JPS5864376A - 蒸着方法 - Google Patents
蒸着方法Info
- Publication number
- JPS5864376A JPS5864376A JP16245981A JP16245981A JPS5864376A JP S5864376 A JPS5864376 A JP S5864376A JP 16245981 A JP16245981 A JP 16245981A JP 16245981 A JP16245981 A JP 16245981A JP S5864376 A JPS5864376 A JP S5864376A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- vapor
- vapor deposition
- glass tube
- inside surface
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/046—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ものである。
内面に導電性物質が蒸着されたガラ、ス円筒はさらに蒸
着膜をトリミング等の加工手段により適当なパターンに
分離形成され電磁集束静電偏向型撮像管の偏向電極を構
成するめに用いられている。
着膜をトリミング等の加工手段により適当なパターンに
分離形成され電磁集束静電偏向型撮像管の偏向電極を構
成するめに用いられている。
従来性なわれているガラス円筒の内面への蒸着方法を第
１図を用いて説明すると、ガラス円筒１は真空容器内で
スタンド２に載置され、ガラス円筒のほぼ中心部には表
面に蒸着用物質４を付着させたヒータ３が配置されてい
る。ヒータとしてはタングステン等の高融点材料が多く
用いられ蒸発用物質としてはＣｒ、Ａ１等の金属が電気
メッキ等の手段で付けられている。蒸着にあたっては、
真空室内の真空度を十分に高め、ガラス円筒を適当な温
度に加熱しておいてヒータ３に電流を通じて蒸発用物質
を加熱、溶融して蒸発させる方法が一般的である。
１図を用いて説明すると、ガラス円筒１は真空容器内で
スタンド２に載置され、ガラス円筒のほぼ中心部には表
面に蒸着用物質４を付着させたヒータ３が配置されてい
る。ヒータとしてはタングステン等の高融点材料が多く
用いられ蒸発用物質としてはＣｒ、Ａ１等の金属が電気
メッキ等の手段で付けられている。蒸着にあたっては、
真空室内の真空度を十分に高め、ガラス円筒を適当な温
度に加熱しておいてヒータ３に電流を通じて蒸発用物質
を加熱、溶融して蒸発させる方法が一般的である。
近年、撮像管は小型、軽量化の方向にむかっており、％
インチロ径のものが主流となりつつあり将来には凭イン
チロ径のものの出現も予測される。
インチロ径のものが主流となりつつあり将来には凭イン
チロ径のものの出現も予測される。
しかし管径に対して管長は消費電力、変調度特性の観点
から極端な縮少は困難であシ、比較的小径で長いガラス
円筒の内面に導電性物質を蒸着しなければならない。そ
のような場合には第１図の方法では次に述べる問題点が
ある。
から極端な縮少は困難であシ、比較的小径で長いガラス
円筒の内面に導電性物質を蒸着しなければならない。そ
のような場合には第１図の方法では次に述べる問題点が
ある。
１ず、径が小さくなると、蒸発用物質４をガラス円筒１
の中心に正しく置かないと、蒸着膜厚の不均一が生じる
が、ヒータ３を加熱することによってヒータ３が膨張す
るため、正確な位置制御は困難である。次にガラス円筒
１は蒸着膜の付着力を高める目的で適当な温度に加熱さ
れるが、その温度はガラス材料の歪点よりも低いことが
好ましく、一般に２００℃〜３００’Ｃ以下である。し
かしヒータ３に電流を通じ蒸発用物質４の融点以上に加
熱するためガラス円筒１の内側表面はさらに高い温度に
加熱される。これは蒸発が完了するまでの短時間のこと
で、ガラス円筒１の軟化にはつながらないが、その時間
内にガラスからはガスが発生しガラス円筒１の内部の真
空度が低下する。
の中心に正しく置かないと、蒸着膜厚の不均一が生じる
が、ヒータ３を加熱することによってヒータ３が膨張す
るため、正確な位置制御は困難である。次にガラス円筒
１は蒸着膜の付着力を高める目的で適当な温度に加熱さ
れるが、その温度はガラス材料の歪点よりも低いことが
好ましく、一般に２００℃〜３００’Ｃ以下である。し
かしヒータ３に電流を通じ蒸発用物質４の融点以上に加
熱するためガラス円筒１の内側表面はさらに高い温度に
加熱される。これは蒸発が完了するまでの短時間のこと
で、ガラス円筒１の軟化にはつながらないが、その時間
内にガラスからはガスが発生しガラス円筒１の内部の真
