JPS608049A - プラズマ処理方法 - Google Patents
プラズマ処理方法Info
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- JPS608049A JPS608049A JP11527483A JP11527483A JPS608049A JP S608049 A JPS608049 A JP S608049A JP 11527483 A JP11527483 A JP 11527483A JP 11527483 A JP11527483 A JP 11527483A JP S608049 A JPS608049 A JP S608049A
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- mechanical booster
- vacuum
- oxygen gas
- pressure
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32357—Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/19—Details relating to the geometry of the reactor
- B01J2219/194—Details relating to the geometry of the reactor round
- B01J2219/1941—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped
- B01J2219/1942—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped spherical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2023/00—Use of polyalkenes or derivatives thereof as moulding material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
- H01J2237/1825—Evacuating means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/336—Changing physical properties of treated surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はプラズマ処理方法に関する。さらに詳しく述べ
ると、本発明は、例えばポリプロピレン、ポリエチレン
等の合成樹脂材料からなる製品（被処理物）の光面を改
質するためにその表面を酸素プラズマで低温プラズマ処
理する方法に関する。
ると、本発明は、例えばポリプロピレン、ポリエチレン
等の合成樹脂材料からなる製品（被処理物）の光面を改
質するためにその表面を酸素プラズマで低温プラズマ処
理する方法に関する。
従来技術
近年、自動車部品の材料が軽量でかつ意匠性に優れた合
成樹脂材料に移行しつつあることは周知（２） の通シである。ところで、比較的安価で容易に入手可能
なポリゾロぎレン、ポリエチレン等の合成樹脂材料は、
それらを例えば車両外板に使用した場合、材料表面とそ
の上に施される塗膜との密着性が悪いので、不所望な層
間剥離を発生することが屡々である。かかる問題を解消
する１手段として、塗装に先がけて樹脂材料の表面を改
質して塗膜の密着性を良好ならしめる技術、例えば、塗
装前に樹脂材料の表面をグロー放電、コロナ放電、ラジ
オ波放電、マイクロ波放電等に曝してその材料の表面を
酸化（極性基の導入）するかもしくはエツチング（いわ
ゆるアンカー効果の向上）する技術が知られている。こ
のような技術はプラズマ処理技術と呼ばれている。
成樹脂材料に移行しつつあることは周知（２） の通シである。ところで、比較的安価で容易に入手可能
なポリゾロぎレン、ポリエチレン等の合成樹脂材料は、
それらを例えば車両外板に使用した場合、材料表面とそ
の上に施される塗膜との密着性が悪いので、不所望な層
間剥離を発生することが屡々である。かかる問題を解消
