JPS6212790A - ３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法 - Google Patents
３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法Info
- Publication number
- JPS6212790A JPS6212790A JP14927385A JP14927385A JPS6212790A JP S6212790 A JPS6212790 A JP S6212790A JP 14927385 A JP14927385 A JP 14927385A JP 14927385 A JP14927385 A JP 14927385A JP S6212790 A JPS6212790 A JP S6212790A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diacyl
- deoxyribofuranosyl
- deoxy
- group
- methylribofuranose
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、３．５−ジアシル−２−デオキシリボフラノ
シルハライド類の製法に関する。
シルハライド類の製法に関する。
３．５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライ
ド類は、２′−デオキシヌクレオシド類の合成における
重要な合成中間体として知られている。本化合物の一般
的な合成法としては、例えば、Ｍ、 Ｐ、 ＫＯｔｉＣ
ｋ等が報告しているように［ＪＱｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、
３４．３８０６（１９６９） ］ 、 ］３．５−
ビスｐ−クロロベンゾイル）−１−メチルリボフラノー
スを、酢酸中で、高濃度の塩化水素と反応させる方法が
よく知られている。しかしながら、この方法では、酢酸
中に無水塩化水素を導入し、高濃度の塩化水素溶液を調
製することが必要であり、少」あるいは工業的規模で合
成する場合においても、操作が煩雑になり危険が伴うな
どの点で問題がある。
ド類は、２′−デオキシヌクレオシド類の合成における
重要な合成中間体として知られている。本化合物の一般
的な合成法としては、例えば、Ｍ、 Ｐ、 ＫＯｔｉＣ
ｋ等が報告しているように［ＪＱｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、
３４．３８０６（１９６９） ］ 、 ］３．５−
ビスｐ−クロロベンゾイル）−１−メチルリボフラノー
スを、酢酸中で、高濃度の塩化水素と反応させる方法が
よく知られている。しかしながら、この方法では、酢酸
中に無水塩化水素を導入し、高濃度の塩化水素溶液を調
製することが必要であり、少」あるいは工業的規模で合
成する場合においても、操作が煩雑になり危険が伴うな
どの点で問題がある。
そこで、本発明者等は、３．５−ジアシル−２−デオキ
シリボフラノシルハライド類を効率的かつ安全に得る方
法を鋭意検討した結果、ハロゲンイオンの供給源として
塩化アセチル又は臭化アセチルを使用すれば、３，５−
ジアシル−２−デオキシリボワラシルハライド類が効率
的かつ安全に収率よく得られることを見い出し、本発明
に到達した。
シリボフラノシルハライド類を効率的かつ安全に得る方
法を鋭意検討した結果、ハロゲンイオンの供給源として
塩化アセチル又は臭化アセチルを使用すれば、３，５−
ジアシル−２−デオキシリボワラシルハライド類が効率
的かつ安全に収率よく得られることを見い出し、本発明
に到達した。
すなわち、本発明は、下記式［Ｉ］
［式中、Ｒはアシル基を表わす。］
で表わされる３、５−ジアシル−２−デオキシ−１−メ
チルリボンフラノース類を、ハロゲン化アセチルと処理
することを特徴とする、 下記式［ｎ］ ［式中、Ｒは前記定義と同じ。Ｘは塩素又は臭素を表わ
す。］ で表わされる３、５−ジアシル−２−デオキシリボフラ
ノシルハライド類の製法である。
チルリボンフラノース類を、ハロゲン化アセチルと処理
することを特徴とする、 下記式［ｎ］ ［式中、Ｒは前記定義と同じ。Ｘは塩素又は臭素を表わ
す。］ で表わされる３、５−ジアシル−２−デオキシリボフラ
ノシルハライド類の製法である。
本発明において用いられる、前記式［Ｉ］で表わされる
３、５−ジアシル−２−デオキシ−１−メチルリボフラ
ノース類は、いかなる方法で製造してもかまわないが、
例えば、デオキシリボースを塩化水素−メタノールで処
理した後、ピリジン中アシルハライド類と処理すること
によって製造することが出来る。
３、５−ジアシル−２−デオキシ−１−メチルリボフラ
ノース類は、いかなる方法で製造してもかまわないが、
例えば、デオキシリボースを塩化水素−メタノールで処
