JPS59216890A - ピリドベンズオキサジン誘導体の製法 - Google Patents
ピリドベンズオキサジン誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS59216890A JPS59216890A JP8882683A JP8882683A JPS59216890A JP S59216890 A JPS59216890 A JP S59216890A JP 8882683 A JP8882683 A JP 8882683A JP 8882683 A JP8882683 A JP 8882683A JP S59216890 A JPS59216890 A JP S59216890A
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- lower alkyl
- compound
- chloride
- sulfuric acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピリドベンズオキサジン誘導体の製法に関する
。更に詳しくは９本発明は式〔式中＋Ｒ１は水素原子又
は低級アルキル基を。
。更に詳しくは９本発明は式〔式中＋Ｒ１は水素原子又
は低級アルキル基を。
Ｘ、及びＸ、は同じ又は異なるハロゲン原子を意味し＋
”ｔは式 ｎ （式中＋ Ｒ１は低級アルキル基を＋ Ｒ４及びＲ３は
同じ又は興なる低級アルキル基を意味する。）で表わさ
れる基を意味する。〕で表わされる化合物を酸ハライド
及び硫酸と反応させて式（式中＋ ＲＩ ＋ ｘＩ及び
Ｘ２は前記に同じであり。
”ｔは式 ｎ （式中＋ Ｒ１は低級アルキル基を＋ Ｒ４及びＲ３は
同じ又は興なる低級アルキル基を意味する。）で表わさ
れる基を意味する。〕で表わされる化合物を酸ハライド
及び硫酸と反応させて式（式中＋ ＲＩ ＋ ｘＩ及び
Ｘ２は前記に同じであり。
Ｒ６は水素原子又は低級アルキル基を意味する。）で表
わされる化合物を製する方法に関する。
わされる化合物を製する方法に関する。
化合物（１）は、医療上有用なピリドベンズオキサジン
誘導体Ｃ特開昭５７−４６９８６号公報参照）の中間体
として重要な化合物である。
誘導体Ｃ特開昭５７−４６９８６号公報参照）の中間体
として重要な化合物である。
化合物（Ｉ）から化合物（ＩＩ）への製法については。
ポリリン酸エステルを用いる方法が公知である（前記公
報参照）。しかし、この方法は１５０’０という高温を
必要とすること、廃棄物として大量のリン系化合物が生
成すること、及び収率が低いことなど、工業的製法とし
ては必ずしも満足できるものではない。
報参照）。しかし、この方法は１５０’０という高温を
必要とすること、廃棄物として大量のリン系化合物が生
成すること、及び収率が低いことなど、工業的製法とし
ては必ずしも満足できるものではない。
本発明者らは、化合物（ｎ）の工業的に有利な製法につ
いて鋭意研究を重ねた結果１本発明を完成するに至った
。
いて鋭意研究を重ねた結果１本発明を完成するに至った
。
即ち１本発明は化合物（Ｉ）を酸ハライド及び硫酸と反
応させることからなる化合物（ＩＩ）の製法である。
応させることからなる化合物（ＩＩ）の製法である。
原料化合物（Ｉ）は公知の方法または参考例に示した方
法により製造され、結晶として単離後または反応液のま
まで本発明方法の原料として用いることができる。
法により製造され、結晶として単離後または反応液のま
まで本発明方法の原料として用いることができる。
本発明の反応を行なうには、化合物（Ｉ）及び酸ハライ
ドの混合物に硫酸を添加すればよい。添加方法は特に限
定されず、室温下０．５〜６０分間で加えるのが好まし
いが、冷却下または加温下に添加してもよい。この反応
は硫酸の添加終了時点でほとんど終了しているが、さら
に室温乃至１５０℃の温度範囲に５〜１２０分間保ち。
ドの混合物に硫酸を添加すればよい。添加方法は特に限
定されず、室温下０．５〜６０分間で加えるのが好まし
いが、冷却下または加温下に添加してもよい。この反応
は硫酸の添加終了時点でほとんど終了しているが、さら
に室温乃至１５０℃の温度範囲に５〜１２０分間保ち。
反応の完結を図ってもよい。
本発明において使用される酸ハライドは脂肪族系、芳香
族系など各種のものがある。具体的には、たとえば、塩
化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ルーブチリル、塩
化ベンゾイルなどがあげられ、これらは単独または二種
以上混合して使用される。酸ハライドの使用量は化合物
（■）１部に対し０．２〜２０部の範囲（重量比）が好
適である。
族系など各種のものがある。具体的には、たとえば、塩
化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ルーブチリル、塩
化ベンゾイルなどがあげられ、これらは単独または二種
