JPS59195146A - メツキ被膜の螢光x線分析法 - Google Patents

メツキ被膜の螢光x線分析法

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JPS59195146A
JPS59195146A JP6981483A JP6981483A JPS59195146A JP S59195146 A JPS59195146 A JP S59195146A JP 6981483 A JP6981483 A JP 6981483A JP 6981483 A JP6981483 A JP 6981483A JP S59195146 A JPS59195146 A JP S59195146A
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plating
ray
plating film
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Yoshiro Matsumoto
松本 義朗
Masakatsu Fujino
藤野 允克
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    • G01MEASURING; TESTING
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は蛍光X線強度に基づいてメッキ被膜の早及び/
又は組成を定量する蛍光X線分析方法間するものである
耐食性、溶接性、〜〉装性、経済性に優れた各種メッキ
鋼板が製造されているが、耐食性、溶接、窪装性はメッ
キ被膜の膜厚9組成と密接な関にあり、品質管理上、膜
厚9組成の正確な測定キ被膜の膜厚又は付を・量(g/
rn2)の測定にはメッキmfJ r後の鋼板重量及び
銅板表面積上に基づいて求める重量法が、また組成には
化7?分析法が採られていたが、これらの方法は正確な
分析を行えるが結果を得る迄に時間を要するためメッキ
鋼板の製造ラインにおいてメッキ被膜の付、有量7組成
の制御にI″i適用出来ない難点がある。このため近年
にあっては蛍光X線分析法が利用び九つつある。
蛍光X線分析法は測定対象物に励起X線を照射し、これ
によって測定対象物から発生する1、l’=J有X線有
産線強度蛍光X線強度を測定し、予め求めておいた検量
娠から目標元素の定量を行い、また蛍光X線強度と1漢
P=’との関係に基づき膜厚を求めるようになっている
ところで従来における蛍光X線分析法はいずれも単層メ
ッキ鋼板についての膜厚2紀成を定量する方法であって
、例えば5n−Pbの二元メッキ鋼板の膜厚Xと、Sn
 (又はPb)7.)度yを求める場合にはSnの特性
X線の測定強度と純SnのX線強度との比Isと、Pb
の特性X線の測定強度と純PbのX線強度との比ipと
を求め、下記(1) 、 (2)式の連立方程式を求め
ることによってX+Yを得ている(特公昭56−1ge
6′8号)。
l5=fl(X 、 V )        −II)
■p−f2(X、y)        ・・(2)しか
しこの方法は下地金属とメッキ被膜とに共通の元素が含
まれているような場合、例えば鋼板にFe −Zn合金
メッキを施したような場1−・1には被膜厚さ5組成の
定量が゛出来ず、また近年開発が進められている耐食性
、溶接性、塗装性等により優れた多層メッキ鋼板、例え
ば鋼板表1川に夫々組成の異なるFe −Zn合金メッ
キを二層にわたって積層形成してなる二層メッキ鋼板に
2ける各層の膜厚。
組成を測定することも出来ないという欠点があった。
との対重として本発明者等は鋼4μにFe −Zn合金
をメンキした単層メッキ鋼板、即ち下地金属とメッキ被
膜とに共通の元素が含まれている場合においても、メッ
キ被膜の付−am及び組成の分析が可能な蛍光X線分析
法につき既に出頭を行っている(特願1召57−105
709号)。本発明は更にこの方法を発展させたもので
あって、鋼板等の下地金属6上に二層又はそれ以上の多
層にわたって、純金属又は二元、三元、或いはそれ以上
の多元合金メッキ被膜を形成した場合についても、下地
金ノ1」ル及び各層のメッキ被膜に共通の元素が含せハ
てめるか否かKかかわらず各メッキ被膜の付4量及び各
成分の組成を分析することをi”J能としたメッキ被1
1%の蛍光X線分析法を提供するにある。
