JPS5940850A - 管状体内面のプラズマ処理装置 - Google Patents
管状体内面のプラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS5940850A JPS5940850A JP57151050A JP15105082A JPS5940850A JP S5940850 A JPS5940850 A JP S5940850A JP 57151050 A JP57151050 A JP 57151050A JP 15105082 A JP15105082 A JP 15105082A JP S5940850 A JPS5940850 A JP S5940850A
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- JP
- Japan
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- tubular body
- plasma
- gas
- vacuum
- valve
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
るいは表面被覆などのプラズマ処理を行なう方法および
装置に関する。
装置に関する。
たとえば、内径２〜５闘、肉厚０．５〜ｌ朋程度のポリ
エチレンチューブやシリコンチューブからなるいわゆる
人工血管のような管状材料は選択透過性、抗血栓性ある
いは素材からの可塑剤浸出阻止性などを賦与して改質を
行なう必要があるが１このために従来よりプラズマ処理
が採用されているＯ この方法は、管状材料を排気された処理室内においてそ
の内部に所定のガスを導入し電磁波をかけて管状体内に
上記ガスによるプラズマ現象を生起させ、ガスイオンに
よるスパッタリングやエツチングを行なうことにより上
記のような改質を行なう方法である。
エチレンチューブやシリコンチューブからなるいわゆる
人工血管のような管状材料は選択透過性、抗血栓性ある
いは素材からの可塑剤浸出阻止性などを賦与して改質を
行なう必要があるが１このために従来よりプラズマ処理
が採用されているＯ この方法は、管状材料を排気された処理室内においてそ
の内部に所定のガスを導入し電磁波をかけて管状体内に
上記ガスによるプラズマ現象を生起させ、ガスイオンに
よるスパッタリングやエツチングを行なうことにより上
記のような改質を行なう方法である。
あるいは、このような改質だけでなく、表面被覆、特に
特有の有機ガス（モノマー）を導入してポリマーにかえ
てこれによって管状体内面を被覆するいわゆるプラズマ
重合処理も行なわれる。
特有の有機ガス（モノマー）を導入してポリマーにかえ
てこれによって管状体内面を被覆するいわゆるプラズマ
重合処理も行なわれる。
ところで、管状体内にプラズマ現象を生起させる方式と
しては、電磁波がこれら材料を貫通する性質を利用し処
理室内において管状体の外方（内径方向にいう外方域）
に一定の電位をかけた電極を対設し、これより電磁波を
発生させる方法があるが、この電磁波は上記貫通性を有
するものの材料（管状体）に支障をきたすので高周波（
１３，５６ＭＨ２＋）が常用されている。
しては、電磁波がこれら材料を貫通する性質を利用し処
理室内において管状体の外方（内径方向にいう外方域）
に一定の電位をかけた電極を対設し、これより電磁波を
発生させる方法があるが、この電磁波は上記貫通性を有
するものの材料（管状体）に支障をきたすので高周波（
１３，５６ＭＨ２＋）が常用されている。
しかしながら、この高周波帯域は電波の漏洩など電波障
害問題を引き起し易い問題がある。高電位を付与する必
要から電源も大形となり危険性も大きい。
害問題を引き起し易い問題がある。高電位を付与する必
要から電源も大形となり危険性も大きい。
本発明はこのような問題を解決した管状体内面のプラズ
マ処理方法および装置を提供せんとするものである。
マ処理方法および装置を提供せんとするものである。
すなわち、本発明のプラズマ処理方法の特徴は被処理材
である管状体を排気した状態の処理室などに内置せずに
、管状体の両端開口部をそれぞれが排気された別々の真
空域に接続してその内方を排気するようにした点にあり
、さらにこのような方式において内方にプラズマ処理の
ためのガスを導入するとともに電磁波を発生させるため
の電極を管状体の端開口部に対置し、管状体内のみにお
いてプラズマ現象を生起させるようにした点であるＯ 本発明のプラズマ処理装置の特徴は、管状体の両端関口
部がそれぞれ接続される２個の真空箱を設け１一方の真
空箱を排気系に、また他方の真空箱をガス供給系に接続
し、両真空箱にそれぞれ一方の電極を内股してこの両電
極間すなわち管状体内方にプラズマ現象を生起させるよ
うにした点である。
である管状体を排気した状態の処理室などに内置せずに
、管状体の両端開口部をそれぞれが排気された別々の真
空域に接続してその内方を排気するようにした点にあり
、さらにこのような方式において内方にプラズマ処理の
ためのガスを導入するとともに電磁波を発生させるため
の電極を管状体の端開口部に対置し、管状体内のみにお
いてプラズマ現象を生起させるようにした点であるＯ 本発明のプラズマ処理装置の特徴は、管状体の両端関口
部がそれぞれ接続される２個の真空箱を設け１一方の真
空箱を排気系に、また他方の真空箱をガス供給系に接続
