JPS586255B2 - 管球内面処理方法 - Google Patents

管球内面処理方法

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Publication number
JPS586255B2
JPS586255B2 JP15578576A JP15578576A JPS586255B2 JP S586255 B2 JPS586255 B2 JP S586255B2 JP 15578576 A JP15578576 A JP 15578576A JP 15578576 A JP15578576 A JP 15578576A JP S586255 B2 JPS586255 B2 JP S586255B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube
gas
surface treatment
electrode
treatment method
Prior art date
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Expired
Application number
JP15578576A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5380777A (en
Inventor
広瀬昌彦
今村人士
須藤繁
矢田正明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は管球内面処理方法に関し、特にマイクロ波によ
って活性化されたガスを用いて管球内壁および電極また
はフィラメントを同時に表面処理し得る方法に関する。
石英、ガラスまたはセラミックスからなる容器にタング
ステンの電極またはフィラメントを封着した管球におい
て、管球の内壁および電極等の表面には汚れや水分等の
不純物が付着していたりガス層や酸化変質層等が形成さ
れていたりするので、表面処理によってこれらを除去す
る必要がある。
従来、このような管球の容器内壁の表面処理は電気炉に
よる加熱脱ガス処理やフツ化水素酸による表面クリーニ
ング等によって行なわれ、電極またはフィラメントの表
面処理は水素ガスによる熱的還元法、電解研磨法および
ボンバード法等によって行なわれていた。
しかし、このような表面処理は以下に示すような種々の
問題点を有している。
(1)容器の処理と電極の処理とが別々の工程でなされ
ている。
(2)容器および電極処理と次の工程が同一の装置で行
なわれるため稼動率が悪い。
(3)熱的な脱ガスまたは還元による処理では処理時間
が長く、エネルギー効率が悪い。
(4)加熱水素還元法は水素ガスを用いるため爆発の危
険がある。
(5) 電解研磨法は,電解液および電極の不純物が残
留しやすく、急速な金属溶解のため制御が困難であり、
工程が複雑で多数処理が困難で更に人手を要する。
(6) ボンバード法は管壁へのスパッタリングのた
め光学特性が低下する。
本発明はこのような従来技術の欠点を解決してなされた
ものであって、その目的は、石英、ガラスまたはセラミ
ックからなる容器にタングステンの電極またはフィラメ
ントを封着した管球類の内部表面を効果的に処理し得る
方法を提供することにある。
即ち本発明の管球内面処理方法は、管球内に処理用原料
ガスを導入する工程、および管球外からマイクロ波電力
を管球内に導入して管球内部で放電を生ぜしめ、それに
よって形成された活性化ガスにより管球内面および管球
の電極を同時に表面処理する工程を具備することを特徴
とする。
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例である放電灯
発光管の内面処理方法について説明する。
第1図および第2図に示す処理装置において、内面が処
理されるべき石英製発光管1は排気管2を具備しており
、この排気管2を介して排気ヘッド3に取付けられてい
る。
この排気ヘッド3はバルブ4を介してフレオンボンベ5
および酸素ボンベ6に、バルブ7を介して拡散ポンプ8
およびロータリーポンプ9に接続されている。
排気系には膜圧力計15および真空計16が設けられて
いる。
発光管1は、処理時には一対の半円筒状電極板10の間
に挿入される。
電極板10には同軸ケーブル11および整合器12を介
してマグネトロン(ZM89)13からのマイクロ波電
力(2450MHz)、例えば300Wの電力が供給さ
れる。
マグネトロン13は電源14に接続されている。
第1図および第2図に示す内面処理装置の操作において
は、まず発光管1はあらかじめ拡散ポンプ8およびロー