以上混合して使用される。酸ハライドの使用量は化合物
（■）１部に対し０．２〜２０部の範囲（重量比）が好
適である。
硫酸は濃度９０％（重量）以上が好ましく。
その使用量は化合物（Ｉ）１部に対し０．１〜５部の範
囲（重量比）が好適である。
囲（重量比）が好適である。
反応終了後、生成した化合物（ＩＩ）は９反応液を冷却
するか、もしくは冷却後難溶性の溶媒を添加して析出さ
せ、これを濾取することにより容易にかつ高収率で得る
ことができる。
するか、もしくは冷却後難溶性の溶媒を添加して析出さ
せ、これを濾取することにより容易にかつ高収率で得る
ことができる。
本発明の方法は、緩和な条件下で単純な操作により目的
化合物を高収率かつ高純度で得ることができ、工業的に
きわめて有用な製造方法で５− ある。
化合物を高収率かつ高純度で得ることができ、工業的に
きわめて有用な製造方法で５− ある。
次に実施例及び参考例を記載する。
実施例１
ジエチル（７，８−ジフルオロ−８−メチル−２，３−
ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−４−イル
）メチレンマロネー） １．０００９と塩化アセチル２
−の混液に室温下９７％硫酸０．５ｄを加え、更に外温
８０〜９０℃のオイルバス上で１時間加熱する。反応液
に氷水を加え。
ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−４−イル
）メチレンマロネー） １．０００９と塩化アセチル２
−の混液に室温下９７％硫酸０．５ｄを加え、更に外温
８０〜９０℃のオイルバス上で１時間加熱する。反応液
に氷水を加え。
析出する結晶を濾取し、水洗し、９．１０−ジフルオロ
−８−メチル−７−オキソ−２，８−ジヒドロ−７Ｈ−
ピリド（１，２，８−ｄ、ｅ ）（１，４）ベンズオキ
サジン−６−カルボン酸エチルエステルｓ １７Ｉ１１
９（収率９８．９％）をえた。融点２６１℃。
−８−メチル−７−オキソ−２，８−ジヒドロ−７Ｈ−
ピリド（１，２，８−ｄ、ｅ ）（１，４）ベンズオキ
サジン−６−カルボン酸エチルエステルｓ １７Ｉ１１
９（収率９８．９％）をえた。融点２６１℃。
元素分析値 ＣゆＨ，、Ｎｏ４Ｆ’、として計算値 ０
５８．２５． Ｈ４，２４，Ｎ ４．５８実測値 ０
５８ｉ３１． Ｈ４，８０，Ｎ ４．５２−〇− 実施例２ ジエチル（７，８−ジフルオロ−８−メチル−２，３−
ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−４−イル
）メチレンマロネー）１．０００９と塩化ベンゾイル１
−の混液に室温下９７％硫酸０．５−を加え、更に外温
１００〜１１０℃のオイルバス上で２０分間加熱する。
５８．２５． Ｈ４，２４，Ｎ ４．５８実測値 ０
５８ｉ３１． Ｈ４，８０，Ｎ ４．５２−〇− 実施例２ ジエチル（７，８−ジフルオロ−８−メチル−２，３−
ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−４−イル
）メチレンマロネー）１．０００９と塩化ベンゾイル１
−の混液に室温下９７％硫酸０．５−を加え、更に外温
１００〜１１０℃のオイルバス上で２０分間加熱する。
反応液に氷水を加え、析出する結晶を濾取し水洗する。
得られた混晶をジエチルエーテル２０ｔ＋７に懸濁し濾
取し、９．１０−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ
−２，３−ジヒドロ−７Ｈ−ピリド（１，２，８−ｄｅ
） （１，４）ベンズオキサジン−６−カルボン酸エ
チルエステルａｚｓｗｕｉｃ収率７１．６％）をえた。
取し、９．１０−ジフルオロ−３−メチル−７−オキソ
−２，３−ジヒドロ−７Ｈ−ピリド（１，２，８−ｄｅ
） （１，４）ベンズオキサジン−６−カルボン酸エ
チルエステルａｚｓｗｕｉｃ収率７１．６％）をえた。
融点２６１’Ｏ６実施例８
７．８−ジフルオロ−２，８−ジヒドロ−８−メチル−
４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン１．００９ 。
４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン１．００９ 。
オルトギ酸エチル０．８８９及びイソプロピリデン
ンマロネート（メルトゆム酸） ０．７８９の混液を１
１０〜１２０℃で２分間加熱する。固化した反応混合物
（イソプロピリデン（７，８−ジフルオロ−２，３−ジ
ヒドロ−８−メチル−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン
−４−イル）メチレンマロネート）に塩化アセチル８−
を加えて溶液として１次いで室温下９７％硫酸０．５−
を加え。
１０〜１２０℃で２分間加熱する。固化した反応混合物
（イソプロピリデン（７，８−ジフルオロ−２，３−ジ
ヒドロ−８−メチル−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン
