JPS6330347A - ガラスの表面処理方法 - Google Patents
ガラスの表面処理方法Info
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- JPS6330347A JPS6330347A JP17342486A JP17342486A JPS6330347A JP S6330347 A JPS6330347 A JP S6330347A JP 17342486 A JP17342486 A JP 17342486A JP 17342486 A JP17342486 A JP 17342486A JP S6330347 A JPS6330347 A JP S6330347A
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- glass
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば微細加工とか露光マスクの支持台等
に用いられるガラスの表面処理方法に関する。
に用いられるガラスの表面処理方法に関する。
この種のガラスは、例えば細い棒状とか薄い板状のもの
として利用されるが、製作時の熱収縮による応力等によ
り、表面に微小なりランクや傷（以下、クラックで代表
する）が不可避的に生じ、それを放置しておくと、当該
ガラスは強度が弱くて破損し易くなる。
として利用されるが、製作時の熱収縮による応力等によ
り、表面に微小なりランクや傷（以下、クラックで代表
する）が不可避的に生じ、それを放置しておくと、当該
ガラスは強度が弱くて破損し易くなる。
そのため従来は、ガラスの表面をバーナで加熱したリガ
ラスを炉中に入れて加熱したりして、表面を軟化（溶解
）させてクラックの補修（鈍化）を行っていた。
ラスを炉中に入れて加熱したりして、表面を軟化（溶解
）させてクラックの補修（鈍化）を行っていた。
ところがガラスをバーナーで加熱したり炉中に入れて加
熱したりすると、ガラスの形状が変化する恐れがあると
共に、表面を滑らかにするためにはかなりの高温度（例
えば１０００℃程度以上）を必要とするため処理が容易
でないという問題がある。
熱したりすると、ガラスの形状が変化する恐れがあると
共に、表面を滑らかにするためにはかなりの高温度（例
えば１０００℃程度以上）を必要とするため処理が容易
でないという問題がある。
そこでこの発明は、ガラスの形状を変化させる恐れが無
くしかも簡単に、ガラス表面のクラックを鈍化させて強
度向上を図ることができるガラスの表面処理方法を提供
することを目的とする。
くしかも簡単に、ガラス表面のクラックを鈍化させて強
度向上を図ることができるガラスの表面処理方法を提供
することを目的とする。
この発明のガラスの表面処理方法は、真空容器内におい
てガラスの表面にプラズマを照射することを特徴とする
。
てガラスの表面にプラズマを照射することを特徴とする
。
ガラスの表面にプラズマを照射すると、プラズマによる
エツチング作用等によって、ガラス表面のクラックが鈍
化され、その結果ガラスの強度が向上する。
エツチング作用等によって、ガラス表面のクラックが鈍
化され、その結果ガラスの強度が向上する。
第１図および第２図は、それぞれ、この発明の実施に使
用する装置の例を示す概略図である。
用する装置の例を示す概略図である。
第１図の装置は二極放電形あるいは容量結合形と呼ばれ
るものであり、真空ポンプ１２によって排気される真空
容器１０内に、電極兼用のホルダ４と電極８とを対向さ
せて両者間に放電用電源１６を接続している。真空容器
１０内にガス源１４からガスＧを導入して真空容器１０
内の圧力を１Ｏ−３ＴＯｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ程度に保ち
、ホルダ４と電極８間に放電用電源１６から高周波電力
あるいは直流電力を供給すると、放電が生じてプラズマ
１８が生成される。
るものであり、真空ポンプ１２によって排気される真空
容器１０内に、電極兼用のホルダ４と電極８とを対向さ
せて両者間に放電用電源１６を接続している。真空容器
１０内にガス源１４からガスＧを導入して真空容器１０
内の圧力を１Ｏ−３ＴＯｒｒ〜数十Ｔｏｒｒ程度に保ち
、ホルダ４と電極８間に放電用電源１６から高周波電力
あるいは直流電力を供給すると、放電が生じてプラズマ
１８が生成される。
第２図の装置は無電極放電形あるいは誘導結合形と呼ば
れるものであり、石英管等から成る真空容器ｌＯの回り
に高周波コイル２０が巻かれており、それに放電用電源
１６が接続されている。この場合も、真空容器１０内に
上記と同程度にガスＧを導入し、高周波コイル２０に放
電用電源１６から高周波電力を供給すると、高周波放電
が生じてプラズマ１８が生成される。
れるものであり、石英管等から成る真空容器ｌＯの回り
に高周波コイル２０が巻かれており、それに放電用電源
１６が接続されている。この場合も、真空容器１０内に
上記と同程度にガスＧを導入し、高周波コイル２０に放
電用電源１６から高周波電力を供給すると、高周波放電
が生じてプラズマ１８が生成される。
従って例えば上記のような装置を用いて、処理しようと
するガラス２を真空容器１０内のホルダ４に乗せ、プラ
