JPS593047A - 透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法 - Google Patents
透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法Info
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- JPS593047A JPS593047A JP11226582A JP11226582A JPS593047A JP S593047 A JPS593047 A JP S593047A JP 11226582 A JP11226582 A JP 11226582A JP 11226582 A JP11226582 A JP 11226582A JP S593047 A JPS593047 A JP S593047A
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- oxide film
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- ink
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透明性の良好な金属酸化物皮膜を有するガラス
板の製造方法に関するものであり、その目的とするとこ
ろは、電気製品、電子製品、美術用、ディスプレイ用等
において有用なる透明性の良好な導電性皮膜を有するガ
ラス板を製造せんとするものである。
板の製造方法に関するものであり、その目的とするとこ
ろは、電気製品、電子製品、美術用、ディスプレイ用等
において有用なる透明性の良好な導電性皮膜を有するガ
ラス板を製造せんとするものである。
透明な金属酸化物皮膜をガラス板等に形成する方法とし
ては例えば特開昭５５−２５０４１号公報、同５５−１
０５２２３号公報、及び同５６−８９１６号公報等に開
示された方法がある。これはいずれも特殊な印刷方法を
適用して導電膜を形成する方法であるが、これらの方法
によれば、高温で長時間焼成しなければならないこと及
びその操作方法による製品のばらつきが大きく必ずしも
密着良好な導電膜が得られるとは限らないという欠点が
認められた。しかも、上記の方法はスズ並びにインジウ
ム化合物以外は簡単に適用し難いものであることも本発
明者らの多くの追試実験から認められた。
ては例えば特開昭５５−２５０４１号公報、同５５−１
０５２２３号公報、及び同５６−８９１６号公報等に開
示された方法がある。これはいずれも特殊な印刷方法を
適用して導電膜を形成する方法であるが、これらの方法
によれば、高温で長時間焼成しなければならないこと及
びその操作方法による製品のばらつきが大きく必ずしも
密着良好な導電膜が得られるとは限らないという欠点が
認められた。しかも、上記の方法はスズ並びにインジウ
ム化合物以外は簡単に適用し難いものであることも本発
明者らの多くの追試実験から認められた。
ここにおいて本発明者らは、各種遷移金属酸化物皮膜を
有するガラス板の製造方法について種々の研究を行なっ
てきた結果、今般本発明を完成するに至ったものである
。即ち本発明者らは、遷移金属の有機酸塩を主成分とす
るインキよりなる皮膜をガラス板上ｔこ形成し、次いで
該皮膜を、オゾン、酸化塩素、酸化窒素及び過酸化水素
よりなる群から選ばれた少なくとも１つの強酸化性物質
のガス雰囲気中に暴露した後或いは暴露しつつ、３ｏｏ
ｂ ’〜５００℃に加熱すると＃ｔこはｔ成製品
用、美術用、ディスプレイ用として品質良好な透明性の
ある金属酸化物皮膜を有するガラス板を製造しうること
を見いだしたのである。
有するガラス板の製造方法について種々の研究を行なっ
てきた結果、今般本発明を完成するに至ったものである
。即ち本発明者らは、遷移金属の有機酸塩を主成分とす
るインキよりなる皮膜をガラス板上ｔこ形成し、次いで
該皮膜を、オゾン、酸化塩素、酸化窒素及び過酸化水素
よりなる群から選ばれた少なくとも１つの強酸化性物質
のガス雰囲気中に暴露した後或いは暴露しつつ、３ｏｏ
ｂ ’〜５００℃に加熱すると＃ｔこはｔ成製品
用、美術用、ディスプレイ用として品質良好な透明性の
ある金属酸化物皮膜を有するガラス板を製造しうること
を見いだしたのである。
以下本発明について更に詳しく説明する。本発明に言う
遷移金属とは、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッ
ケ／Ｉ／、銅、亜鉛、ガリウム、モリブデン、ロジウム