タリーポンプ9により10−6Torr程度まで排気さ
れた後、バルブ7が閉じられる。
そしてリークバルブ4,17,18を開けてボンベ5お
よび6からそれぞれ一定圧のフレオン14(OF4)ガ
スおよび酸素ガス(例えばフレオンガス圧0. 3 T
orr 、酸素ガス圧0.3Torr)の混合ガスが発
光管1内に導入される。
混合ガスの導入後リークバルブ10は閉じられる。
この時排気ヘッド3は一定速度で移動しており、それに
伴なって移動する発光管1は電極板10の間に挿入され
、一定時間(例えば30秒間)滞在する。
そこで発光管1内の混合ガスは電極板10に供給された
マイクロ波により放電解離され、活性化ガスとなる。
この活性化ガスの正体は厳密には定められていないが、
恐らくフッ素原子(F)、フッ素原子と酸素原子との化
合物(OxFy)、およびフッ素原子と酸素原子と炭素
原子との化合物(COFx)であると考えられる。
このような活性化ガスが石英製の発光管1の内面および
タングステン電極19の表面ヲエッチングし、それら表
面の不純物を除去するものである。
発光管1は一定時間電極板10間に留まって処理が完了
した後そこを離れる。
そして、バルブ7が開けられ、使用済の原料ガスを排気
して処理工程は完了する。
以上の実施例においては、排気ヘッドを移動させたが、
排気ヘッドを固定して一対の電極板の方を移動させるこ
ともできる。
また、排気ヘッドおよび電極板を両方同時移動させるこ
とも可能である。
電極板は半円筒状に限らず、平板状でもよい。以上説明
した本発明の管球内面処理方法は、以下に示すような種
々の利点を有している。
(1)容器処理と電極処理とを同時に行なうことが出来
る。
(2)処理された後の表面特に電極表面が一様である。
(3)処理時間が非常に短かい。
(4)熱的処理ではないので、非常にエネルギー効率が
よい。
(5)不純物が残留しない。
(6)工程が簡単で自動化が容易であり、従って保守が
容易である。
(7)処理条件の制御が容易であり、そのため均等処理
を行なうことができる。
(8》 処理工程の連続化が可能であり、多数の処理
を容易に行なうことができる。
(9)前後の工程との関連なしに処理工程のみ独立して
行なうことができるため稼動率がよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に使用される管球内面処理装
置の透視図、第2図は第1図に示す装置の全体を示すフ
ローシ一ト図である。 1・・・・・・発光管、2・・・・・・排気管、3・・
・・・・排気ヘッド、4,17,18・・・・・・リー
クバルブ、5・・・・・・フレオンガスボンベ、6・・
・・・・酸素ガスボンベ、7・・・・・・バルブ、8・
・・・・・拡散ポンプ、9・・・・・・ロータリーポン
プ、10・・・・・・電極板、11・・・・・同軸ケー
ブル、12・・・・・・整合器,13・・・・・・マグ
ネトロン、14・・・・・・電源、15・・・・・・膜
圧力計、16・・・・・・真空計、19・・・・・・タ
ングステン電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空に排気された管球内にフッ素原子を含む処理用
    原料ガスまたはフッ素原子を含むガスと酸素原子を含む
    ガスとの混合処理用原料ガスを導入する工程、および管
    球外からマイクロ波電力を管球内に導入して管球内部で
    放電を生ぜしめ、それによって形成された活性化ガスに
    より管球内面および管球の電極を同時に表面処理し、そ
    れら表面の不純物を除去する工程を具備する管球内面処
    理方法。
JP15578576A 1976-12-24 1976-12-24 管球内面処理方法 Expired JPS586255B2 (ja)

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JPS5380777A JPS5380777A (en) 1978-07-17
JPS586255B2 true JPS586255B2 (ja) 1983-02-03

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60154730U (ja) * 1984-03-26 1985-10-15 株式会社クボタ 焼却炉における灰シユ−ト内の付着物除去装置
JP4596805B2 (ja) * 2004-03-31 2010-12-15 財団法人国際科学振興財団 真空管製造装置

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