JPS5950751B2 - 蒸着方法 - Google Patents
蒸着方法Info
- Publication number
- JPS5950751B2 JPS5950751B2 JP16245981A JP16245981A JPS5950751B2 JP S5950751 B2 JPS5950751 B2 JP S5950751B2 JP 16245981 A JP16245981 A JP 16245981A JP 16245981 A JP16245981 A JP 16245981A JP S5950751 B2 JPS5950751 B2 JP S5950751B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- glass cylinder
- deposition method
- deposition material
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/046—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、比較的小径で長いガラス等よりなる筒体の内
面に導電性物質を蒸着する蒸着方法にかかるものである
。
面に導電性物質を蒸着する蒸着方法にかかるものである
。
内面に導電性物質が蒸着されたガラス円筒はさらに蒸着
膜をトリミング等の加工手段により適当なパターンに分
離形成され電磁集束静電偏向型撮像管の偏向電極を構成
するのに用いられている。
膜をトリミング等の加工手段により適当なパターンに分
離形成され電磁集束静電偏向型撮像管の偏向電極を構成
するのに用いられている。
従来行なわれているガラス円筒の内面への蒸着方法を第
１図を用いて説明すると、ガラス円筒１は真空容器内で
スタンド２に載置され、ガラス円筒のほぼ中心部には表
面に蒸着用物質４を付着させたヒータ３が配置されてい
る。ヒータとしてはタングステン等の高融点材料が多く
用いられ蒸着用物質としてはＣｒ、Ａｌ等の金属が電気
メッキ等の手段で付けられている。蒸着にあたつては、
真空室内の真空度を十分に高め、ガラス円筒を適当な温
度に加熱しておいてヒータ３に電流を通じて蒸発用物質
を加熱、溶融して蒸発させる方法が一般的である。近年
、撮像管は小型、軽量化の方向にむかつており、２／３
インチロ径のものが主流となりつつあり将来には１／２
インチロ径のものの出現も予測さ′れる。
１図を用いて説明すると、ガラス円筒１は真空容器内で
スタンド２に載置され、ガラス円筒のほぼ中心部には表
面に蒸着用物質４を付着させたヒータ３が配置されてい
る。ヒータとしてはタングステン等の高融点材料が多く
用いられ蒸着用物質としてはＣｒ、Ａｌ等の金属が電気
メッキ等の手段で付けられている。蒸着にあたつては、
真空室内の真空度を十分に高め、ガラス円筒を適当な温
度に加熱しておいてヒータ３に電流を通じて蒸発用物質
を加熱、溶融して蒸発させる方法が一般的である。近年
、撮像管は小型、軽量化の方向にむかつており、２／３
インチロ径のものが主流となりつつあり将来には１／２
インチロ径のものの出現も予測さ′れる。
しかし管径に対して管長は消費電力、変調度特性の観点
から極端な縮少は困難であり、比較的小径で長いガラス
円筒の内面に導電性物質を蒸着しなければならない。そ
のような場合には第１図の方法では次に述べる問題点が
ある。まず、径が小さくなると、蒸発用物質４をガラス
円筒１の中心に正し＜置かないと、蒸着膜厚の不均一が
生じるが、ヒータ３を加熱することによつてヒータ３が
膨張するため、正確な位置制御は困難である。
から極端な縮少は困難であり、比較的小径で長いガラス
円筒の内面に導電性物質を蒸着しなければならない。そ
のような場合には第１図の方法では次に述べる問題点が
ある。まず、径が小さくなると、蒸発用物質４をガラス
円筒１の中心に正し＜置かないと、蒸着膜厚の不均一が
生じるが、ヒータ３を加熱することによつてヒータ３が
膨張するため、正確な位置制御は困難である。
次にガラス円筒１は蒸着膜の付着力フを高める目的で適
当な温度に加熱されるが、その温度はガラス材料の歪点
よりも低いことが好ましく、一般に２００℃〜３００℃
以下である。しかしヒータ３に電流を通じ蒸発用物質４
の融点以上に加熱するためガラス円筒１の内側表面はさ
らに高い温５度に加熱される。これは蒸発が完了するま
での短時間のことで、ガラス円筒１の軟化にはつながら
ないが、その時間内にガラスからはガスが発生しガラス
円筒１の内部の真空度が低下する。この真空度の低下と