、パラジウム、カドミウム、インジウム、スズ、アンチ
モン、ビスマス等の単独もしくはこれらの二種以上の混
合物を指す。そして以上の金属の塩を形成する有機酸と
は、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、芳香族力にボン酸に属
する一塩基酸、二塩基酸が主たるものであるが、これら
のカルボン酸根は３価以上の金属については少なくとも
２個以上の上記した金属原子と結合していることが好ま
しく、金属原子の残余の結合手は酸素、水酸基、塩素、
アルコキシ基、力ＶボキシＶ基等に結合していてもよい
。また、本発明に言う金属酸塩には上記金属の有機酸塩
からできるキレート化合物、錯塩を含むことはもちろん
差支えないが、硫黄、フッ素の２元素は含まれていない
方が爾後の操作上好ましくない。
遷移金属とは、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッ
ケ／Ｉ／、銅、亜鉛、ガリウム、モリブデン、ロジウム
、パラジウム、カドミウム、インジウム、スズ、アンチ
モン、ビスマス等の単独もしくはこれらの二種以上の混
合物を指す。そして以上の金属の塩を形成する有機酸と
は、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、芳香族力にボン酸に属
する一塩基酸、二塩基酸が主たるものであるが、これら
のカルボン酸根は３価以上の金属については少なくとも
２個以上の上記した金属原子と結合していることが好ま
しく、金属原子の残余の結合手は酸素、水酸基、塩素、
アルコキシ基、力ＶボキシＶ基等に結合していてもよい
。また、本発明に言う金属酸塩には上記金属の有機酸塩
からできるキレート化合物、錯塩を含むことはもちろん
差支えないが、硫黄、フッ素の２元素は含まれていない
方が爾後の操作上好ましくない。
このような有機酸塩を主成分として含むインキとは成分
的に次のようなものである。
的に次のようなものである。
即ち金属含有分が５Φ〜３０％、樹脂分が０％〜２０ｑ
６、溶剤が５０条〜７５ｑ６を含んでおり、その他階色
剤、添加剤が若干量含有せられていてもよい。
６、溶剤が５０条〜７５ｑ６を含んでおり、その他階色
剤、添加剤が若干量含有せられていてもよい。
この樹脂分を構成している高分子物質は熱硬化性でも熱
可塑性でもよいが、精密なパターンや階調を有する皮膜
を得るには熱硬化性樹脂又はこれを主とした混合物を適
用するのが好ましい。
可塑性でもよいが、精密なパターンや階調を有する皮膜
を得るには熱硬化性樹脂又はこれを主とした混合物を適
用するのが好ましい。
前記インキを用いてガラス板上に皮膜を形成する。形成
手段としては、直接印刷法、転写印刷法、塗布法、浸漬
法等による。そして必要に応じて該皮膜を乾燥、硬化を
促進せしめるために別工程に移してもよい。特に乾燥、
嫂化を完全ならしめることは前記インキ中に熱硬化性樹
脂を含む場合に好ましく、該硬化は熱硬化又は光硬化の
いずれに依ってもよい。
手段としては、直接印刷法、転写印刷法、塗布法、浸漬
法等による。そして必要に応じて該皮膜を乾燥、硬化を
促進せしめるために別工程に移してもよい。特に乾燥、
嫂化を完全ならしめることは前記インキ中に熱硬化性樹
脂を含む場合に好ましく、該硬化は熱硬化又は光硬化の
いずれに依ってもよい。
このようにして皮膜の形成されたガラス板を次に強酸化
性のガス雰囲気中に暴露する。本発明において使用する
強酸化物質とはオゾン、二酸化塩素、−酸化塩素、過酸
化水素、五酸化窒素及び二酸化窒素の単独もしくはこれ
らの二種以上の混合物、或いはこれらる含有する酸素ガ
ス、電気、炭酸ガス、窒素ガスとの混合気体を意味する
。上記の皮膜を形成されたガラス表面は３００Ｃ〜５０
０℃に加熱される。強酸化物質のガス雰囲気中への暴露
及び加熱の条件の組合わせは、いずれが先であっても差
支えなく又同時に行なってもよい。この工程はインキの
組成やインキの使用量並びに加熱焼成条件によって変化
し、二、三の予備的な試験を行なった後決定されるべき
である。又、上記加熱は炭素分を可及的に少なくするた
めに行うものである。そのため上記温度範囲が特定され
るのであって、３００℃以下では炭素分が表面に残留し
。
性のガス雰囲気中に暴露する。本発明において使用する
強酸化物質とはオゾン、二酸化塩素、−酸化塩素、過酸
化水素、五酸化窒素及び二酸化窒素の単独もしくはこれ
らの二種以上の混合物、或いはこれらる含有する酸素ガ
ス、電気、炭酸ガス、窒素ガスとの混合気体を意味する
。上記の皮膜を形成されたガラス表面は３００Ｃ〜５０