し、両真空箱にそれぞれ一方の電極を内股してこの両電
極間すなわち管状体内方にプラズマ現象を生起させるよ
うにした点である。
本発明によれば、電波障害などの問題が起らない低周波
すなわち可聴周波数の電磁波を利用することができる。
すなわち可聴周波数の電磁波を利用することができる。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
１は被処理物たる管状体で、たとえば内径２〜５闘、肉
厚０．５〜１酊程度のシリコンチューブであり、長さＬ
を有する。２．３はそれぞれ別個に配置された真空箱で
、それぞれ接続口２／ 、 ３／を有し接続具４．５を
介して管状体１０両両端口部が接続される。また、真空
箱２．３はそれぞれに系接続口２＃ 、３＃を有し、一
方の真空箱２にはこの系接続口２′ に開閉弁６を介し
て電気絶縁性を有する配管８が接続される。
厚０．５〜１酊程度のシリコンチューブであり、長さＬ
を有する。２．３はそれぞれ別個に配置された真空箱で
、それぞれ接続口２／ 、 ３／を有し接続具４．５を
介して管状体１０両両端口部が接続される。また、真空
箱２．３はそれぞれに系接続口２＃ 、３＃を有し、一
方の真空箱２にはこの系接続口２′ に開閉弁６を介し
て電気絶縁性を有する配管８が接続される。
配管８の先端には真空ポンプ１０が接続され、この真空
ポンプｌＯの動作により管状体１の内方とともに両真空
箱２．３が排気される。他方の真空箱３には系接続口３
′ に開閉弁７を介して配管９が接続される。この配管
９の先端にはガス源１１が接続される。このガス源１１
のガスはプラズマ処理用ガスが収容されており、開閉弁
７の開放によってガスを管状体１に導入する。ガスの種
類はプラズマ処理内容により選定される。
ポンプｌＯの動作により管状体１の内方とともに両真空
箱２．３が排気される。他方の真空箱３には系接続口３
′ に開閉弁７を介して配管９が接続される。この配管
９の先端にはガス源１１が接続される。このガス源１１
のガスはプラズマ処理用ガスが収容されており、開閉弁
７の開放によってガスを管状体１に導入する。ガスの種
類はプラズマ処理内容により選定される。
両真空箱２．３にはそれぞれ可聴周波′Ｉ＆電源１６に
接続された電極１４．１５が絶縁保持具１２．１３を介
して保持された状態で内股されている。
接続された電極１４．１５が絶縁保持具１２．１３を介
して保持された状態で内股されている。
真空ポンプ１０およびガス源１１（ガス流量計など）は
系の操作の都合上接地されてアース電位になっている。
系の操作の都合上接地されてアース電位になっている。
また、配管８．９内の圧力すなわち排気系およびガス供
給系の内圧は被処理物である管状体ｌの内圧より高い状
態に維持される。も、し管状体１内の圧力と配管８．９
内の圧力が等しいかあるいは配管８．９内の圧力の方が
管状体１内の圧力より低いと、真空ポンプ１０、ガス源
１１をアース電位にしていてもこれら配管８．９内でプ
ラズマ現象が生起して被処理物１の処理ができないこと
になる。したがって被処理物１の内圧を常に排気系、ガ
ス供給系より低圧にしてプラズマ現象を生起させるよ、
うにすることが重要である。
給系の内圧は被処理物である管状体ｌの内圧より高い状
態に維持される。も、し管状体１内の圧力と配管８．９
内の圧力が等しいかあるいは配管８．９内の圧力の方が
管状体１内の圧力より低いと、真空ポンプ１０、ガス源
１１をアース電位にしていてもこれら配管８．９内でプ
ラズマ現象が生起して被処理物１の処理ができないこと
になる。したがって被処理物１の内圧を常に排気系、ガ
ス供給系より低圧にしてプラズマ現象を生起させるよ、
うにすることが重要である。
このため最も簡単な方法としては、たとえば排気系、ガ
ス供給系に図示例のように被処理物１と同程度の細径の
配管を使用している場合は、配管８．９の長さを′Ｌ／
とするとＬ＜Ｉｌｌの関係を設定することである。
ス供給系に図示例のように被処理物１と同程度の細径の
配管を使用している場合は、配管８．９の長さを′Ｌ／
とするとＬ＜Ｉｌｌの関係を設定することである。
しかも配管８．９には電気的な絶縁性を有する材料が選
定される。
定される。
た！このような内圧条件は、たとえばプラズマＯＶＤの
ような処理の場合は、開閉弁６．７で配管８．９を閉塞
するから、配管８．９を大気をこ開放することによりプ
ラズマ現象を管状体１内のみに限ることは容易である。
ような処理の場合は、開閉弁６．７で配管８．９を閉塞
するから、配管８．９を大気をこ開放することによりプ
ラズマ現象を管状体１内のみに限ることは容易である。
ガス（モノ！−）を順次供給してポリマーをコーティン
グするプラズマ重合処理の場合は、上記以外に人為的に
または何らかの機構、手段を接続して配管の内圧を高く
設定することが必要である。
グするプラズマ重合処理の場合は、上記以外に人為的に
または何らかの機構、手段を接続して配管の内圧を高く
設定することが必要である。
本発明は以上のようにして被処理物たる管状体に対し改
質または被覆処理が可能である。
質または被覆処理が可能である。
特に改質の場合は、まず開閉弁フを閉じた後開閉弁６を
開き真空ポンプ１０を動作させて真空箱２．３そして管
状体１内を排気し１０ 〜１０ ｔｏｒｒ程度の真空に
する。次いで開閉弁フを用いてガス（無機ガス）を管状
体１内に導入する。次に両開閉弁６、フを閉じて両電極