する１手段として、塗装に先がけて樹脂材料の表面を改
質して塗膜の密着性を良好ならしめる技術、例えば、塗
装前に樹脂材料の表面をグロー放電、コロナ放電、ラジ
オ波放電、マイクロ波放電等に曝してその材料の表面を
酸化（極性基の導入）するかもしくはエツチング（いわ
ゆるアンカー効果の向上）する技術が知られている。こ
のような技術はプラズマ処理技術と呼ばれている。
ところで、樹脂部品をプラズマ処理する場合には、その
部品の耐熱性を考慮して、処理容器内を真空状態にして
処理ガスをプラズマ化させる方法、いわゆる低温プラズ
マ（あるいは低圧プラズマ）処理方法が主として用いら
れている。ここで、処理容器内を減圧、真空状態にしか
つ処理中にその真空を維持するため、先ず油回転ポンプ
で粗引きし、引き続いてメカニカルブースターポンプで
真空引きし、そしてその真空圧を維持する手法が一般的
に用いられている。
部品の耐熱性を考慮して、処理容器内を真空状態にして
処理ガスをプラズマ化させる方法、いわゆる低温プラズ
マ（あるいは低圧プラズマ）処理方法が主として用いら
れている。ここで、処理容器内を減圧、真空状態にしか
つ処理中にその真空を維持するため、先ず油回転ポンプ
で粗引きし、引き続いてメカニカルブースターポンプで
真空引きし、そしてその真空圧を維持する手法が一般的
に用いられている。
上記した油回転ポンプは、その偏心ローターの回転によ
り吸入、圧縮及び排気を繰り返して排気していくタイプ
であるので、ローターの回転中に高熱を発し、したがっ
て、油温を約８０℃以下にコントロールするだめの空冷
又は水冷手段を装備している。しかしながら、この油回
転ポンプの圧縮部分は、たとえ上記のような冷却手段が
あろうとも、その冷却が極く一部分のみに限られるので
、約２００〜３００℃の高温になることが屡々である。
り吸入、圧縮及び排気を繰り返して排気していくタイプ
であるので、ローターの回転中に高熱を発し、したがっ
て、油温を約８０℃以下にコントロールするだめの空冷
又は水冷手段を装備している。しかしながら、この油回
転ポンプの圧縮部分は、たとえ上記のような冷却手段が
あろうとも、その冷却が極く一部分のみに限られるので
、約２００〜３００℃の高温になることが屡々である。
ポンプの圧縮部分がこのような高温状態にある時にプラ
ズマ処理用がスである酸素ガスをポンプに流したとする
と、当然のことながらこのローター圧縮部分で爆発がお
こシ、ケーシング側壁が本体よシ外れ、ポンプそのもの
が損壊する。この問題を回避するため、水封ポンプを用
いて粗引きし、その後でメカニカルブースターポンプを
用いて真空排気する手法が考えられる。が、この手法を
用いた場合、水封ポンプは油回転ポンプに比して所要動
力が大きくかつ排気能力が低い（すなわち、到達真空圧
が高い）ので、自ずと排気時間が長くなり、特に自動車
部品等の号音ラインでは生産戦略に対応できないという
新たな間順が発生する。
ズマ処理用がスである酸素ガスをポンプに流したとする
と、当然のことながらこのローター圧縮部分で爆発がお
こシ、ケーシング側壁が本体よシ外れ、ポンプそのもの
が損壊する。この問題を回避するため、水封ポンプを用
いて粗引きし、その後でメカニカルブースターポンプを
用いて真空排気する手法が考えられる。が、この手法を
用いた場合、水封ポンプは油回転ポンプに比して所要動
力が大きくかつ排気能力が低い（すなわち、到達真空圧
が高い）ので、自ずと排気時間が長くなり、特に自動車
部品等の号音ラインでは生産戦略に対応できないという
新たな間順が発生する。
発明の目的
本発明の目的は、プラズマ処理用がスとして酸素ガス又
は酸素ガスを含む混合ガスを用いた低温プラズマ処理方
法であって、そのようながスの排気処理中にガス爆発の
危険が全くなくかつ迅速に排気を実施可能な改良された
プラズマ処理方法を提供することにある。
は酸素ガスを含む混合ガスを用いた低温プラズマ処理方
法であって、そのようながスの排気処理中にガス爆発の
危険が全くなくかつ迅速に排気を実施可能な改良された
プラズマ処理方法を提供することにある。
発明の構成
上記した目的は、本発明によれば、被処理物を収容した
処理容器内を真空にし、酸素ガス又は酸素ガスを含む混
合ガスによりその被処理物を低温プラズマ処理する方法
において、水封ポンプ、油回転ポンプ及びメカニカルブ