蒸着とはほぼ同時に進行するため、蒸着膜の付着強度は
極端に低下する。前記従来の蒸着方法では、これらの問
題は本質的なものであり、基本的な解決策は見出されて
いない。
当な温度に加熱されるが、その温度はガラス材料の歪点
よりも低いことが好ましく、一般に２００℃〜３００℃
以下である。しかしヒータ３に電流を通じ蒸発用物質４
の融点以上に加熱するためガラス円筒１の内側表面はさ
らに高い温５度に加熱される。これは蒸発が完了するま
での短時間のことで、ガラス円筒１の軟化にはつながら
ないが、その時間内にガラスからはガスが発生しガラス
円筒１の内部の真空度が低下する。この真空度の低下と
蒸着とはほぼ同時に進行するため、蒸着膜の付着強度は
極端に低下する。前記従来の蒸着方法では、これらの問
題は本質的なものであり、基本的な解決策は見出されて
いない。
本発明は前記従来の欠点を除去するものであり、以下本
発明の実施例について第２図、第３図を用い説明する。
発明の実施例について第２図、第３図を用い説明する。
なお、これらの図面において従来例を示す第１図と同一
箇所には同一番号を付してある。第２図はガラス円筒１
、蒸着用物質４及び加熱用高周波コイル５が真空室内に
設置されており、ガラス円筒１及び蒸着用材料が一体で
上下できるようになつている。ここで蒸着用物質４（一
般にはＣｒ，Ａｌが用いられている）は常にガラス円筒
中心に固定具６，６″，７で個定されている。
箇所には同一番号を付してある。第２図はガラス円筒１
、蒸着用物質４及び加熱用高周波コイル５が真空室内に
設置されており、ガラス円筒１及び蒸着用材料が一体で
上下できるようになつている。ここで蒸着用物質４（一
般にはＣｒ，Ａｌが用いられている）は常にガラス円筒
中心に固定具６，６″，７で個定されている。
そこであらかじめ真空室内を高真空、例えば１０−６ｔ
０ｒｒ程度にしておき４００〜６００Ｋ圧あるいは２〜
５Ｍ上の高周波電圧発生装置８で高周波電圧を，印加し
コンデンサ９、コイル１０でマツチングを取り、５〜１
０ＫＷの電力を加えながらガラス円筒１と蒸着用物質４
を上下する。
０ｒｒ程度にしておき４００〜６００Ｋ圧あるいは２〜
５Ｍ上の高周波電圧発生装置８で高周波電圧を，印加し
コンデンサ９、コイル１０でマツチングを取り、５〜１
０ＫＷの電力を加えながらガラス円筒１と蒸着用物質４
を上下する。
従つてガラス円筒内のコイルで囲まれた部分の蒸着用物
質４は内部にうず電流が生じて発熱し、ｊさらに、極部
１１が溶融蒸発し、ガラス円筒１内へ蒸着される。
質４は内部にうず電流が生じて発熱し、ｊさらに、極部
１１が溶融蒸発し、ガラス円筒１内へ蒸着される。
なおこのとき蒸着膜厚の制御は高周波電力の制御または
ガラス円筒と蒸着用物質の上下回数の制御で適宜行なう
ことができる。
ガラス円筒と蒸着用物質の上下回数の制御で適宜行なう
ことができる。
なお、蒸着用物質，４は両端で固定されているが、極部
的に加熱されるため、そりやゆがみが生じることが少い
。第３図はガラス円筒１の内部のみを真空にして蒸着を
行なう場合の本発明の他の実施例である。すなわち、ガ
ラス円筒１と蒸着用物質４を封止ｊ具１２，１３で固定
封止し真空口１４より排気しながら高周波コイルを上下
させ、高周波電圧を印加する。この蒸着方法では、第２
図の場合と比べ、真空にすべき部分が小さいため真空ポ
ンプ容量が小さくてすみ、また非常に省エネルギー的な
方法である。
的に加熱されるため、そりやゆがみが生じることが少い
。第３図はガラス円筒１の内部のみを真空にして蒸着を
行なう場合の本発明の他の実施例である。すなわち、ガ
ラス円筒１と蒸着用物質４を封止ｊ具１２，１３で固定
封止し真空口１４より排気しながら高周波コイルを上下
させ、高周波電圧を印加する。この蒸着方法では、第２
図の場合と比べ、真空にすべき部分が小さいため真空ポ
ンプ容量が小さくてすみ、また非常に省エネルギー的な
方法である。
なお、前記２つの実施例の蒸着方法において、より付着
強度を上げるためにはガラス円筒外部より通常のヒータ
で２００〜３００℃までガラス円筒を加熱しておく方法
を用いても良いし、さらにまたガラス円筒１と蒸着用物
質４を絶縁しておき、ガラス円筒１及び蒸着用物質４の
間に直流電圧を印加しておけばイオンビーム蒸着を行な
うことができ、ガラス円筒内面に蒸着用物質を非常に強
固に蒸着することができる。
強度を上げるためにはガラス円筒外部より通常のヒータ
で２００〜３００℃までガラス円筒を加熱しておく方法
を用いても良いし、さらにまたガラス円筒１と蒸着用物
質４を絶縁しておき、ガラス円筒１及び蒸着用物質４の
間に直流電圧を印加しておけばイオンビーム蒸着を行な