１４．１５に一定の電位を印加し、ガスを放電させプラ
ズマ現象を生起させる。プラズマの生起によってガスイ
オンによるスパッタリングやエツチングが行なわれ内面
の加工による改質が行なわれる。
開き真空ポンプ１０を動作させて真空箱２．３そして管
状体１内を排気し１０ 〜１０ ｔｏｒｒ程度の真空に
する。次いで開閉弁フを用いてガス（無機ガス）を管状
体１内に導入する。次に両開閉弁６、フを閉じて両電極
１４．１５に一定の電位を印加し、ガスを放電させプラ
ズマ現象を生起させる。プラズマの生起によってガスイ
オンによるスパッタリングやエツチングが行なわれ内面
の加工による改質が行なわれる。
プラズマ重合処理の場合はある種のモノマーの有機ガス
をガス源より供給して行なう。すなわち開閉弁７を閉じ
弁６を開いて真空ホ゛ンブ１０を動作させ管状体１内を
排気する。次に開閉弁６を閉じ弁７を開いてモノマーを
管状体１に導入する。
をガス源より供給して行なう。すなわち開閉弁７を閉じ
弁６を開いて真空ホ゛ンブ１０を動作させ管状体１内を
排気する。次に開閉弁６を閉じ弁７を開いてモノマーを
管状体１に導入する。
次に開閉弁フを閉じ電極１４．１５間でプラズマ現象を
生起させる。このプラズマ現象によりモノマーはポリマ
ーとして管状体１の内面に堆積され内面を被覆する。次
に開閉弁６を開いて排気を行ない次に開閉弁６を閉じ開
閉弁゛７を開いて七ツマ−を導入する。
生起させる。このプラズマ現象によりモノマーはポリマ
ーとして管状体１の内面に堆積され内面を被覆する。次
に開閉弁６を開いて排気を行ない次に開閉弁６を閉じ開
閉弁゛７を開いて七ツマ−を導入する。
以下同様の順序による操作を行ない１プラズマ重合処理
を行なう。あるいは両開閉弁６．７を少し開いたま−の
状態にしてモノマーを常時少量流しつづけて重合処行な
うようにしてもよい。
を行なう。あるいは両開閉弁６．７を少し開いたま−の
状態にしてモノマーを常時少量流しつづけて重合処行な
うようにしてもよい。
ところで、プラズマ重合処理の場合開閉弁の開度調整は
重要である。開閉弁の開度はモノマーの導入量に関係し
、ポリマーの堆積（コーティング）の厚さと面積を大き
く左右するからである。
重要である。開閉弁の開度はモノマーの導入量に関係し
、ポリマーの堆積（コーティング）の厚さと面積を大き
く左右するからである。
本発明によるプラズマ処理の場合、被処理物すなわち管
状体１の全長りに対し処理の行なわれる長さＬｏは必ず
しも同一ではない。
状体１の全長りに対し処理の行なわれる長さＬｏは必ず
しも同一ではない。
本発明は図示構成に限定されるものではなく、種々の変
形が可能である。
形が可能である。
特に、管状体の両端部を真空域に接続する方式として、
図示例のような真空箱への接続は実用的であるが、真空
配管に直接的に接続することも可能である。被処理物た
る管状体は１個（１本）に限定されず？ＪＩ数本を同時
に配置し接続してもよい。
図示例のような真空箱への接続は実用的であるが、真空
配管に直接的に接続することも可能である。被処理物た
る管状体は１個（１本）に限定されず？ＪＩ数本を同時
に配置し接続してもよい。
プラズマ処理のためのガス供給方法およびプラズマ現象
を生起させるための一対の電極をそれぞれ端開口部に対
置する方式も図示例に限定されない。
を生起させるための一対の電極をそれぞれ端開口部に対
置する方式も図示例に限定されない。
たとえば電極を管状体の端開口部に挿設することもでき
る。電源として可聴周波数を使用できることは利点であ
るがこのような低周波数電源のみに限定されない。
る。電源として可聴周波数を使用できることは利点であ
るがこのような低周波数電源のみに限定されない。
さらに、管状体の材料がたとえば機械的性質が弱く、内
部が真空で外部との圧力差に耐えられない場合、あるい
は管状体の内壁面が多孔質で外部の空気が侵入するよう
な場合は、管状体の外方をさらに容器で包囲するように
することもできる。
部が真空で外部との圧力差に耐えられない場合、あるい
は管状体の内壁面が多孔質で外部の空気が侵入するよう
な場合は、管状体の外方をさらに容器で包囲するように
することもできる。
以上のように本発明によれば、手軽な低周波数の電磁波
で管状体内にプラズマ現象を生起させることができ、電
波障害等の問題が解決され、かつ小形安価な電源が使用
できて経済的であり、現在注目されている人工血管など
の生体適合性材料の作成にきわめて有効である。
で管状体内にプラズマ現象を生起させることができ、電
波障害等の問題が解決され、かつ小形安価な電源が使用
できて経済的であり、現在注目されている人工血管など
の生体適合性材料の作成にきわめて有効である。
図は本発明の一実施例の概略溝成図である。
１・・１管状体、 ２．３・Ｏ−真空箱、２／、
３／・・Ｏ接続口、 ４．５・・・接続具、 ６．７・・・開閉弁、８．９・
・・配管、 １０・・・真空ポンプ、１１書Ｏ・ガス
源、 １４．１５・φ・電極、１６・・・可聴周波数
の電源。
３／・・Ｏ接続口、 ４．５・・・接続具、 ６．７・・・開閉弁、８．９・
・・配管、 １０・・・真空ポンプ、１１書Ｏ・ガス
源、 １４．１５・φ・電極、１６・・・可聴周波数
の電源。
Claims (2)
- （１）プラズマ現象を利用して管状体の内面の改質また
は被覆処理を行なう方法において、両端開口部を真空域
に接続して排気した前記管状体にプラズマ処理のための
ガスを導入するとともに、この管状体の両端開口部に電