ースターポンプを組み合わせて真空排気処理を行なうこ
とによって達成することができる。
処理容器内を真空にし、酸素ガス又は酸素ガスを含む混
合ガスによりその被処理物を低温プラズマ処理する方法
において、水封ポンプ、油回転ポンプ及びメカニカルブ
ースターポンプを組み合わせて真空排気処理を行なうこ
とによって達成することができる。
本発明の実施において、水封ポンプと油回転ポンプによ
シ大気圧から粗引きし、次にメカニカルブースターポン
プによりその最大吸入圧力以下の真空圧から０．０１〜
Ｉ Ｔｏｒｒまで真空排気し、引き続いて酸素ガス又は
酸素ガスを含む混合ガスを供給すると同時に油回転ポン
プを停止させ、水封ポンプ及びメカニカルブースターポ
ンプにより排気処理を行なうのが好ましい。
シ大気圧から粗引きし、次にメカニカルブースターポン
プによりその最大吸入圧力以下の真空圧から０．０１〜
Ｉ Ｔｏｒｒまで真空排気し、引き続いて酸素ガス又は
酸素ガスを含む混合ガスを供給すると同時に油回転ポン
プを停止させ、水封ポンプ及びメカニカルブースターポ
ンプにより排気処理を行なうのが好ましい。
さらに、処理容器、メカニカルブースターポンプ及び水
封ポンプを直列に配置し、そして前記水封ポンプを最後
段のメカニカルブースターポンプの吐出口側に接続しか
つ油回転ポンプ及び前記メカニカルブースターポンプを
並列に配置して排気処理を行なうのが好ましい。
封ポンプを直列に配置し、そして前記水封ポンプを最後
段のメカニカルブースターポンプの吐出口側に接続しか
つ油回転ポンプ及び前記メカニカルブースターポンプを
並列に配置して排気処理を行なうのが好ましい。
さらに加えて、処理容器及びメカニカルブースターポン
プを直列に配置し、そして最後段のメカニカルブースタ
ーポンプの吐出口側に水封ポンプ及び油回転ポンプを並
列に配置して排気処理を行なうのが好ましい。
プを直列に配置し、そして最後段のメカニカルブースタ
ーポンプの吐出口側に水封ポンプ及び油回転ポンプを並
列に配置して排気処理を行なうのが好ましい。
実施例
次に、添付の図面を参照しながら本発明の詳細な説明す
る。
る。
最初に、比較のため、従来のプラズマ処理方法を第１図
で説明する。図中の１は円筒形処理容器であシ、ステン
レス鋼（ＳＵＳ ３０４ ）製、そして内容積５ｍ３で
ある。被処理物（図示せずンは適当なハンガ一手段を介
してこの容器１内に収容さ扛る。
で説明する。図中の１は円筒形処理容器であシ、ステン
レス鋼（ＳＵＳ ３０４ ）製、そして内容積５ｍ３で
ある。被処理物（図示せずンは適当なハンガ一手段を介
してこの容器１内に収容さ扛る。
処理容器１には、容器内を大気圧に戻すための真空リー
ク弁６、そして真空圧を表示するとともにリレー信号を
出すための２点式ビラニ真空計１４が取シ付けられてい
る。
ク弁６、そして真空圧を表示するとともにリレー信号を
出すための２点式ビラニ真空計１４が取シ付けられてい
る。
処理容器１へのプラズマの導入のため、先ずマイクロ波
発振機１５で２４５０■ｈのマイクロ波を発生させアイ
ソレータ、ノヤワーモニター検出部及びスリースタブチ
ューナー（いずれも図示せず）を通した後、導波管１６
によってプラズマ発生炉１７に伝送する。一方、プラズ
マ処理用ガス（ここでは酸素ガス〕を圧縮封入したガス
ポンベ１９を用意し、そのバルブ２０の開閉によって、
流量計２１の指示にもとづく適切量の酸素ガスを、ナイ
ロン製ガスチューブ２２全通してプラズマ発生管１８に
供給する。プラズマ発生炉１７と直交するこのプラズマ
発生管１８でプラズマを発生させ、このプラズマをテフ
ロン（フルオロカーボン樹脂の登録商標）製のコネクタ
であるンロロコネクタ及びンランソ（いずれも図示せず
〕を経て処理容器１内のシャワー管３５に送シ、ここか
ら被処理物上に噴射する。
発振機１５で２４５０■ｈのマイクロ波を発生させアイ
ソレータ、ノヤワーモニター検出部及びスリースタブチ
ューナー（いずれも図示せず）を通した後、導波管１６
によってプラズマ発生炉１７に伝送する。一方、プラズ
マ処理用ガス（ここでは酸素ガス〕を圧縮封入したガス
ポンベ１９を用意し、そのバルブ２０の開閉によって、
流量計２１の指示にもとづく適切量の酸素ガスを、ナイ
ロン製ガスチューブ２２全通してプラズマ発生管１８に
供給する。プラズマ発生炉１７と直交するこのプラズマ