本発明に係るメッキ被1俟の蛍光X森分析法は純金ノ萬
又は合金の複層メッキ被膜の付着量及び/又は組成を定
量する方法において、一層目のメッキ被膜を形成した後
、該一層目のメッキ被11シ3についての付看力i、叉
び/又は組成を蛍光X線分析し、次いで二層のメッキ被
膜を形成した後、前記蛍光X誠分析を行った一層目のメ
ッキ被朕位i!?と対応する位置について、蛍光X線分
析を行い、両蛍光X線分析結果に基づいて二層目のメッ
キ被膜についての付着量及び/又は組成を算出すること
を特数とする。
以下本発明方法の原理を、下地金偶たる鋼板の表面に大
々組成の異なるFe−、Zn合金を二層メンキした場合
における各層の#l阪及びメッキ被11・、・の付扁量
(g/m2)を測定する場合につき説ゆ〜]する。
第1,4図は末完り」方法の原理説明〆1であり、第1
図は多絢板1表面に一層目のFe −’−Zn @曽メ
ッキ被腺11を形成した時点での一層目におけるI’ 
e濃度WFe工及び一層目の膜厚d1を測定する過程を
示し、また第4図は鋼&1に施した一層目のFeZn合
金メッキ彼1j呆1■表面に更に二層1=]のFe =
ZnZn合金メッキ仮り12を形j戎した時点での二層
目におけるFe茹度”I’eil及び二層目の1模厚d
2を測定する虚程を/Jζしている。即ち、先ず第11
゛ズlに示す如く一層目のメッキ彼111A!11を形
成した時点で、下地金属たる((胴板1からの蛍光X線
を検出しないよう低角度の入射〕j」ψ で励、1μX
線をメッキ被11桑II1 に入射1且つ低角度の収出角φL1で蛍光X線を検出し
、メッキ被膜11のFeからの蛍光X9強度’FeKa
を71J11定する。この蛍光X#%KIFeKzけメ
ッキ被膜11の中のFejk :W: 漉W W、、−
=、と下記(1)式に示す如き一義対応の関係にありメ
ッキ被+俣1+甲のFel量濃度”Felが容易に求め
られる。
−11,!Lk:単位質喰の分析元素Feがり、)J起
X線を蛍光X線に変換する割合 Io:励起X娠の強度 WFe:メンキg、映中のFe重叡湿度(9)、:励起
X線に対するFe −Znメッキ被膜層の質量扱収係故 (ニ)2:蛍光X1球に対するFe −Znメッキ被被 膜層の質量吸収係攻 次に実験結果に基き上記関係を明らかにする。
実験の供試料としてはFe2+、 Zn2+から構成さ
れているメッキ液中で電気メッキを行ったものを使用す
る。測定条件は励起源のX線管球としてはタングステン
を用い、励起条件としての・閾電圧−管′r竜1fi(
、r:L 30 KV−30mAとし測定時11」は1
0秒としたO 力2図は付着量:が19〜53g/m2
のuu、 VJIで、−4板Iからの蛍光Xf@強度が
実質的に最低となる低角度の入射角ψTl−収用角ψ 
−5°の条件にて測定したFe蛍1 光X蝋強度’Fe□(、、Ccps )を縦軸に、捷た
化学分析で得られたメッキ被膜中のFeの重量篠度w1
.8□〔%〕を横軸にとって示したものであってその場
合の検]社線も図示している。この図に示されるように
’FeKaとWF e Iとは〜義対后の関係に・ちる
ことが実証された。
次に前記した角度ψ1□、ψ1□と異なるこれよりも大
きい角度、即ち高角度の入射角ψ1,1で励起xgを略
同じ位置に入射し、且つ高角度の収出角部、で蛍光X線
を快出し、鋼板1及びメッキ被膜IIのFeからの蛍光
X線強度■Feあを測定する。この蛍光X裸強度■Fe
K(y、はメッキ被膜11の1戻j学d1と下記(2)
式の如き一義対応の関係があり、メッキ層11の月Qノ
与毛d□を求め7停る。
11−↓し Cp )1 * +’)J) 1llP 
X pHtに対する下」m金(−13の’IjU1il
ン1史収句丈≠う〔 (L)′2:頂光X課に対する下地金、馬のア↓11支
ρ 11及収係、′父 ρFe−Zn:Fe−Zn:メッキ被照1分1曽158
図は尚角度の入射ブΔ]釉、−収1j′1角ψ、、1=
60°の条件にて測定したFe蛍光X 気”jM g 
lFe1(、(cps〕L 市jJ(法で得られた付右
昂:Cg/m2)との関1糸忙目11記低角度の蛍光X
線分析によって得たWFelを変改としてンバしたもの
であって、縦軸に’FeKaを、址だ横軸に付着量金と
って示している。この図によりIFeゎWFeI及びメ
ッキ被腺厚さく付積量)dlの間に対応関係があること
が解かる。なお第3図において、り点(実線連結)ホW
Fe1か090(即ちZnのみ)、X点(破、寂l!]
