JPS5956780A - 発光ダイオ−ド - Google Patents

発光ダイオ−ド

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Publication number
JPS5956780A
JPS5956780A JP58157828A JP15782883A JPS5956780A JP S5956780 A JPS5956780 A JP S5956780A JP 58157828 A JP58157828 A JP 58157828A JP 15782883 A JP15782883 A JP 15782883A JP S5956780 A JPS5956780 A JP S5956780A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
type
xalxas
light emitting
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58157828A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuichi Ono
小野 佑一
Mitsuhiro Mori
森 光廣
Kazuhiro Ito
和弘 伊藤
Masahiko Kawada
河田 雅彦
Hitoshi Nakamura
均 中村
Kazuhiro Kurata
倉田 一宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58157828A priority Critical patent/JPS5956780A/ja
Publication of JPS5956780A publication Critical patent/JPS5956780A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/0004Devices characterised by their operation
    • H01L33/002Devices characterised by their operation having heterojunctions or graded gap
    • H01L33/0025Devices characterised by their operation having heterojunctions or graded gap comprising only AIIIBV compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光通信用に好適な発光ダイオードに関する。
光通信用の発光ダイオードの光出力と周波数応答(遮断
周波数)の間にはトレードオフの関係があム高出力で広
帯域を両方を兼ねそなえた発光ダイオードは、文献(信
学会技術資料二祥生地、電子部品材料ED77−52.
P−87)にあるように、活性層(発光領域)の両側の
エネルギーギャップをキャリアとじ込めに十分な程高め
、かつ活性層のキャリア濃度を1.3〜5.3X101
8c m ’−”の間で最大遮断周波数32 MHz 
、  光出力〜5 m Wのものが得られているにすぎ
ない。しかも、この例では活性層の幅はl tr mと
固定した場合に限られている。
第1図(a)は、従来の光通信用発光ダイオードの構造
を示したものであるが、P−()a、−、A71XAs
1の一方の表面にP電極2、他方に n−Ga1−xA71xAs層3 、 n”GaAs 
4 、5in25およびn電極6をそなえ、発光領域7
において発した光は、光取出し窓8から、外部に取出さ
れる0 このような構造の発光ダイオードは、活性層の両側にキ
ャリアとじ込め層を形成しないものであるが、活性層の
キャリア濃度を2×10〜3×1018cm−3と変え
て、 遮断周波数と光出力のキャリア濃度依存性を調べ
てみると、第2図曲線■に示したように、キャリア濃I
痰が高くなると、遮断周波数は高くなるが、光出力が極
端に低下してしまう、いわゆるトレードオフの関係に落
ち人ってしまうことが明らかになった。
本発明は、上記従来の問題を解決するために行なわれだ
もので、以下実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
第・1図(b)は、本発明の断面構造の一例を示す。
、光透過用の厚いP −Ga 、 、AA、As 11
の一方の表面上に1)4極12、他方の表面上にP−G
a、−xAJxAs (x=0 、2 ) 7113、
活性層としてXが小さいP −Ga +、 xAlxA
s (x =0.08)14、n −Ga 、 −xA
J、As (x = 0.2 )15、n”−Ga=x
AζA、s  (x= 0.05 ) L 6、S r
 0217 、n電極18をそなえており、上記活性層
14中の発光領域19からの光は、光取出し窓20から
外部へ取出をれる。
このような構造の発光ダイオードにおいて、上記P −
Oa 、 −、A71xA’s 13の厚さを、10〜
20a mに設定すると、従来の発光ダイオードにおけ
るような、遮断周波数と光出力のトレードオフは生ぜず
、極めてすぐれた特性が得られる。
すなわち、第2図曲線のは、本発明における、周波数応
答(遮断周波数)と光出力の活性層厚ζ依存性をキャリ
ア濃度k 2 X、1018cm ” として測定した
結果を示すが、活性層14の厚さが増すにしたがって遮
断周波数は茗るしく高くなり、一方、光出力はほぼ一定
となって、はとんど低下しない。これは曲線■に示した
、従来の発光ダイオードの特性とは全く異なる、本発明
の顕音な特長である。
本発明において、上記P−Ga、、AζAs層13の厚
さは重要であり、この厚さがほぼ10〜20μInの範
囲外にあると、遮断周波数および光出力は第2図に示し
た値よりも著るしく低下するので、P−Ga、−xAJ
、As 13の厚さはほぼ10〜20 tr rnであ
ることが必要である。
また、活性層14の厚さが0.5〜1.0μmの範囲内
にあると、遮断周波数は、第2図に示したように、十分
高くなるので、活性層14の厚さは、この範囲内にある
ことが好ましい。
上記説明は、便宜上、化合物半導体として()a、−x
AζAsを用いた例について説明したが、Ga、、Aζ
As以外の材料を用いた発光ダイオードでも、同様であ
シ、またXの値も上記値以外の値を、適宜選択すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、 (1))は、それぞれ、従来の発光
ダイオードおよび本発明の断面構造を示す図、第2図は
、従来の発光ダイオードと本発明の特性を比較した曲線
図である。 z、12・−P電極、6+ 18− n成極、7゜19
・・発光領域、14 ・活性層。 国分寺市東恋ケ窪−丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ヴ)発 明 者 倉田−宏 国分寺市東恋ケ窪−丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 厚さがほぼio〜20μmのP型化合物半導体層の一方
    の表面上に、混晶比が上記P型化合物半導体層より小さ
    い上記P型化合物半導体からなる活性層をそなえた発光
    ダイオード。
JP58157828A 1983-08-31 1983-08-31 発光ダイオ−ド Pending JPS5956780A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58157828A JPS5956780A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 発光ダイオ−ド

Applications Claiming Priority (1)

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JP58157828A JPS5956780A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 発光ダイオ−ド

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Publication Number Publication Date
JPS5956780A true JPS5956780A (ja) 1984-04-02

Family

ID=15658204

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58157828A Pending JPS5956780A (ja) 1983-08-31 1983-08-31 発光ダイオ−ド

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JP (1) JPS5956780A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62211970A (ja) * 1986-03-13 1987-09-17 Sanyo Electric Co Ltd 発光ダイオ−ド
JPH02224282A (ja) * 1988-07-05 1990-09-06 Hewlett Packard Co <Hp> 半導体発光装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS549592A (en) * 1977-06-23 1979-01-24 Nec Corp Luminous semiconductor element

Patent Citations (1)

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