発生管１８でプラズマを発生させ、このプラズマをテフ
ロン（フルオロカーボン樹脂の登録商標）製のコネクタ
であるンロロコネクタ及びンランソ（いずれも図示せず
〕を経て処理容器１内のシャワー管３５に送シ、ここか
ら被処理物上に噴射する。
なお、処理容器内１の真空排気処理のためのポンプ構成
は次の通シである：処理容器１の底部には、それと各真
空ポンプとを接続するための排気ダクト２が取シ付けら
れている。ここで使用する真空ポンプは、排気速度２ｏ
Ｏｏｍ３／ｈｒ１最大吸入圧力１０ Ｔｏｒｒ 及び到
達圧力５ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒの能力を有するメカニ
カルブースターポンプ（ＷＴ要電電カフ５ｋＷ）３、そ
して排気速度６００ｍ３／ｈｒ、最大吸入圧力１００
Ｔｏｒｒ及び到達圧力２Ｔｏｒｒ の能力′？ｃ有する
メカニカルブースターポン７’（所要電力３、７ｋＷ
） ４である。これらの真空ポンプへの途上に、主制御
弁７、真空圧設定のための圧力制御弁８、そして真空圧
設定のためのものであって手動操作可能な操作弁９が取
シ付けられている。図中の１０．１１及び１２は、それ
ぞれ、バイパス回路調整のための真空弁である。１３は
圧力検知によシ信号を出す真空スイッチ、セして１４Ｖ
ｉ真空圧を表示するとともにリレー信号を出す２点式ビ
ラニ真空計である。この従来のポンプ構成でに、それぞ
れオイルミストトラップ２４及び３１を装備した油回転
ポンプ２３及び３０（排気速度４００ｍ’／ｈｒ及び到
達圧力５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの能力を有する〕によっ
て容器内の粗引きをやるようにできているので、酸素ガ
ス流入に原因してこれらのポンプのローター圧縮部分で
爆発が発生する。
は次の通シである：処理容器１の底部には、それと各真
空ポンプとを接続するための排気ダクト２が取シ付けら
れている。ここで使用する真空ポンプは、排気速度２ｏ
Ｏｏｍ３／ｈｒ１最大吸入圧力１０ Ｔｏｒｒ 及び到
達圧力５ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒの能力を有するメカニ
カルブースターポンプ（ＷＴ要電電カフ５ｋＷ）３、そ
して排気速度６００ｍ３／ｈｒ、最大吸入圧力１００
Ｔｏｒｒ及び到達圧力２Ｔｏｒｒ の能力′？ｃ有する
メカニカルブースターポン７’（所要電力３、７ｋＷ
） ４である。これらの真空ポンプへの途上に、主制御
弁７、真空圧設定のための圧力制御弁８、そして真空圧
設定のためのものであって手動操作可能な操作弁９が取
シ付けられている。図中の１０．１１及び１２は、それ
ぞれ、バイパス回路調整のための真空弁である。１３は
圧力検知によシ信号を出す真空スイッチ、セして１４Ｖ
ｉ真空圧を表示するとともにリレー信号を出す２点式ビ
ラニ真空計である。この従来のポンプ構成でに、それぞ
れオイルミストトラップ２４及び３１を装備した油回転
ポンプ２３及び３０（排気速度４００ｍ’／ｈｒ及び到
達圧力５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの能力を有する〕によっ
て容器内の粗引きをやるようにできているので、酸素ガ
ス流入に原因してこれらのポンプのローター圧縮部分で
爆発が発生する。
次いで、本発明のプラズマ処理方法を第２図で説明する
。第２図に図示のプラズマ処理装置は、前記した第１図
のプラズマ処理装置とは異なって、排気速度６００ ｍ
／ｈｒ及び到達圧力１７Ｔｏｒｒ（水温１５℃で）の
能力を有する水封ポンプ５（所要電力３０ ｋＷ） 、
そして制御弁２９を介して排気系に接続したものであっ
てオイルミストトラップ２６付の油回転ポンプ２５（排
気速度４００ ｍ３／／ｈｒ及び到達圧力５ Ｘ ＩＱ
Ｔｏｒｒの能力を有する）（所要電力１１ｋＷ）をポ
ンプ構成に有する。なお、第１図及び第２図のプラズマ
処理装置において、理解を容易ならしめるため、同一の
手段には同一の参照番号を付した。
。第２図に図示のプラズマ処理装置は、前記した第１図
のプラズマ処理装置とは異なって、排気速度６００ ｍ
／ｈｒ及び到達圧力１７Ｔｏｒｒ（水温１５℃で）の
能力を有する水封ポンプ５（所要電力３０ ｋＷ） 、