!結)は同じ<5.7〜6.3%、Z\点(欠株連結)
は向しく 12.1〜15.8%、・9点(イ11b尿
連結)は回じ< 33.5〜36.7%、X点(仄諒連
結)は同じ<44..0〜47.5%の試料・片につい
てのに1宋を示している。以上詳述したように、低角度
の蛍光X、線測定で得られるWFeIを変数として高角
度でりど光X赤強度を測定することにより、該測定値に
対欝する何名i1が得られることが解る。
而して上述した列」くシー板1に一層目のメッキ液1か
11か形成された時点で下地金1.蝿たる鋼板1からの
蛍光X線強度が実質的に最低となる低角度の入射角、収
出角を定めて、励起X線の入射及び蛍光X線強度の測定
を行うことにより、この測定結果から一層目のメッキ液
1#11における成分の組成が求まり、また前記入射角
、収出角とは異なるこれよりも高角度の入射角、取出角
を定めて、励起X線の入射及び蛍光X緑飄度の測定を行
うこ々により、この測定結果から一層目のメッキ被膜1
1の付着量(g/m2’)を求め得ることとなる。
次に二層目のメッキ被膜12における組成及び付着量を
求める過程について説明する。第゛4図に示す如く二層
目のメッキ被膜12が形成された時点で、先ず一一目の
メッキ被膜11からの蛍光X線強度が最低となる低角度
の入射角丸2.収出角ψL2を選定し、前記蛍光X盪分
析金行った一層目のメッキ被iin 11位置と対応す
る位置において、上記入射角ψ1□での1必起x aQ
の人別及び収出角ψL2でのFe蛍光X線強tK r 
  を測定する。この蛍光XFeKα 線強度1  とメッキ彼映I2中のFe重量瀘度I?e
Kα WFelとの13!、I保は前記第2図に示した一層目
メツキ被膜ll中のFe重枇濃度WFelと蛍光X線強
度との関係に近似したものであり、二層目メッキ被膜1
2中のFe屯量濃J蔓WFeLlが容易に水する。
次に前記した低角度の入射角ψ1,1.収出角φ1,1
と異なるこれよりも大きい角度、即ち高角度の入射角ψ
H2+取出角取出全幅め、同じ位置に入射角ψ、1□で
励起X線の入射及び収出角9!IH2でFe蛍光X線強
度’FeKtt (又はZn蛍光XgA 強JK IZ
、に、、 )を測定する。この蛍光X線強度IFeゎ(
又はIz□や)は二jψ目のメッキ被膜12における1
戻厚d2及び各成分組成の重重濃度WFe11. 、 
WZnl[の影響を受けており、これら” ”Fe1l
 、”WZelJ並ひに一層目のメッキ被膜11におけ
る組成WFeI、映厚d工間には下記(3)。
(4)式で示す如き関係式(回帰式)が成立する。
’FeKtx −f (d2 +   ν’Fe1l 
  、   dl 、   Vvp−8l)     
     −・ (3)■:g(d2)W5dしWZn
l)・・・(4)ZnKα         Zn1J (3) 、 (4)式を解くことによって、d2 + 
WFe[+ l1vZnllが求まる。
次に実、強結果に基づき上記関係を明らかにする。
供試料としては倶;イΔ櫂にFe2÷からなるメンキ液
中で電気メッキを施し、一層目のメッキ被膜は組成(F
e : 80%)、付着量(25g/rn” )を一定
とし、これに組成及び付着量を異にするFe −Zn合
