JPH04264075A - チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 - Google Patents
チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法Info
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- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は農薬,医薬などの中間体
として有用なチアゾリジン−2−オン誘導体の工業的有
利な製造方法に関する。
として有用なチアゾリジン−2−オン誘導体の工業的有
利な製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】従来、チアゾリジン−2−オン誘導体は種
々の反応ルートにより製造されうることが知られている
。例えば特開昭62−84067号公報には置換されて
もよい硫酸水素−β−アミノエチル又は同β−クロロエ
チルアミン塩酸塩と硫化カルボニルとを脱酸剤及ひ溶媒
の存在下に反応させることによりこのものを製造するこ
とが知られている。
々の反応ルートにより製造されうることが知られている
。例えば特開昭62−84067号公報には置換されて
もよい硫酸水素−β−アミノエチル又は同β−クロロエ
チルアミン塩酸塩と硫化カルボニルとを脱酸剤及ひ溶媒
の存在下に反応させることによりこのものを製造するこ
とが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、この
方法で用いられる原料の前記硫酸水素−β−アミノエチ
ル又はβ−クロロエチルアミン塩酸塩は通常、対応する
β−アミノエタノールに硫酸化剤又は塩素化剤を作用さ
せることにより製造されるため前記β−アミノエタノー
ルに比し高価であり、一方原料の硫化カルボニルは毒性
か強く、常温で気体であるため輸送、取扱などに難点が
あって、工業的実施面で問題点があった。
方法で用いられる原料の前記硫酸水素−β−アミノエチ
ル又はβ−クロロエチルアミン塩酸塩は通常、対応する
β−アミノエタノールに硫酸化剤又は塩素化剤を作用さ
せることにより製造されるため前記β−アミノエタノー
ルに比し高価であり、一方原料の硫化カルボニルは毒性
か強く、常温で気体であるため輸送、取扱などに難点が
あって、工業的実施面で問題点があった。
【0004】
【発明の構成】本発明者達はチアゾリジン−2−オン誘
導体の工業的有利な製造方法を検討していたところ、オ
キサゾリジン−2−チオン誘導体を一定温度以上、望ま
しくは一定の物質の存在下に加熱すると目的のチアゾリ
ジン−2−オン誘導体が生成することを見出し、一方、
原料のオキサゾリジン−2−チオン誘導体は前記β−ア
ミノエタノールと常温で液体の二硫化炭素とから直接製
造されうるので、この方法によれば前述の問題点を解消
することができることを見出した。
導体の工業的有利な製造方法を検討していたところ、オ
キサゾリジン−2−チオン誘導体を一定温度以上、望ま
しくは一定の物質の存在下に加熱すると目的のチアゾリ
ジン−2−オン誘導体が生成することを見出し、一方、
原料のオキサゾリジン−2−チオン誘導体は前記β−ア
ミノエタノールと常温で液体の二硫化炭素とから直接製
造されうるので、この方法によれば前述の問題点を解消
することができることを見出した。
【0005】本発明は一般式(I)
【0006】
【化1】
【0007】(式中X1、X2、X3及びX4は水素原
子、ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基又はハ
ロゲン原子で置換されてもよいフェニル基である)で表
わされるオキサゾリジン−2−チオン誘導体又はその塩
を50℃以上に加熱して一般式(II)
子、ハロゲン原子で置換されてもよいアルキル基又はハ
ロゲン原子で置換されてもよいフェニル基である)で表
わされるオキサゾリジン−2−チオン誘導体又はその塩
を50℃以上に加熱して一般式(II)
【0008】
【化2】
【0009】(式中X1、X2、X3及びX4は前述の
とおりである)で表わされるチアゾリジン−2−オン又
はその塩を製造する方法である。
とおりである)で表わされるチアゾリジン−2−オン又
はその塩を製造する方法である。
【0010】前記一般式(I)及び(II)に於けるX
1〜X4の定義中、ハロゲン原子で置換されてもよいア
ルキル基又は同フェニル基が含むハロゲン原子としては
弗素、塩素、臭素などが挙げられ、またアルキル基とし
てはメチル、エチル、プロピルなどの炭素数1〜6のも
のが挙げられる。また前記一般式(I)及び(II)で