そして制御弁２９を介して排気系に接続したものであっ
てオイルミストトラップ２６付の油回転ポンプ２５（排
気速度４００ ｍ３／／ｈｒ及び到達圧力５ Ｘ ＩＱ
Ｔｏｒｒの能力を有する）（所要電力１１ｋＷ）をポ
ンプ構成に有する。なお、第１図及び第２図のプラズマ
処理装置において、理解を容易ならしめるため、同一の
手段には同一の参照番号を付した。
処理容器１へのプラズマの導入は、先に第１図において
説明した通υであるので、ここでは重複をさけて説８Ａ
′ｆｔ省略する。本発明による真空排気処理を第３図の
タイムチャートをあわせて参照しながら説明すると、次
の通シである：先ず、処理容器１の開閉扉（図示せず）
を閉じ、さらに真空リーク弁６を閉じ、その後で真空排
気を開始する。
説明した通υであるので、ここでは重複をさけて説８Ａ
′ｆｔ省略する。本発明による真空排気処理を第３図の
タイムチャートをあわせて参照しながら説明すると、次
の通シである：先ず、処理容器１の開閉扉（図示せず）
を閉じ、さらに真空リーク弁６を閉じ、その後で真空排
気を開始する。
主制御弁７及び制御弁８が開き、これと同時に水封ポン
プ５及び油回転ポンプ２５が作動する。所足時間の経過
後、真空弁１２が閉じ、処理容器１内を減圧し始める。
プ５及び油回転ポンプ２５が作動する。所足時間の経過
後、真空弁１２が閉じ、処理容器１内を減圧し始める。
真空スイッチ１３が予め設定した圧力１００ Ｔｏｒｒ
Ｑ検知（第１圧力検知）した後、それの発する信号によ
ってメカニカルプースターポンプ４が作動を開始する。
Ｑ検知（第１圧力検知）した後、それの発する信号によ
ってメカニカルプースターポンプ４が作動を開始する。
次いで、２点式ビラニ真空計１４が圧力１００Ｔｏｒｒ
を検知（第２圧力検知）した後（この真空計では予め１
００Ｔｏｒｒ及び０．０ＩＴｏｒｒに圧力を設定）、そ
れの発するリレー信号によってメカニカルブースターポ
ンプ３が作動を開始し、真空弁１１が閉じる。さらに、
前記したビラニ真空計１４が圧力０．０ＩＴｏｒｒを検
知（第３圧力検知）すると、真空弁１０と主制御弁７が
閉じさらにこれらと同時に制御弁２９が閉じて油回転ポ
ンプ２５が停止する。この結果制御弁８の配管側のみに
排気流が形成される。この排気流はまた、真空弁１０及
び１１ならびに制御弁２９が閉じたことによって、油回
転ポンプ側及びバイパス側へは流れず、よって、ポンプ
３、ボンｆ４及びポンプ５を通る一連の流れが形成され
る。また、前記したビラニ真空計１４が圧力０．０ＩＴ
ｏｒｒを検知すると、それの発する圧力信号によりて真
空バルブ２０が開き、ボンベ１９内の酸素ガスが流量計
２１によシ足ルされ、ガスチューブ２２、プラズマ発生
管１８を経て処理容器１内へ送られる。容器内へ流れ込
んだ酸素ガスは、先の一連の排気流にそりて、ポンプ３
及び４内を通シ、水封ポンプ５内では水と接触しながら
流れ、最後に大気中へ放出される。ここで、操作弁９の
開度を予め調整しておくことによって、所定のガス供給
量下で所定のプラズマ処理真空圧になるように予め設定
することができる。
を検知（第２圧力検知）した後（この真空計では予め１
００Ｔｏｒｒ及び０．０ＩＴｏｒｒに圧力を設定）、そ
れの発するリレー信号によってメカニカルブースターポ
ンプ３が作動を開始し、真空弁１１が閉じる。さらに、
前記したビラニ真空計１４が圧力０．０ＩＴｏｒｒを検
知（第３圧力検知）すると、真空弁１０と主制御弁７が
閉じさらにこれらと同時に制御弁２９が閉じて油回転ポ
ンプ２５が停止する。この結果制御弁８の配管側のみに
排気流が形成される。この排気流はまた、真空弁１０及
び１１ならびに制御弁２９が閉じたことによって、油回
転ポンプ側及びバイパス側へは流れず、よって、ポンプ
３、ボンｆ４及びポンプ５を通る一連の流れが形成され
る。また、前記したビラニ真空計１４が圧力０．０ＩＴ
ｏｒｒを検知すると、それの発する圧力信号によりて真
空バルブ２０が開き、ボンベ１９内の酸素ガスが流量計
２１によシ足ルされ、ガスチューブ２２、プラズマ発生
管１８を経て処理容器１内へ送られる。容器内へ流れ込
んだ酸素ガスは、先の一連の排気流にそりて、ポンプ３
及び４内を通シ、水封ポンプ５内では水と接触しながら
流れ、最後に大気中へ放出される。ここで、操作弁９の
開度を予め調整しておくことによって、所定のガス供給
