）得られた。
ド３ｍ１を加え室温で１２日間放置したのちトリエチル
アミン処理すると、実施例３の生成物が１．３ｙ（収率
６５％）得られた。
実施例 ５
実施例１と同様にしてα一臭化ビニルメチルケトン１．
８ｔとベンジルアジド１．３ｒを室温で３週間放置した
のちトリエチルアミン処理すると生成物１−ベンジル−
４−メチルカルボニル−１・２・３−トリアゾールが０
．８ｔ（収率４０％）得られた。
８ｔとベンジルアジド１．３ｒを室温で３週間放置した
のちトリエチルアミン処理すると生成物１−ベンジル−
４−メチルカルボニル−１・２・３−トリアゾールが０
．８ｔ（収率４０％）得られた。
実施例 ６
実施例１と同様にしてα一臭化アクリルアミド１．０ｙ
とベンジルアジド１．０ｒを室温で４日間放置後トリエ
チルアミン処理すると１−ベンジル−４−アミノカルボ
ニル−１・２・３−トリアゾールが１．０ｒ（収率６９
％）得られた。
とベンジルアジド１．０ｒを室温で４日間放置後トリエ
チルアミン処理すると１−ベンジル−４−アミノカルボ
ニル−１・２・３−トリアゾールが１．０ｒ（収率６９
％）得られた。
実施例 ７
実施例１と同様にしてα一臭化エチルアクリル酸エステ
ル１．０Ｖとｎ−オクチルアジド０．８ｆを室温６日間
放置後トリエチルアミン０．６ｔで処理すると、１−ｎ
−オクチル−４−メトキシカルボニルニＪ．．・２・３
−トリアゾールが０．８７ｆ（収率６７％）得られた。
ル１．０Ｖとｎ−オクチルアジド０．８ｆを室温６日間
放置後トリエチルアミン０．６ｔで処理すると、１−ｎ
−オクチル−４−メトキシカルボニルニＪ．．・２・３
−トリアゾールが０．８７ｆ（収率６７％）得られた。
実施例 ８
実施例１において同様の処理で得られた反応中間体を、
トリエチルアミンを加える代りに、１００℃で１時間無
溶媒で加熱することにより、１−トリアゾールを収率８
５％で得た。
トリエチルアミンを加える代りに、１００℃で１時間無
溶媒で加熱することにより、１−トリアゾールを収率８
５％で得た。
実施例 ９
実施例３において同様の処理で得られた反応中間体を、
トリエチルアミンを加える代りに、８０℃で２時間無溶
媒で加熱することにより１−ベンジル−４−カルボキシ
ル−１・２・３−トリアゾールを収率８２％で得た。
トリエチルアミンを加える代りに、８０℃で２時間無溶
媒で加熱することにより１−ベンジル−４−カルボキシ
ル−１・２・３−トリアゾールを収率８２％で得た。
実施例 １０
実施例１において、原料として、以下の式における生成
物のＲ．Ｒ′およびｒに対応するものを用いた以外は同
様にして実験を行つて、以下の式で示される化合物を得
た、生成物の収率を次表に示す。
物のＲ．Ｒ′およびｒに対応するものを用いた以外は同
様にして実験を行つて、以下の式で示される化合物を得
た、生成物の収率を次表に示す。
なお、以下の表に示した生成物は次の式で表わされる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素、アルキル基又はアリール基であり、
Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ′はカルボキシル基又はそ
の官能性誘導体基あるいはアルキルカルボニル又はアリ
ールカルボニル基である）で現わされるハロゲン化ビニ
ル化合物と、一般式Ｒ″−Ｎ＿３（式中、Ｒ″はアルキ
ル基又はアリール基である）で表わされるアジド化合物
とを反応させた後、アルカリ処理又は加熱処理すること
を特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ′、Ｒ″は前記と同じ） で表わされる１・２・３−トリアゾール誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3077980A JPS596305B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3077980A JPS596305B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56127363A JPS56127363A (en) | 1981-10-06 |
| JPS596305B2 true JPS596305B2 (ja) | 1984-02-10 |
Family
ID=12313160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3077980A Expired JPS596305B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596305B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60176301A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-10 | Sony Corp | マイクロ波回路 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL189232B1 (pl) * | 1996-07-11 | 2005-07-29 | Novartis Ag | Sposób wytwarzania 1-podstawionych 4-cyjano-1,2,3-triazoli |
| US7238719B2 (en) | 2002-02-01 | 2007-07-03 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Process for producing 1,2,3-Triazole compounds |
| WO2012025936A2 (en) * | 2010-08-25 | 2012-03-01 | Ramamohan Rao Davuluri | Improved process for the preparation of rufinamide |
| CN109096211B (zh) * | 2018-08-30 | 2021-11-23 | 华侨大学 | 一种多取代三氮唑衍生物的制备方法 |
-
1980
- 1980-03-11 JP JP3077980A patent/JPS596305B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60176301A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-10 | Sony Corp | マイクロ波回路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56127363A (en) | 1981-10-06 |
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