表わされる化合物中ではオキサゾリジン−2−チオン又
はチアゾリジン−2−オンがそれぞれ望ましい。
1〜X4の定義中、ハロゲン原子で置換されてもよいア
ルキル基又は同フェニル基が含むハロゲン原子としては
弗素、塩素、臭素などが挙げられ、またアルキル基とし
てはメチル、エチル、プロピルなどの炭素数1〜6のも
のが挙げられる。また前記一般式(I)及び(II)で
表わされる化合物中ではオキサゾリジン−2−チオン又
はチアゾリジン−2−オンがそれぞれ望ましい。
【0011】本発明の原料物質である前記オキサゾリジ
ン−2−チオン誘導体又はその塩は種々の反応ルートに
より容易に製造されうるが、その代表的製造方法を下記
する。
ン−2−チオン誘導体又はその塩は種々の反応ルートに
より容易に製造されうるが、その代表的製造方法を下記
する。
【0012】ハロゲン原子で置換されていてもよいアル
キル基又は同フェニル基を有するβ−アミノエタノール
と二硫化炭素とを溶媒の存在下に加熱することにより、
対応する前記オキサゾリジン−2−チオン誘導体を容易
に製造することができる。溶媒としてはジメチルスルホ
キシドなどが使用される。また必要に応じて水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、またナトリ
ウムアミドなどがアルカリ物質として使用される。
キル基又は同フェニル基を有するβ−アミノエタノール
と二硫化炭素とを溶媒の存在下に加熱することにより、
対応する前記オキサゾリジン−2−チオン誘導体を容易
に製造することができる。溶媒としてはジメチルスルホ
キシドなどが使用される。また必要に応じて水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、またナトリ
ウムアミドなどがアルカリ物質として使用される。
【0013】反応原料の使用量は一概に規定できないが
、前記β−アミノエタノール1モル当り二硫化炭素が1
.0〜10モル並ひにアルカリ物質が0.01〜1.0
モルであり、また、溶媒は前記β−アミノエタノール1
重量部当り5〜100重量部である。反応は普通30〜
70℃に加熱して0.5〜10時間で終了するが、アル
カリ物質としてアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、ナト
リウムアミドを存在させた場合、前記オキサゾリジン−
2−チオン誘導体のアルカリ金属塩が生成する。
、前記β−アミノエタノール1モル当り二硫化炭素が1
.0〜10モル並ひにアルカリ物質が0.01〜1.0
モルであり、また、溶媒は前記β−アミノエタノール1
重量部当り5〜100重量部である。反応は普通30〜
70℃に加熱して0.5〜10時間で終了するが、アル
カリ物質としてアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、ナト
リウムアミドを存在させた場合、前記オキサゾリジン−
2−チオン誘導体のアルカリ金属塩が生成する。
【0014】この反応に於ては前記β−アミノエタノー
ルが直接使用でき、また二硫化炭素も安価で大量に入手
できかつ、毒性が低く常温で液体であるので、輸送、反
応操作などの面で取扱い易い。この反応によれば例えば
収率70%以上で目的のオキサゾリジン−2−チオンを
得ることができる。
ルが直接使用でき、また二硫化炭素も安価で大量に入手
できかつ、毒性が低く常温で液体であるので、輸送、反
応操作などの面で取扱い易い。この反応によれば例えば
収率70%以上で目的のオキサゾリジン−2−チオンを
得ることができる。
【0015】本発明では前記オキサゾリジン−2−チオ
ン誘導体又はその塩を50℃以上望ましくは70℃以上
に加熱することにより目的物の前記チアゾリジン−2−
オン誘導体又はその塩を製造することができるが、反応
温度が50℃を大幅に低下した場合目的物が生成しなか
ったり或はその生成率が著しく低くなったりするために
望ましくない。
ン誘導体又はその塩を50℃以上望ましくは70℃以上
に加熱することにより目的物の前記チアゾリジン−2−
オン誘導体又はその塩を製造することができるが、反応
温度が50℃を大幅に低下した場合目的物が生成しなか
ったり或はその生成率が著しく低くなったりするために
望ましくない。
【0016】本発明方法においては一般にオキサゾリジ
ン−2−チオン誘導体又はその塩を、水分の混入を防止
した系内で加熱下に攪拌することにより反応が行なわれ
るが、溶媒又は塩基物質のいずれか一方又は両方を存在
させることにより目的物のチアゾリジン−2−オン誘導
体又はその塩の生成を著しく促進させることができる。
ン−2−チオン誘導体又はその塩を、水分の混入を防止