理した後、ピリジン中アシルハライド類と処理すること
によって製造することが出来る。
前記式［Ｉ］及び［ＩＩ］において、Ｒはアシル基を表
わす。
わす。
２つのアシル基は同一でも異なっていてもよい。
アシル基としては通常用いられるいかなる基でもかまわ
ないが、例えば、アセチル基、プロピオニル基等、脂肪
族アシル基、ベンゾイル基、ｐ−トルオイル基、ｐ−ニ
トロベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メト
キシベンシル基、ｐ−ブロモベンゾイル１５．ｏ−クロ
ロベンゾイル基。
ないが、例えば、アセチル基、プロピオニル基等、脂肪
族アシル基、ベンゾイル基、ｐ−トルオイル基、ｐ−ニ
トロベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メト
キシベンシル基、ｐ−ブロモベンゾイル１５．ｏ−クロ
ロベンゾイル基。
ｍ−クロロベンゾイル基等の、置換又は非置換の芳香族
アシル基を挙げることが出来るが、これに限定されるも
のではない。
アシル基を挙げることが出来るが、これに限定されるも
のではない。
本発明の反応は、通常、溶媒中で行なわれるが、用いら
れる溶媒は、反応を阻害しないものであればいかなるも
のでもかまわない。
れる溶媒は、反応を阻害しないものであればいかなるも
のでもかまわない。
例えば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、四
塩化、炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、酢酸、ジ
オキサンジメトキシエタン、水等を使用することが出来
る。また、これらの溶媒を適宜混合してもよい。
塩化、炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、酢酸、ジ
オキサンジメトキシエタン、水等を使用することが出来
る。また、これらの溶媒を適宜混合してもよい。
反応温度は、溶媒によって異なるが、通常−３０℃から
５０℃の間で行われ、特に−１０℃から３０℃の間にて
行うことが好ましい。反応時間は、反応溶媒と温度に依
存して変化するが、通常１５分から１０時間程度である
。用いる塩化又は臭化アセチルの量は、式［Ｉ］の化合
物に対し、通常、１当量以上１０当量程度までの間で十
分である。
５０℃の間で行われ、特に−１０℃から３０℃の間にて
行うことが好ましい。反応時間は、反応溶媒と温度に依
存して変化するが、通常１５分から１０時間程度である
。用いる塩化又は臭化アセチルの量は、式［Ｉ］の化合
物に対し、通常、１当量以上１０当量程度までの間で十
分である。
かくして得られた前記式［ＩＩ］で表わされる３、５−
ジアシル−２−デオキシ”リボフラノシルハライド類は
、通常、反応液中から析出するのでこれを濾取し、減圧
乾燥する。反応液中からの析出虻 量が少ない場合には、適宜濃縮するか、難溶性溶ド 媒を加えることもある。濾取して得られた３、５
Ｂツア、）、−２−アオヤ、’）＊７う、ッ、
。７、うイ１、 １類は、そのまま次に行うべき反応
の原料として用 １いてもよいが、必要に応じ
て再結晶してもよい。
ジアシル−２−デオキシ”リボフラノシルハライド類は
、通常、反応液中から析出するのでこれを濾取し、減圧
乾燥する。反応液中からの析出虻 量が少ない場合には、適宜濃縮するか、難溶性溶ド 媒を加えることもある。濾取して得られた３、５
Ｂツア、）、−２−アオヤ、’）＊７う、ッ、
。７、うイ１、 １類は、そのまま次に行うべき反応
の原料として用 １いてもよいが、必要に応じ
て再結晶してもよい。
再結晶溶媒としては、例えば、四塩化炭素、酢酸エチル
、酢酸等が用いられる。
、酢酸等が用いられる。
以下、実施例を挙げて本発明を詳述する。
１′
ト
実施例１．
（３，５−ｔ？□。−ウ。。、ッツィ／１ｚ）−２
−７１オキシ−１−メチルリボフラノース７９．３９
□″（０，１８７ｍｏｌｅ）を１５０
ｄの酢酸に溶解し、これに室温で塩化アセチル２７ｄを
滴下した。これを４時間撹拌した後、ヘキサン７０−を
加え結晶を濾取し、少量の酢酸続いてヘキサンで洗い、
減圧にて乾燥し、３．５−ビス（ｐ−クロロベンゾイル
）−２＝デオキシリボフラノシルクロリド６２．８９を
得た（収率７８％）。
（３，５−ｔ？□。−ウ。。、ッツィ／１ｚ）−２
−７１オキシ−１−メチルリボフラノース７９．３９
□″（０，１８７ｍｏｌｅ）を１５０
ｄの酢酸に溶解し、これに室温で塩化アセチル２７ｄを
滴下した。これを４時間撹拌した後、ヘキサン７０−を
加え結晶を濾取し、少量の酢酸続いてヘキサンで洗い、
減圧にて乾燥し、３．５−ビス（ｐ−クロロベンゾイル
）−２＝デオキシリボフラノシルクロリド６２．８９を
得た（収率７８％）。
得られたものは、そのままでも次に行うべき反応の原料
として用いることが出来るが、さらに四塩化炭素より再