０℃に加熱される。強酸化物質のガス雰囲気中への暴露
及び加熱の条件の組合わせは、いずれが先であっても差
支えなく又同時に行なってもよい。この工程はインキの
組成やインキの使用量並びに加熱焼成条件によって変化
し、二、三の予備的な試験を行なった後決定されるべき
である。又、上記加熱は炭素分を可及的に少なくするた
めに行うものである。そのため上記温度範囲が特定され
るのであって、３００℃以下では炭素分が表面に残留し
。
５００℃以上においては炭素分がガラスの中に混入する
おそれがある。
おそれがある。
以上述べた方法によりガラス板上に透明性の良好な金属
酸化物皮膜が容易に形成される。本発明にかかる方法し
こよって得られる酸化物皮膜は、α００１ ｐｐｍ以下
の炭素分しか含有せずこのことは電気的性質をはじめと
して従来の方法では得難いような均質な美麗な価値高い
製品を得ることを約束するものである。
酸化物皮膜が容易に形成される。本発明にかかる方法し
こよって得られる酸化物皮膜は、α００１ ｐｐｍ以下
の炭素分しか含有せずこのことは電気的性質をはじめと
して従来の方法では得難いような均質な美麗な価値高い
製品を得ることを約束するものである。
本発明の特長は、経済的に有利な各種の遷移金属塩を用
いることができ、生成した金属酸化物皮膜がガラス板に
より強固に密着させることができるのであるが、この効
果を更に向上させるためには、更に空気、酸素或いは前
記の強酸化性ガスの存在下でガラス中の熱歪を解消する
効果も含めて、加熱を行うことが望ましい。そして本発
明の方法はガラス板上に全部或いは部分的に施すことが
でき、しかも必要に応じて濃淡の階調をつけることもで
きるという大きい利点がある。
いることができ、生成した金属酸化物皮膜がガラス板に
より強固に密着させることができるのであるが、この効
果を更に向上させるためには、更に空気、酸素或いは前
記の強酸化性ガスの存在下でガラス中の熱歪を解消する
効果も含めて、加熱を行うことが望ましい。そして本発
明の方法はガラス板上に全部或いは部分的に施すことが
でき、しかも必要に応じて濃淡の階調をつけることもで
きるという大きい利点がある。
以下、本発明の実施例について説明する。
〈実施例１〉
オクチル酸錫をｎ−ブチルアルコールで希釈し。
この溶液の錫含有量を９５％、粘度を１００ ｃｐｓと
する。これをインキとして用い、深度＆５μｍ１開口部
平均径６０μｍ、開口部面積が１０％、１ｃＩａ当りの
凹部容積的０．２ｍ３なる小孔部を全面に有するグラビ
ア版を凹版として用いてその小孔部をこインキを充填し
、表面を銅製のドクター刃で余分のインキをかき取った
後、表面平滑なる凸部を有するブチＶゴム製の版胴を圧
接し、凸部を被印刷物であるガラス板表面に圧接し、凸
部パターン通りのインキ塗膜を印刷し、１００℃で３０
分の間乾燥させた。
する。これをインキとして用い、深度＆５μｍ１開口部
平均径６０μｍ、開口部面積が１０％、１ｃＩａ当りの
凹部容積的０．２ｍ３なる小孔部を全面に有するグラビ
ア版を凹版として用いてその小孔部をこインキを充填し
、表面を銅製のドクター刃で余分のインキをかき取った
後、表面平滑なる凸部を有するブチＶゴム製の版胴を圧
接し、凸部を被印刷物であるガラス板表面に圧接し、凸
部パターン通りのインキ塗膜を印刷し、１００℃で３０
分の間乾燥させた。
次に、印刷されたガラス親な電気炉、室内で４５０℃で
３０分間加熱し、直ちにオゾン気流中で３０分間保持し
た。このオゾン気流はオゾンの標準発生量１０６％□の
装置より得られたガスを用いたものである。
３０分間加熱し、直ちにオゾン気流中で３０分間保持し
た。このオゾン気流はオゾンの標準発生量１０６％□の
装置より得られたガスを用いたものである。
以上の処理を行ったのち冷却しガラス板を取り出して検
査した結果光の透過率８８％のパターン化された酸化錫
皮膜が形成されており、その皮膜の電気抵抗値を測定し
たところ２０に１１−ＣＭであった。
査した結果光の透過率８８％のパターン化された酸化錫
皮膜が形成されており、その皮膜の電気抵抗値を測定し
たところ２０に１１−ＣＭであった。
〈実施例２〉
修酸インジウム及びジプチルモノマレイン酸錫、メタク
リレートを１０部ずつ、さらにベンゾインエーテＶを１
部をキシレンで希釈し、この溶液のインジウムと錫の合
計含有量を１０％、粘度を１２０ｃｐｓとする。このも
のをインキとしてスピンナーを用いてガラス板に２００
０ｒｐｍで２０秒の操作を２度行った後、ＵＶ照射装置
（２ｋＷ、２灯）を用いて３０１の距離で２分間照射す
る。電気炉内で５００ ℃で２０分間焼成したのち冷却