した系内で加熱下に攪拌することにより反応が行なわれ
るが、溶媒又は塩基物質のいずれか一方又は両方を存在
させることにより目的物のチアゾリジン−2−オン誘導
体又はその塩の生成を著しく促進させることができる。
【0017】溶媒としてはオキサゾリジン一2−チオン
誘導体又はその塩を分散乃至溶解し、かつ反応に不活性
なものであればいずれのものでも使用でき、例えばジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドなどの非プロトン性極性溶媒或はトルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられるが、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドが望ましい
。
誘導体又はその塩を分散乃至溶解し、かつ反応に不活性
なものであればいずれのものでも使用でき、例えばジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドなどの非プロトン性極性溶媒或はトルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられるが、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドが望ましい
。
【0018】また塩基物質としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム
などのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、
水素化物などが挙げられるが、アルカリ金属の炭酸塩、
炭酸水素塩が望ましい。
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム
などのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、
水素化物などが挙げられるが、アルカリ金属の炭酸塩、
炭酸水素塩が望ましい。
【0019】溶媒又は塩基物質の使用量は原料物質とし
てのオキサゾリジン−2−チオン誘導休又はその塩の種
類、反応条件、反応装置などの相違により異なり一概に
規定できないが、溶媒は原料物質1重量部当り普通5〜
100重量部用いられ塩基物質は原料物質1モル当り普
通0.01〜1.0モル用いられる。
てのオキサゾリジン−2−チオン誘導休又はその塩の種
類、反応条件、反応装置などの相違により異なり一概に
規定できないが、溶媒は原料物質1重量部当り普通5〜
100重量部用いられ塩基物質は原料物質1モル当り普
通0.01〜1.0モル用いられる。
【0020】また反応温度、反応時間は同様に一概に規
定できないが、溶媒又は塩基物質を存在させた場合、普
通、反応温度は70〜130℃、反応時間は0.5〜1
0時間であり、溶媒又は塩基物質を存在させない場合、
反応温度はより高く、反応時間はより長くなる。
定できないが、溶媒又は塩基物質を存在させた場合、普
通、反応温度は70〜130℃、反応時間は0.5〜1
0時間であり、溶媒又は塩基物質を存在させない場合、
反応温度はより高く、反応時間はより長くなる。
【0021】一方、原料物質のオキサゾリジン−2−チ
オン誘導休又はその塩を、対応するβ−アミノエタノー
ルと二硫化炭素とを溶媒の存在下に製造する場合、一旦
、前記原料物質の生成を確認した後、必要ならば溶媒又
は塩基物質を添加し、引続いて、反応物を直接加熱して
所望の反応を行なうことにより目的物のチアゾリジン−
2−オン誘導体又はその塩を製造することができる。 この場合、原料物質及び目的物の製造工程を一貫して行
なうことができるので工業的実施面で利点がある。
オン誘導休又はその塩を、対応するβ−アミノエタノー
ルと二硫化炭素とを溶媒の存在下に製造する場合、一旦
、前記原料物質の生成を確認した後、必要ならば溶媒又
は塩基物質を添加し、引続いて、反応物を直接加熱して
所望の反応を行なうことにより目的物のチアゾリジン−
2−オン誘導体又はその塩を製造することができる。 この場合、原料物質及び目的物の製造工程を一貫して行
なうことができるので工業的実施面で利点がある。
【0022】かくして目的物を含む反応生成物は通常の
精製、分離手段に供することにより目的物を容易に単離
することができ、例えば純度95%以上、収率50%以
上で取得することができる。
精製、分離手段に供することにより目的物を容易に単離
することができ、例えば純度95%以上、収率50%以
上で取得することができる。
【0023】
【実施例】次に本発明に係る実施例を記載する。
【0024】実施例1.