−４−イル）メチレンマロネート）に塩化アセチル８−
を加えて溶液として１次いで室温下９７％硫酸０．５−
を加え。
さらに同温５分間保つ。反応液と氷水を加え。
析出する結晶−を濾取し、水洗し、９．１０−ジフルオ
ロ−８−メチル−７−オキソ−２，８−ジヒドロ−７Ｈ
−ピリド（１，２，８−ａｓ ） （１，４）ベンズオ
キサジン−６−カルボン酸８７４■（収率５７．５％）
をえた。融点８００℃以上。
ロ−８−メチル−７−オキソ−２，８−ジヒドロ−７Ｈ
−ピリド（１，２，８−ａｓ ） （１，４）ベンズオ
キサジン−６−カルボン酸８７４■（収率５７．５％）
をえた。融点８００℃以上。
参考例
７．８−ジフルオロ−２，８−ジヒドロ−８−メチル−
４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン１．００９オルトギ酸
エチル０．８８ｇ、イソプロピリデンＴＯネート０．８
６９及びトルエンｌＯ−の混液を１．５時間還流する。
４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン１．００９オルトギ酸
エチル０．８８ｇ、イソプロピリデンＴＯネート０．８
６９及びトルエンｌＯ−の混液を１．５時間還流する。
微量の粘性分解物を熱時濾夫し、濾液を減圧下濃縮する
。残渣をクロロホルム−石油エーテルより再結晶すると
イソプロピリデン（７，８−ジフルオ０−２．１−ジヒ
ドロ−８−メチル−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−
４−イル）メチレンマロネー） １．４８９が得られた
。融点１８６〜１８７℃。
。残渣をクロロホルム−石油エーテルより再結晶すると
イソプロピリデン（７，８−ジフルオ０−２．１−ジヒ
ドロ−８−メチル−４Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−
４−イル）メチレンマロネー） １．４８９が得られた
。融点１８６〜１８７℃。
９−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）式 〔式中、ＲＩは水素原子又は低級アルキル基を、ｘｌ及
びＸ、は同じ又は異なるハロゲン原子を意味し＋ Ｒ４
は式 （式中＋Ｊは低級アルキル基を＋ Ｒ４及びＲ。 は同じ又は異なる低級アルキル基を意味する。）で表わ
される基を意味する。〕で表わされる化合物を酸ハライ
ド及び硫酸と反応させることを特徴とする式 （式中、 Ｒ，、Ｘ、及びＸ、は前記に同じであり。 Ｒ６は水素原子又は低級アルキル基を意味する。）で表
わされる化合物の製法。 （２、特許請求の範囲第１項において、Ｒ８がメチル基
、Ｒ６がエチル基、ｘＩ及びＸ、がフッ素原子である化
合物の製法。 （３） 特許請求の範囲第１項においてＲ，がメチル
基＋ Ｒ６が水素原子Ｖ Ｘ、及びＸ、がフッ素原子で
ある化合物の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8882683A JPS59216890A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | ピリドベンズオキサジン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8882683A JPS59216890A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | ピリドベンズオキサジン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59216890A true JPS59216890A (ja) | 1984-12-06 |
| JPH0359904B2 JPH0359904B2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=13953736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8882683A Granted JPS59216890A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | ピリドベンズオキサジン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59216890A (ja) |
-
1983
- 1983-05-20 JP JP8882683A patent/JPS59216890A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0359904B2 (ja) | 1991-09-12 |
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