ズマ１８を発生させてこれをガラス２の表面に照射する
。その場合、ホルダ４に設けたヒータ６等の加熱手段に
よって、ガラス２の適度な加熱を併用するのが好ましい
。
するガラス２を真空容器１０内のホルダ４に乗せ、プラ
ズマ１８を発生させてこれをガラス２の表面に照射する
。その場合、ホルダ４に設けたヒータ６等の加熱手段に
よって、ガラス２の適度な加熱を併用するのが好ましい
。
尚、真空容器１０内に導入するガスＧとしては、Ａｒ
ｓ Ｎｅ ＳＫｒ ｓ Ｘｅ等の不活性ガス、あるいは
Ｎ！、ｏ２、Ｈ！、ＣＦ４、ＣＩ！等の活性ガスのいず
れでも採り得る。また、プラズマ１８の密度やエネルギ
ーは放電用電源１６の電力によって、ガラス２の温度は
ヒータ６によってそれぞれ制御することができる。第２
図の装置の場合は、マイクロ波ガイド２２を設けてその
内部にマイクロ波を導入してマイクロ波によるガラス２
の加熱を利用することもでき、そのようにすればガラス
２全体のより均一な加熱が可能になる。
ｓ Ｎｅ ＳＫｒ ｓ Ｘｅ等の不活性ガス、あるいは
Ｎ！、ｏ２、Ｈ！、ＣＦ４、ＣＩ！等の活性ガスのいず
れでも採り得る。また、プラズマ１８の密度やエネルギ
ーは放電用電源１６の電力によって、ガラス２の温度は
ヒータ６によってそれぞれ制御することができる。第２
図の装置の場合は、マイクロ波ガイド２２を設けてその
内部にマイクロ波を導入してマイクロ波によるガラス２
の加熱を利用することもでき、そのようにすればガラス
２全体のより均一な加熱が可能になる。
上記のようにしてプラズマ１８を照射したガラス２の表
面を、金属顕微鏡あるいは光学顕微鏡で調べると、ガラ
ス２の表面に元々あった例えば第３図に示すようなりラ
ック２ａが、処理後は第４図に示すようなりラック２ｂ
、あるいは第５図に示すようなりラック２Ｃのように鈍
化されていた。
面を、金属顕微鏡あるいは光学顕微鏡で調べると、ガラ
ス２の表面に元々あった例えば第３図に示すようなりラ
ック２ａが、処理後は第４図に示すようなりラック２ｂ
、あるいは第５図に示すようなりラック２Ｃのように鈍
化されていた。
第４図は前述したガスＧとして不活性ガスを使用した場
合であり、プラズマ１８の主にエツチング作用により、
クランク２ａの角が取れてその曲率半径が鈍化したもの
と考えられる。
合であり、プラズマ１８の主にエツチング作用により、
クランク２ａの角が取れてその曲率半径が鈍化したもの
と考えられる。
第５図は前述したガスＧとして活性ガスを使用した場合
であり、プラズマ１８のエツチング作用に加えて、プラ
ズマ１８中のイオンとガラス２の構成物質との化合物（
例えば５ｉＦｓ ＳｉＣＬｇ等）が形成されることによ
り、クランク２ａの角が取れるのと合わせて谷部が化合
物により埋められたものと考えられる。従ってこの場合
の方が、ガラス２の強度の向上は大きい。
であり、プラズマ１８のエツチング作用に加えて、プラ
ズマ１８中のイオンとガラス２の構成物質との化合物（
例えば５ｉＦｓ ＳｉＣＬｇ等）が形成されることによ
り、クランク２ａの角が取れるのと合わせて谷部が化合
物により埋められたものと考えられる。従ってこの場合
の方が、ガラス２の強度の向上は大きい。
いずれにしても、上記のようにガラス２の表面にプラズ
マ１８を照射すると、ガラスの強度は照射前に比較して
５〜１０倍程度向上することが分かった。しかも上記の
ような方法によれば、従来のようにガラス２をその表面
が軟化するような高温度に加熱する必要がないので、ガ
ラス２が変形する恐れはなく、また処理も容易である。
マ１８を照射すると、ガラスの強度は照射前に比較して
５〜１０倍程度向上することが分かった。しかも上記の
ような方法によれば、従来のようにガラス２をその表面
が軟化するような高温度に加熱する必要がないので、ガ
ラス２が変形する恐れはなく、また処理も容易である。
以上のようにこの発明によれば、プラズマ照射によって
ガラス表面の微小クランクや傷を鈍化させることができ
、それによってガラスの強度向上を図ることができる。
ガラス表面の微小クランクや傷を鈍化させることができ
、それによってガラスの強度向上を図ることができる。
しかも従来のようにガラスを高温に加熱する必要がない
ので、ガラスが変形する恐れはなく、また処理も容易で
ある。
ので、ガラスが変形する恐れはなく、また処理も容易で
ある。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は、それぞれ、この発明の実施に使
用する装置の例を示す概略図である。第３図は、表面処
理前のガラス表面を拡大して模式的に示す部分断面図で
ある。第４図および第５図は、それぞれ、この発明に係
る表面処理方法によって処理後のガラス表面を拡大して
模式的に示す部分断面図である。 ２・・・ガラス、２ａ・・・クラック、１０・・・真空
容器、１８．・、プラズマ。
用する装置の例を示す概略図である。第３図は、表面処
理前のガラス表面を拡大して模式的に示す部分断面図で
ある。第４図および第５図は、それぞれ、この発明に係
る表面処理方法によって処理後のガラス表面を拡大して
模式的に示す部分断面図である。 ２・・・ガラス、２ａ・・・クラック、１０・・・真空
容器、１８．・、プラズマ。
Claims (1)
- （１）真空容器内においてガラスの表面にプラズマを照