塩化カルシウム管付き冷却管、温度計並ひにマグネット
回転子を備えた50ml容四ツ口フラスコに室温でオキ
サゾリジン−2−チオン2.0g(0.0194モル)
、炭酸ナトリウム0.62g(0.0058モル)及び
ジメチルスルホキシド40mlを入れた。オイルバスで
反応物を100℃に加熱し攪拌し乍ら1.5時間反応さ
せた。高速液体クロマトグラフイーで反応を追跡したと
ころオキサゾリジン−2−チオンのピークは殆んど消失
した。反応生成物を冷却後高速液体クロマトグラフィー
で濃度分析を行ったところチアゾリジン−2−オン1.
50g(0.0146モル)が得られた(収率75%)
。
回転子を備えた50ml容四ツ口フラスコに室温でオキ
サゾリジン−2−チオン2.0g(0.0194モル)
、炭酸ナトリウム0.62g(0.0058モル)及び
ジメチルスルホキシド40mlを入れた。オイルバスで
反応物を100℃に加熱し攪拌し乍ら1.5時間反応さ
せた。高速液体クロマトグラフイーで反応を追跡したと
ころオキサゾリジン−2−チオンのピークは殆んど消失
した。反応生成物を冷却後高速液体クロマトグラフィー
で濃度分析を行ったところチアゾリジン−2−オン1.
50g(0.0146モル)が得られた(収率75%)
。
【0025】実施例2.
前記実施例1に於て塩基物質としては水酸化カリウム0
.33g(0.0058モル)に、反応条件としては1
00℃で1時間加熱にそれぞれ変更し、他の条件は同様
にして実施したところ、チアゾリジン−2−オン0.9
6g(0.0093モル)が得られた(収率48%)。
.33g(0.0058モル)に、反応条件としては1
00℃で1時間加熱にそれぞれ変更し、他の条件は同様
にして実施したところ、チアゾリジン−2−オン0.9
6g(0.0093モル)が得られた(収率48%)。
【0026】実施例3.
前記実施例1に於て溶媒としてはジメチルホルムアミド
40mlに、反応条件としては100℃で3時間加熱に
それぞれ変更し、他の条件は同様にして実施したところ
、チアゾリジン−2−オン1.42g(0.0138モ
ル)が得られた(収率71%)。
40mlに、反応条件としては100℃で3時間加熱に
それぞれ変更し、他の条件は同様にして実施したところ
、チアゾリジン−2−オン1.42g(0.0138モ
ル)が得られた(収率71%)。
【0027】実施例4.