結晶を行うと、下記の物性を与える結晶が得られた。
として用いることが出来るが、さらに四塩化炭素より再
結晶を行うと、下記の物性を与える結晶が得られた。
融点：１２４〜１２５℃
ＨＮ Ｍ Ｒ（ＣＤ Ｃ１３）δ ２，６５〜２．９（
ｍ 。
ｍ 。
２Ｈ）、 ４．５〜４．９ （ｍ、３ Ｈ） 、
５．３５〜５．６（ｆｉｌ 、 １ Ｈ） 、 ６．
３〜６．５（＋ａ。
５．３５〜５．６（ｆｉｌ 、 １ Ｈ） 、 ６．
３〜６．５（＋ａ。
１ Ｈ） 、 ７．３２ （ｄ 、 ２Ｈ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ ） 、 ７．３５ （ｄ 、 ２Ｈ，
Ｊ＝ ８．５Ｈ２） 、 ７．８７ （ｄ 、 ２
Ｈ，Ｊ＝ ８．５Ｈ２） 、 ７．９５ （ｄ 、
２Ｈ，Ｊ−８，５Ｈ７＞。
８．５Ｈｚ ） 、 ７．３５ （ｄ 、 ２Ｈ，
Ｊ＝ ８．５Ｈ２） 、 ７．８７ （ｄ 、 ２
Ｈ，Ｊ＝ ８．５Ｈ２） 、 ７．９５ （ｄ 、
２Ｈ，Ｊ−８，５Ｈ７＞。
Ｃ−Ｃ−１３Ｎ （ＣＤ（Ｊ３ ）Ｉ）Ｉ）ｍ ４
４．４，６３，８゜７３．９，８４，５，９５．１．
１２７．８． １２７，９゜１２８．９． １３
１．０． １３１．２． １３９．．８゜１４０．
１． １６５．１． １６５．４゜元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） 計算値 ： ５３．１ ３．５１実測値 ：
５２，８６ ３．４２実施例２゜ ３．５−ビス（ｐ−クロロベンゾイル）−２−デオキシ
−１−メチルリボフラノース５０ｇ（０，１１８ｍｏｌ
ｅ）を７０７の酢酸に溶解し、塩化アセチル１６ＩＲ１
、次いで水０．４ｄを加え２０℃で３時間撹拌した。次
いで実施例１と同様に処理して、３．５−ビス（ｐ−ク
ロロベンゾイル）−２−デオキシリボフラノシルクロリ
ド４２．１９を得た（収率８３％）。このものの物性は
、実施例１で得られたものと同様であった。
４．４，６３，８゜７３．９，８４，５，９５．１．
１２７．８． １２７，９゜１２８．９． １３
１．０． １３１．２． １３９．．８゜１４０．
１． １６５．１． １６５．４゜元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） 計算値 ： ５３．１ ３．５１実測値 ：
５２，８６ ３．４２実施例２゜ ３．５−ビス（ｐ−クロロベンゾイル）−２−デオキシ
−１−メチルリボフラノース５０ｇ（０，１１８ｍｏｌ
ｅ）を７０７の酢酸に溶解し、塩化アセチル１６ＩＲ１
、次いで水０．４ｄを加え２０℃で３時間撹拌した。次
いで実施例１と同様に処理して、３．５−ビス（ｐ−ク
ロロベンゾイル）−２−デオキシリボフラノシルクロリ
ド４２．１９を得た（収率８３％）。このものの物性は
、実施例１で得られたものと同様であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・［ I
］ ［式中、Ｒはアシル基を表わす。］ で表わされる３，５−ジアシル−２−デオキシ−１−メ
チルリボフラノース類を、ハロゲン化アセチルと処理す
ることを特徴とする、 下記式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・［II］ ［式中、Ｒは前記定義と同じ。Ｘは塩素又は臭素を表わ
す。］ で表わされる３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラ
ノシルハライド類の製法。 ２、前記式［ I ］および［II］において、Ｒが置換又
は非置換ベンゾイル基である特許請求範囲第１項記載の
３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライ
ド類の製法。 ３、前記式［ I ］及び［II］において、Ｒがパラクロ
ロベンゾイル基である特許請求の範囲第１項又は第２項
記載の３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシル
ハライド類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14927385A JPS6212790A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | ３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14927385A JPS6212790A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | ３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212790A true