極を対向配置して管状体内にプラズマ現象を生起させる
ようにしたことを特徴とする管状体内面のプラズマ処理
方法。 - （２）プラズマ現象を利用して管状体の内面の改質また
は被覆処理を行なう装置において、前記管状体の両端開
口部がそれぞれ接続されるとともに放電用電源に接続さ
れる′Ｋｇがそれぞれ内股された真空箱と、一方の真空
箱に接続された排気系と、他方の真空箱に接続されたプ
ラズマ処理のためのガス供給系とを備え、管状体内にお
いてプラズマ現象を生起させるようにしたことを特徴と
する管状体内面のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57151050A JPS5940850A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 管状体内面のプラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57151050A JPS5940850A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 管状体内面のプラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5940850A true JPS5940850A (ja) | 1984-03-06 |
| JPH0339702B2 JPH0339702B2 (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=15510200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57151050A Granted JPS5940850A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 管状体内面のプラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5940850A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62195028A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-08-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
| JP2016003394A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | ノードソン コーポレーションＮｏｒｄｓｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 管腔内ポリマー堆積装置及び方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5598232A (en) * | 1979-01-22 | 1980-07-26 | Agency Of Ind Science & Technol | Internal treatment of plastic tube member |
| JPS56163127A (en) * | 1980-05-21 | 1981-12-15 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Treatment of polymer |
-
1982
- 1982-08-30 JP JP57151050A patent/JPS5940850A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5598232A (en) * | 1979-01-22 | 1980-07-26 | Agency Of Ind Science & Technol | Internal treatment of plastic tube member |
| JPS56163127A (en) * | 1980-05-21 | 1981-12-15 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Treatment of polymer |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62195028A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-08-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
| JP2016003394A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | ノードソン コーポレーションＮｏｒｄｓｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 管腔内ポリマー堆積装置及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0339702B2 (ja) | 1991-06-14 |
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