空度が低下する。
この真空度の低下と蒸着とはほぼ同時に進行するため、
蒸着膜の付着強度は極端に低下する。
蒸着膜の付着強度は極端に低下する。
前記従来の蒸着方法では、これらの問題は本質的なもの
であり、基本的な解決策は見出されていない。
であり、基本的な解決策は見出されていない。
本発明は前記従来の欠点を除去するものであシ、以下本
発明の実施例について第２図、第３図を用い説明する。
発明の実施例について第２図、第３図を用い説明する。
なお、これらの図面において従来例を示す第１図と同一
箇所には同一番号を付しである。゛第２図はガラス円筒
１、蒸着用物質４及び加熱用高周波コイル６が真空室内
に設置されており、ガラス円筒１及び蒸着用材料が一体
で上下できるようになっている。
箇所には同一番号を付しである。゛第２図はガラス円筒
１、蒸着用物質４及び加熱用高周波コイル６が真空室内
に設置されており、ガラス円筒１及び蒸着用材料が一体
で上下できるようになっている。
ここで蒸着用物質４（一般にはＣｘ、Ａｌが用いられて
いる）は常にガラス円筒中心に固定具６゜６′、７で固
定されている。
いる）は常にガラス円筒中心に固定具６゜６′、７で固
定されている。
そこであらかじめ真空室内を高真空１例えば１σ’ ｔ
ｏｒｒ 程度にしておき４００〜６００Ｋｌ（ｚ４る
いは２〜ｓＭＨｚの高周波電圧発生装置８で高周波電圧
を印加しコンデンサ９．コイル１ｏでマツチングを取り
、６〜１０ＫＷの電力を加えながらガラス円筒１と蒸着
用物質４を上下する。
ｏｒｒ 程度にしておき４００〜６００Ｋｌ（ｚ４る
いは２〜ｓＭＨｚの高周波電圧発生装置８で高周波電圧
を印加しコンデンサ９．コイル１ｏでマツチングを取り
、６〜１０ＫＷの電力を加えながらガラス円筒１と蒸着
用物質４を上下する。
従ってガラス円筒内のコイルで囲１れた部分の蒸着用物
質４は内部にうず電流が生じて発熱し、さらに、極部１
１が溶融蒸発し、ガラス円筒１内へ蒸着される。
質４は内部にうず電流が生じて発熱し、さらに、極部１
１が溶融蒸発し、ガラス円筒１内へ蒸着される。
なおこのとき蒸着膜厚の制御は高周波電力の制御または
ガラス円筒と蒸着用物質の上下回数の制御で適宜性なう
ことができる。なお、蒸着用物質４は両端で固定されて
いるが、極部的に加熱されるため、そりやゆがみが生じ
ることが少い。
ガラス円筒と蒸着用物質の上下回数の制御で適宜性なう
ことができる。なお、蒸着用物質４は両端で固定されて
いるが、極部的に加熱されるため、そりやゆがみが生じ
ることが少い。
第３図はガラス円筒１の内部のみを真空にして蒸着を行
なう場合の本発明の他の実施例である。
なう場合の本発明の他の実施例である。
すなわち、ガラス円筒１と蒸着用物質４を封止具１２，
１３で固定封止し真空口１４より排気しながら高周波コ
イルを上下させ、高周波電圧を印加するえ こや蒸着方法では、第２図の損金と比べ、真空にすべき
部分が小さいため、真空ポンプ容量が小さくてすみ、ま
た非常に省エネルギー的な方法である。
１３で固定封止し真空口１４より排気しながら高周波コ
イルを上下させ、高周波電圧を印加するえ こや蒸着方法では、第２図の損金と比べ、真空にすべき
部分が小さいため、真空ポンプ容量が小さくてすみ、ま
た非常に省エネルギー的な方法である。
なお、前記２つの実施例の蒸着方法において、より付着
強度を上けるためにはガラス円筒外部より通常のヒータ
で２００〜３００℃までガラス円筒を加熱しておく方法
を用いても良いし、さらにまたガラス円筒１と蒸着用゛
物質４を絶縁しておき、ガラス円筒１及び蒸着用物質４
の間に直流電圧を印加しておけばイオンビーム蒸着を行
なうことができ、ガラス円筒内面に蒸着用物質を非常に
強固に蒸着することができる。
強度を上けるためにはガラス円筒外部より通常のヒータ
で２００〜３００℃までガラス円筒を加熱しておく方法
を用いても良いし、さらにまたガラス円筒１と蒸着用゛
物質４を絶縁しておき、ガラス円筒１及び蒸着用物質４
の間に直流電圧を印加しておけばイオンビーム蒸着を行
なうことができ、ガラス円筒内面に蒸着用物質を非常に
強固に蒸着することができる。
以上述べてきたことよシ明らかなように本発明の蒸着方
法は蒸着用物質のみが局部的に順次高温に加熱されるた
め有害なガスの発生が少なく蒸着膜の付着強度を大幅に
向上でき、かつ安定した品質の確保が容易である。
法は蒸着用物質のみが局部的に順次高温に加熱されるた
め有害なガスの発生が少なく蒸着膜の付着強度を大幅に
向上でき、かつ安定した品質の確保が容易である。
このように本発明の蒸着方法は小径で長いガラス円筒の
内面という特殊な部分に対する蒸着に際−し、高周波加
熱を効果的に使用したものであシ、その工業上の利用価
値は極めて大きい。
内面という特殊な部分に対する蒸着に際−し、高周波加