量下で所定のプラズマ処理真空圧になるように予め設定
することができる。
酸素ガスを供給し、所定の真空圧に設定後、マイクロ波
を発振させ、酸素ガスをプラズマ化して処理容器内の被
処理物を表面処理する。プラズマ処理の終了後、ポンプ
内を真空状態で維持する間に先ず圧力制御弁８を閉じ（
第１停止）、所定時間の後に全真空ポンプを停止させる
（第２停止〕。
を発振させ、酸素ガスをプラズマ化して処理容器内の被
処理物を表面処理する。プラズマ処理の終了後、ポンプ
内を真空状態で維持する間に先ず圧力制御弁８を閉じ（
第１停止）、所定時間の後に全真空ポンプを停止させる
（第２停止〕。
ポンプの停止後、真空リーク弁６を開け、処理容器１内
を大気圧に戻して一連のプラズマ処理を完了する。
を大気圧に戻して一連のプラズマ処理を完了する。
発明の効果
本発明によれば、水封ポンプ内を流れる水は、排気能力
維持のために常時冷却されているので、ローターの回転
によシ高温化される懸念がなく、したがって、酸素ガス
を排気処理する際の爆発（１１） の危険性を解消することができる。さらに、本発明によ
れは、従来方法と較べて非常に短時間のうちに排気処理
を完了することができる。
維持のために常時冷却されているので、ローターの回転
によシ高温化される懸念がなく、したがって、酸素ガス
を排気処理する際の爆発（１１） の危険性を解消することができる。さらに、本発明によ
れは、従来方法と較べて非常に短時間のうちに排気処理
を完了することができる。
第１図は従来方法を実施するためのプラズマ処理装置の
一例を示した概略図。 第２図は本発明方法を実施するためのプラズマ処理装置
の好ましい一例を示した概略図、そして第３図は第２図
の装置を使用して本発明方法を実施する場合の真空排気
処理のタイムチャートである。 図中、１は処理容器、２は排気ダクト、３及び４はメカ
ニカルブースターポンプ、５は水封ポンプ、そして２５
は油（ロ）転ポンプである。 特許出願人 トヨタ自順１車株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 （１２）
一例を示した概略図。 第２図は本発明方法を実施するためのプラズマ処理装置
の好ましい一例を示した概略図、そして第３図は第２図
の装置を使用して本発明方法を実施する場合の真空排気
処理のタイムチャートである。 図中、１は処理容器、２は排気ダクト、３及び４はメカ
ニカルブースターポンプ、５は水封ポンプ、そして２５
は油（ロ）転ポンプである。 特許出願人 トヨタ自順１車株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之 （１２）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、被処理物を収容した処理容器内を真空にし、酸素ガ
ス又は酸素ガスを含む混合ガスによシその被処理物を低
温プラズマ処理する方法であって、水封ポンプ、油回転
ポンプ及びメカニカルブースターポンプを組み合わせて
真空排気処理を行なうことを特徴とするプラズマ処理方
法。 ２、水封ポンプと油回転ポンプによシ大気圧から粗引き
し、次にメカニカルブースターポンプによシその最大吸
入圧力以下の真空圧から０．０１〜Ｉ Ｔｏｒｒ ”！
で真空排気し、引き続いて酸素ガス又は酸素ガスを含む
混合がスを供給すると同時に油回転ポンプを停止させ、
水封ポンプ及びメカニカルブースターポンプによシ排気
処理を行なう、特許請求の範囲第１項に記載のプラズマ
処理方法。 ３、処理容器、メカニカルブースターポンプ及び水封ポ
ンプを直列に配置し、そして前記水封Ｉ（１） −〜・ ンプを最後段のメカニカルブースターポンプの吐出口側
に接続しかつ油回転ポンプ及び前記メカニカルブースタ
ーポンプを並列に配置して排気処理を行なう、特許請求
の範囲第１項に記載のプラズマ処理方法。 ４、処理容器及びメカニカルブースターポンプを直列に
配置し、そして最後段のメカニカルブースターポンプの
吐出口側に水封ポンプ及び油回転ポンプを並列に配置し
て排気処理を行なう、特許請求の範囲第１項に記載のプ
ラズマ処理方法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11527483A JPS608049A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | プラズマ処理方法 |
| AU24671/84A AU549376B2 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-16 | Plasma treatment |
| DE3486470T DE3486470T2 (de) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Verfahren zum Plasmabehandeln von Kunststoffharz |
| EP84101926A EP0120307B1 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| EP91115536A EP0461683B1 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Method for plasma treatment of resin material |
| DE3486317T DE3486317T2 (de) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Kunstharz. |
| US06/825,941 US4678644A (en) | 1983-02-25 | 1986-01-30 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82238/87A AU8223887A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82237/87A AU8223787A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82240/87A AU603397B2 (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82239/87A AU8223987A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11527483A JPS608049A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | プラズマ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS608049A true JPS608049A (ja) | 1985-01-16 |
| JPH043422B2 JPH043422B2 (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=14658600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11527483A Granted JPS608049A (ja) | 1983-02-25 | 1983-06-28 | プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS608049A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106807184A (zh) * | 2017-02-08 | 2017-06-09 | 成都凯圣捷科技有限公司 | 等离子除氧系统 |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP11527483A patent/JPS608049A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106807184A (zh) * | 2017-02-08 | 2017-06-09 | 成都凯圣捷科技有限公司 | 等离子除氧系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH043422B2 (ja) | 1992-01-23 |
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