前記実施例1と同様の反応装置を用い室温でフラスコに
オキサゾリジン−2−チオン6.0g(0.058モル
)を入れ、120℃で2時間反応させた。高速液体クロ
マトグラフィーでオキサゾリジン−2−チオンのピーク
が殆んど消失していることを確認した。反応生成物を冷
却後、高速液体クロマトグラフィーで濃度分析を行った
ところチアゾリジン−2−オン0.90g(0.008
7モル)が得られた(収率15%)。
オキサゾリジン−2−チオン6.0g(0.058モル
)を入れ、120℃で2時間反応させた。高速液体クロ
マトグラフィーでオキサゾリジン−2−チオンのピーク
が殆んど消失していることを確認した。反応生成物を冷
却後、高速液体クロマトグラフィーで濃度分析を行った
ところチアゾリジン−2−オン0.90g(0.008
7モル)が得られた(収率15%)。
【0028】実施例5.
ゴム栓付き試験管にオキサゾリジン−2−チオンナトリ
ウム塩1.3g(0.010モル)を室温で入れ、オイ
ルバスで150℃に加熱し、時々ガラス棒で攪拌し乍ら
2時間反応させた。高速液体クロマトグラフィーでオキ
サゾリジン−2−チオンのピークが殆んど消失している
ことを確認し、反応生成物を冷却後、濃度分析を行った
ところチアゾリジン−2−オンナトリウム塩0.13g
(0.001モル)が得られた(収率10%)。
ウム塩1.3g(0.010モル)を室温で入れ、オイ
ルバスで150℃に加熱し、時々ガラス棒で攪拌し乍ら
2時間反応させた。高速液体クロマトグラフィーでオキ
サゾリジン−2−チオンのピークが殆んど消失している
ことを確認し、反応生成物を冷却後、濃度分析を行った
ところチアゾリジン−2−オンナトリウム塩0.13g
(0.001モル)が得られた(収率10%)。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中X1、X2、X3及びX4は水素原子、ハロゲン
原子で置換されてもよいアルキル基又はハロゲン原子で
置換されてもよいフェニル基である)で表わされるオキ
サゾリジン−2−チオン誘導体又はその塩を50℃以上
に加熱して一般式(II) 【化2】 (式中X1、X2、X3及びX4は前述のとおりである
)で表わされるチアゾリジン−2−オン誘導体又はその
塩を生成させることを特徴とするチアゾリジン−2−オ
ン誘導体の製造方法。 - 【請求項2】 前記オキサゾリジン−2−チオン誘導
体又はその塩を溶媒及び/又は塩基物質の存在下に加熱
して前記チアゾリジン−2−オン誘導体又はその塩を生
成させる請求項1の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10806891A JPH04264075A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10806891A JPH04264075A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04264075A true JPH04264075A (ja) | 1992-09-18 |
Family
ID=14475070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10806891A Pending JPH04264075A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | チアゾリジン−2−オン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04264075A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114315752A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-04-12 | 江苏禾本生化有限公司 | 一种噻螨酮中间体的光氧化工艺 |
WO2022053660A3 (en) * | 2020-09-14 | 2022-06-09 | Eurochem Antwerpen | N-heterocyclic compounds used as nitrification inhibitor |
US11780964B2 (en) | 2017-08-17 | 2023-10-10 | Basf Se | Process for the manufacturing of a polymer with urethane groups |
US11958823B2 (en) | 2017-08-17 | 2024-04-16 | Basf Se | Process for the manufacturing of a polymer with urethane groups |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP10806891A patent/JPH04264075A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11780964B2 (en) | 2017-08-17 | 2023-10-10 | Basf Se | Process for the manufacturing of a polymer with urethane groups |
US11958823B2 (en) | 2017-08-17 | 2024-04-16 | Basf Se | Process for the manufacturing of a polymer with urethane groups |
WO2022053660A3 (en) * | 2020-09-14 | 2022-06-09 | Eurochem Antwerpen | N-heterocyclic compounds used as nitrification inhibitor |
BE1028574B1 (nl) * | 2020-09-14 | 2022-12-06 | Eurochem Antwerpen | Heterocyclische verbindingen gebruikt als nitrificatieremmer |
CN114315752A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-04-12 | 江苏禾本生化有限公司 | 一种噻螨酮中间体的光氧化工艺 |
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