熱を効果的に使用したものであシ、その工業上の利用価
値は極めて大きい。
第１図はガラス円筒内への従来の蒸着方法を説明するた
めの図、第２図は本発明の一実施例における蒸着方法を
説明するための構成図、第３図は本発明の他の実施例に
おける蒸着方法を証明するための構成図である。 １・・・・・・ガラス円筒、４・・・・・・蒸着用物質
、６・・・・・・加熱用高周波コイル、６．σ、７・・
・・・・固定具、８・・・・・・高周波電圧発生装置。 代理人の氏名弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名＠１図 第２図 第３図 一工−− Ｚ二。
めの図、第２図は本発明の一実施例における蒸着方法を
説明するための構成図、第３図は本発明の他の実施例に
おける蒸着方法を証明するための構成図である。 １・・・・・・ガラス円筒、４・・・・・・蒸着用物質
、６・・・・・・加熱用高周波コイル、６．σ、７・・
・・・・固定具、８・・・・・・高周波電圧発生装置。 代理人の氏名弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名＠１図 第２図 第３図 一工−− Ｚ二。
Claims (2)
- （１）蒸着用物質を内部に設置した筒体内部を真空にし
、前記筒体外部に配置した高周波加熱手段により前記蒸
着用物質を加熱することにより前記筒体内面に前記蒸着
用物質を蒸着することを特徴とする蒸着方法。 - （２）高周波加熱手段による蒸着用物質の加熱箇所を変
化させつつ筒体内面に前記蒸着用物質を蒸着させること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16245981A JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16245981A JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864376A true JPS5864376A (ja) | 1983-04-16 |
| JPS5950751B2 JPS5950751B2 (ja) | 1984-12-10 |
Family
ID=15755011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16245981A Expired JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950751B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005021825A2 (en) * | 2003-04-02 | 2005-03-10 | Battelle Memorial Institute | Method of coating the interior surface of hollow objects |
| JP2006063388A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Dialight Japan Co Ltd | アルミニウム真空蒸着方法 |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16245981A patent/JPS5950751B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005021825A2 (en) * | 2003-04-02 | 2005-03-10 | Battelle Memorial Institute | Method of coating the interior surface of hollow objects |
| WO2005021825A3 (en) * | 2003-04-02 | 2005-08-11 | Battelle Memorial Institute | Method of coating the interior surface of hollow objects |
| JP2006063388A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Dialight Japan Co Ltd | アルミニウム真空蒸着方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5950751B2 (ja) | 1984-12-10 |
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