JPS6212790A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15471611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14927385A Pending JPS6212790A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | ３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212790A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5325583A (en) * | 1976-08-19 | 1978-03-09 | Upjohn Co | Production of novel 5*66 dihydroocin *s**triazine nucleoside and nucleotide |
-
1985
- 1985-07-09 JP JP14927385A patent/JPS6212790A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5325583A (en) * | 1976-08-19 | 1978-03-09 | Upjohn Co | Production of novel 5*66 dihydroocin *s**triazine nucleoside and nucleotide |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6212790A (ja) | ３，５−ジアシル−２−デオキシリボフラノシルハライド類の製法 | |
| JPH03255066A (ja) | β―ラクタム誘導体の製法 | |
| US5142040A (en) | Process for preparing a 3-formylcephem derivative | |
| JPS63258442A (ja) | テトラフルオロフタル酸の製造方法 | |
| US6147215A (en) | Process for producing 1-chlorocarbonyl-4-piperidinopiperidine or hydrochloride thereof | |
| US5290943A (en) | Method of producing 2-acyl amino 5-halogenopyridine compounds | |
| US4438276A (en) | Process for synthesizing N-isopropyl-N'-o-carbomethoxyphenylsulphamide | |
| US4279836A (en) | Hydroxamic acid derivative and method of preparing metoclopramide using same | |
| JPH05286894A (ja) | カルボン酸エステル又はカルボン酸チオエステルの新規製造方法 | |
| JPS596305B2 (ja) | １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 | |
| JP3048001B2 (ja) | クロロスルホニルピラゾール化合物の製造法 | |
| JPH05279305A (ja) | ３′−アミノ−２′−ヒドロキシアセトフェノンの製造方法 | |
| JP2500316B2 (ja) | １，４，５，８―テトラキス（ハロゲノメチル）ナフタレン誘導体、およびその製造方法 | |
| JPS62195344A (ja) | 新規中間体の製法 | |
| JPH04264075A (ja) | チアゾリジン−２−オン誘導体の製造方法 | |
| JPS63112588A (ja) | トリアゾ−ル誘導体の製造方法 | |
| JPH06734B2 (ja) | シアン化アシルの製造方法 | |
| JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 | |
| JPS5914036B2 (ja) | リフアマイシンｓｖ誘導体の新規製造法 | |
| JPH01238548A (ja) | ナフタレン―１，４，５，８―テトラカルボン酸テトラアルキルエステルの製造方法 | |
| JPH01168673A (ja) | １，３−ジアルキルピラゾール−４−アルデヒド類の製造法 | |
| JPH0128013B2 (ja) | ||
| JPH03251558A (ja) | Ｎ―（３’，４’―ジメトキシシンナモイル）アントラニル酸の製造方法 | |
| JPS6383096A (ja) | ステロイド化合物の製造法 | |
| JPS6130571A (ja) | ３−フエニル−４−シアノピロ−ル類の製造方法 |