する。ついでオゾン発生装置内（オゾン発生量は２．６
０！！％□）に２０分間保持したのち真空室内で７０％
過酸化水素溶液の上部にかざして１０分間放置する。
リレートを１０部ずつ、さらにベンゾインエーテＶを１
部をキシレンで希釈し、この溶液のインジウムと錫の合
計含有量を１０％、粘度を１２０ｃｐｓとする。このも
のをインキとしてスピンナーを用いてガラス板に２００
０ｒｐｍで２０秒の操作を２度行った後、ＵＶ照射装置
（２ｋＷ、２灯）を用いて３０１の距離で２分間照射す
る。電気炉内で５００ ℃で２０分間焼成したのち冷却
する。ついでオゾン発生装置内（オゾン発生量は２．６
０！！％□）に２０分間保持したのち真空室内で７０％
過酸化水素溶液の上部にかざして１０分間放置する。
ガラス板をとり出して検査したところ光の透過率８５％
の金属酸化物皮膜が形成されていた。また電気抵抗値を
測定したところ１２にΩ・１であった。
の金属酸化物皮膜が形成されていた。また電気抵抗値を
測定したところ１２にΩ・１であった。
〈実施例３〉
酢酸アンチモン１０部及びアセチＭアセトン溶液を鉛部
、更にポリメチルメタクリレート１０部を混合シ、アセ
トンとキシレンにて希釈し、粘度を２００ｃｐｓとする
。これをインキとしてスピンナーを用いてガラス板にｔ
ｏｏｏｒｐｍで２０秒、更Ｅ ２００Ｏｒｐｍで２０秒
と２度塗布しこ後１２０℃の乾燥器内で３０分乾燥した
後、５００℃で３０分焼成し、冷却した後、真空室内で
６０形過塩素酸の上部にかざして３０分間放置した後取
り出した。
、更にポリメチルメタクリレート１０部を混合シ、アセ
トンとキシレンにて希釈し、粘度を２００ｃｐｓとする
。これをインキとしてスピンナーを用いてガラス板にｔ
ｏｏｏｒｐｍで２０秒、更Ｅ ２００Ｏｒｐｍで２０秒
と２度塗布しこ後１２０℃の乾燥器内で３０分乾燥した
後、５００℃で３０分焼成し、冷却した後、真空室内で
６０形過塩素酸の上部にかざして３０分間放置した後取
り出した。
得られたガラス板を検査した結果、光の透過率８５条の
酸化アンチモン皮膜が形成されていた。又電気抵抗値を
測定したところ、３００にΩ・鐸であった。
酸化アンチモン皮膜が形成されていた。又電気抵抗値を
測定したところ、３００にΩ・鐸であった。
特許出願人
日本写真印刷株式会社
手続補正書（自発）
Ｌ事件の表示
昭和５７年特許願第１１２２６５号
２、発明の名称
透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法
＆補正をする者
事件との関係 特許出願人
１）願書の発明の名称の欄
＆補正の内容
ｌ）別紙のとおり
２）明細書第１頁第８行目、発明の名称の欄に「ガ′ラ
ス板」とあるのを「耐熱性基板」に補正します。
ス板」とあるのを「耐熱性基板」に補正します。
８）別紙のとおり
４）明細書第２頁第１８行目及び第１６行目に「ガラス
板」とあるのをそれぞれ「ガラス板等の耐熱性基板」に
補正します。
板」とあるのをそれぞれ「ガラス板等の耐熱性基板」に
補正します。
明細書第８頁第１８行目、同頁第１７行目及び第４頁第
４行目に「ガラス板」とあるのをそれぞれ「耐熱性基板
」に補正します、 明細書第５頁第１４行目に「ガラス板」とあるのを「ガ
ラス板等の耐熱性基板」に補正します。
４行目に「ガラス板」とあるのをそれぞれ「耐熱性基板
」に補正します、 明細書第５頁第１４行目に「ガラス板」とあるのを「ガ
ラス板等の耐熱性基板」に補正します。
明細書第６頁第８行目に「ガラス板」とあるのを「耐熱
性基板」に補正します。
性基板」に補正します。
明細書第６頁第１０行目に「ガラス」とあるのを「耐熱
性基板」に補正します。
性基板」に補正します。
明細書第７頁第１行目に「ガラス」とあるのを「ガラス
等」に補正します。
等」に補正します。
明細書第７頁第８行目に「ガラス板」とあるのを［ガラ
ス板等の耐熱性基板］に補正します。
ス板等の耐熱性基板］に補正します。
明細書第７頁第１２行目及び同頁第１↑行目に「ガラス
板」とあるのを「耐熱性基板」に補正します。
板」とあるのを「耐熱性基板」に補正します。
明細書第７頁第１６行目ｔこ「ガラス」とあるのを「耐
熱性基板」に補正します。
熱性基板」に補正します。
明細書第８頁第４行目に「９５％」とあるのをｒ１５％
」に補正します。
」に補正します。
明細書第９頁第１１行目に「２ｋＷ」とあるのをｒ８０
ｗβ１１に補正します。
ｗβ１１に補正します。
明細書第１Ｏ頁第７行目に「塗布しこ」とあるのを「塗
布した」に補正します。
布した」に補正します。
明細書第１頁第８行目１こ「抵抗値」とあるのを「抵抗
値」に補正します。
値」に補正します。