うことができ、ガラス円筒内面に蒸着用物質を非常に強
固に蒸着することができる。
以上述べてきたことより明らかなように本発明の蒸着方
法はボートを使用せず蒸着用物質のみが局部的に順次高
温に加熱されるため有害なガスの発生が少なく蒸着膜の
純度および付着強度を大幅に向上でき、かつ安定した品
質の確保が容易である。
法はボートを使用せず蒸着用物質のみが局部的に順次高
温に加熱されるため有害なガスの発生が少なく蒸着膜の
純度および付着強度を大幅に向上でき、かつ安定した品
質の確保が容易である。
このように本発明の蒸着方法は小径で長いガラス円筒の
内面という特殊な部分に対する蒸着に際し、高周波加熱
を効果的に使用したものであり、その工業上の利用価置
は極めて大きい。
内面という特殊な部分に対する蒸着に際し、高周波加熱
を効果的に使用したものであり、その工業上の利用価置
は極めて大きい。
第１図はガラス円筒内への従来の蒸着方法を説明するた
めの図、第２図は本発明の一実施例における蒸着方法を
説明するための構成図、第３図は本発明の他の実施例に
おける蒸着方法を証明するための構成図である。 １・・・・・・ガラス円筒、４・・・・・・蒸着用物質
、５・・・・・・加熱用高周波コイル、６，６″ ７・
・・・・・固定具、８・・・・・・高周波電圧発生装置
。
めの図、第２図は本発明の一実施例における蒸着方法を
説明するための構成図、第３図は本発明の他の実施例に
おける蒸着方法を証明するための構成図である。 １・・・・・・ガラス円筒、４・・・・・・蒸着用物質
、５・・・・・・加熱用高周波コイル、６，６″ ７・
・・・・・固定具、８・・・・・・高周波電圧発生装置
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 棒状の蒸着用物質を内部に設置した筒体内部を真空
にし、前記筒体外部に配置した高周波加熱手段により前
記蒸着用物質を局部的に加熱することにより前記筒体内
面に前記蒸着用物質を蒸着することを特徴とする蒸着方
法。 ２ 高周波加熱手段による蒸着用物質の加熱箇所を変化
させつつ筒体内面に前記蒸着用物質を蒸着させることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸着方法。 ３ 筒体および蒸着用物質の間に直流電圧を印加しなが
ら蒸着を行うことを特徴とした特許請求の範囲第１項記
載の蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16245981A JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16245981A JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864376A JPS5864376A (ja) | 1983-04-16 |
| JPS5950751B2 true JPS5950751B2 (ja) | 1984-12-10 |
Family
ID=15755011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16245981A Expired JPS5950751B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950751B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6866886B2 (en) * | 2003-04-02 | 2005-03-15 | Battelle Memorial Institute | Method of coating the interior surface of hollow objects with a diffusion coating |
| JP2006063388A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Dialight Japan Co Ltd | アルミニウム真空蒸着方法 |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16245981A patent/JPS5950751B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5864376A (ja) | 1983-04-16 |
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