射することを特徴とするガラスの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17342486A JPS6330347A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガラスの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17342486A JPS6330347A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガラスの表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6330347A true JPS6330347A (ja) | 1988-02-09 |
Family
ID=15960194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17342486A Pending JPS6330347A (ja) | 1986-07-23 | 1986-07-23 | ガラスの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6330347A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02163037A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-22 | Maruhachi:Kk | 赤蕪の漬物 |
| FR2730725A1 (fr) * | 1995-02-16 | 1996-08-23 | Saverglass Verrerie | Procede d'attaque superficielle d'une surface d'un materiau vitreux multicomposants par plasma |
| WO2002060831A3 (en) * | 2001-02-01 | 2002-11-28 | Nippon Electric Glass Co | Alkali-free glass and glass plate for a display |
| JP2008094649A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラス基板の表面処理方法及び水素ラジカルエッチング装置 |
-
1986
- 1986-07-23 JP JP17342486A patent/JPS6330347A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02163037A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-22 | Maruhachi:Kk | 赤蕪の漬物 |
| FR2730725A1 (fr) * | 1995-02-16 | 1996-08-23 | Saverglass Verrerie | Procede d'attaque superficielle d'une surface d'un materiau vitreux multicomposants par plasma |
| WO2002060831A3 (en) * | 2001-02-01 | 2002-11-28 | Nippon Electric Glass Co | Alkali-free glass and glass plate for a display |
| EP1518835A2 (en) * | 2001-02-01 | 2005-03-30 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Alkali-free glass and glass plate for a display |
| EP1518835A3 (en) * | 2001-02-01 | 2005-04-06 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Alkali-free glass and glass plate for a display |
| US6881692B2 (en) | 2001-02-01 | 2005-04-19 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Alkali-free glass and glass plate for a display |
| JP2008094649A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラス基板の表面処理方法及び水素ラジカルエッチング装置 |
| JP4668881B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2011-04-13 | 信越石英株式会社 | 石英ガラス基板の表面処理方法及び水素ラジカルエッチング装置 |
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