以上
特許請求の範囲
１遷移金属の有機酸塩を主成分とするインキよりなる皮
膜を耐熱性基板上に形成し、次いで該皮膜を、オゾン、
酸化塩素、酸化窒素及び過酸化水素よりなる群から選は
れた少なくとも１つの強酸化性物質のガス雰囲気中に暴
露すること及び３００℃〜５００℃に加熱することを特
徴とする透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製
造方法。
膜を耐熱性基板上に形成し、次いで該皮膜を、オゾン、
酸化塩素、酸化窒素及び過酸化水素よりなる群から選は
れた少なくとも１つの強酸化性物質のガス雰囲気中に暴
露すること及び３００℃〜５００℃に加熱することを特
徴とする透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製
造方法。
２耐熱性基板上に形成されたインキよりなる皮膜を強酸
化性物質のガス雰囲気中に暴露した後、８００℃〜５０
０℃に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製造
方法。
化性物質のガス雰囲気中に暴露した後、８００℃〜５０
０℃に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製造
方法。
８耐熱性基板上に形成されたインキよりなる皮膜を強酸
化性物質のガス雰囲気中に暴露しつつ８００℃〜５００
Ｃに加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製造方
法。
化性物質のガス雰囲気中に暴露しつつ８００℃〜５００
Ｃに加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の製造方
法。
４耐熱性基板上に形成されたインキよりなる皮膜を８０
０℃〜５００℃に加熱した後、強酸化性物質のガス雰囲
気中に暴露することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の＃遣
方法。
０℃〜５００℃に加熱した後、強酸化性物質のガス雰囲
気中に暴露することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の透明な金属酸化物皮膜を有する耐熱性基板の＃遣
方法。
手続補正書く自発）
昭和６７年８月−０日
特許庁長官 殿
昭和５７年特許願第１１２２６５号
２、発明の名称
、゛透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法
ａ補正をする者
事件との関係 特許出願人
会、補正の対象
ｌ）明ｍ薔の発明の詳細な説明の欄
５、補正の内容
ｌ）明細書第５頁第１５行目〜第１６行目をこ「形成手
段としては、直接印刷法、転写印刷法、塗布法、浸漬法
等による。」とあるのに続いて以下の文を挿入致します
。即ち、 ［印刷方法としては、例えば本出願人が既に出願したよ
うな薄膜印刷方法（昭和５７年特許願第６４５１０号、
同第６６７４０号、同第６６７４１号及び同第７４１７
２号参照）を適用すれば、特をこ均一な厚さの薄膜を容
易に形成することができる。−１以上 ２５１
段としては、直接印刷法、転写印刷法、塗布法、浸漬法
等による。」とあるのに続いて以下の文を挿入致します
。即ち、 ［印刷方法としては、例えば本出願人が既に出願したよ
うな薄膜印刷方法（昭和５７年特許願第６４５１０号、
同第６６７４０号、同第６６７４１号及び同第７４１７
２号参照）を適用すれば、特をこ均一な厚さの薄膜を容
易に形成することができる。−１以上 ２５１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 遷移金属の有機酸塩を主成分とするインキよりなる
皮膜をガラス板上に形成し１次いで該皮膜を、オゾン、
酸化塩素、酸化窒素及び過酸化水素よりなる群から選ば
れた少なくとも１つの強酸化性物質のガス雰囲気中に暴
露すること及び３００℃〜５ｏＯＣｃ７Ｂ熱することを
特徴とする透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製
造方法。 ２ガラス板上に形成されたインキよりなる皮膜を強酸化
性物質のガス雰囲気中に暴露した後、３０００〜５００
℃に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法
。 ３ガラス板上に形成されたインキよりなる皮膜を強酸化
性物質のガス雰囲気中に暴露しつつ３００℃〜５００℃
に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法。 ４ガヲス板上に形成されたインキよりなる皮膜を３００
Ｃ〜５００℃に加熱した後、強酸化性物質のガス雰囲気
中に暴露することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226582A JPS593047A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226582A JPS593047A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS593047A true JPS593047A (ja) | 1984-01-09 |
| JPH0377139B2 JPH0377139B2 (ja) | 1991-12-09 |
Family
ID=14582370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11226582A Granted JPS593047A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 透明な金属酸化物皮膜を有するガラス板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593047A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6115387A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-23 | 日本写真印刷株式会社 | 導電性図柄を有する曲面状基板の製造方法 |
| JPH07240709A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Nec Corp | 移動体衛星通信方式 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102211899B1 (ko) * | 2013-11-18 | 2021-02-03 | 가부시키가이샤 니콘 | 고체 촬상 소자 및 촬상 장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5525041A (en) * | 1978-08-11 | 1980-02-22 | Hitachi Ltd | Forming transparent conductive layer on substrate |
| JPS56126210A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-03 | Hitachi Ltd | Method of forming transparent conductive film |
-
1982
- 1982-06-29 JP JP11226582A patent/JPS593047A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5525041A (en) * | 1978-08-11 | 1980-02-22 | Hitachi Ltd | Forming transparent conductive layer on substrate |
| JPS56126210A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-03 | Hitachi Ltd | Method of forming transparent conductive film |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6115387A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-23 | 日本写真印刷株式会社 | 導電性図柄を有する曲面状基板の製造方法 |
| JPH07240709A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-09-12 | Nec Corp | 移動体衛星通信方式 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0377139B2 (ja) | 1991-12-09 |
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