企による二層目のメッキ被膜を形成したものを用いた。
捷た蛍光X線分析計における入射角、取出角の設定には
X線回折分析に用いられているゴニオメータを利用し、
更に蛍光X線の検出にはFe、Znの谷蛍光X線強度を
分離測定し得る半辱体検出器を用い、隘7匝ターゲット
にはタングステンを用いた。
励起条件とkての管電圧−管軍電流は30KV〜30m
Aとし、励起X線側には厚さ0.10mmのジルコニク
ムフィルタを用いた。
この実験に鋭いて、低角度の入射角ψL−5°。
取出角ψL2=5°の条件で測定した二層目のメッキ被
11竪からのFe蛍光X線強度IFeKg (又は’i
n、Ka ’と化学分析法によって求めた二層1゜1の
メッキ彼1j呆中のFe+を辰jfi+7度、との関係
は−ハ@ l:Jのメッキ被11央についての両者の1
カー系である第2図に下すものと1・・/; l’1じ
てあった。弔5,6図(d高角度の人!41角ψ1□2
−10°、収1−11月ψH2=10°の条件で似;l
定したl?e、Zn蛍光X・べり:M )K ■F e
Ka 、 ’ ZnK1 ’ 消つ(Fe蛍元X尿1匝
)変死(6tiil )奴のFeKα蛍光X外泉Ij虫
度を1としたときの4l文寸通度)Zn′虫光X娠強度
比(夷核試料中最大の1圧度になる試料の強度を1とし
たときの相対’:”!”v度)を犬々’F、lI[軸に
、また事最分析法によって求めたFe、Znの付着量(
g’/m2)を、)黄軸にとり、先に1氏用ノ斐の入射
角、収出角で氷めた二層目のメッキ被111尾中のZn
組成(へ))WZnlllを変数として示しである。
これらのグラフから明らかな如く、Fe蛍光X・尿強度
比、Zn蛍光X線強度比と二層目のメッキ被膜の付着量
との間には対応関係があることが解る。
而して一層目からの蛍光X線強度が最低となる低角度で
の励起X線の入射及び低角度での蛍光X線強度の測定結
果から求めた二層目のメッキ被膜中のZn重量濃度WZ
n■を愛飲として高角度でFe、Znの蛍光X ?1M
強J” FeKヶ+ IZnKヶの測定を行うことによ
り二層目のメッキ被膜の付#量が求められる。
次に本発明方法を実施する装置を二層メッキ鋼板の製造
ラインに適用した場合につき具体的にd1セリ1する。
弔7図は本発明方法を二層(至)メッキ(イ)板の製造
ラインに適用した状態を示す模式図であり、図中1は鋼
板を示している。銅&lは図示しないペイオフリールか
ら保り出されてlf■処坤工程を経た後、先ず一層目の
メッキ用タンク2に通され、その両面にメッキを施され
、スプレィタンク3に通されて洸1録された後、その丘
、下面通過域に臨ませた蛍光x裸分析計4 u r 4
 dにて相対応する両面のメッキ被膜の膜厚(付着量)
及び組成(濃度)全、第1図に示したIA」き原理に従
って、具体的には第8図に示す如き装置自で測定される
。第8図は蛍光X線分析計4uのブロック図であり、各
励起妃から発せられた励起X線のうち低角度の入射角ψ
□、でメッキ被)戻11に照射されたX線によって励起
されメッキ被INIIから収出角錐1で収出された蛍光
X線は検出器31に尋かれて電気信号に変換される。検
出器3Iの出力電気信号は増IM器32に人って増媚)
された後に、波高分析器83及びδ−1゛敗器34によ
ってメッキ彼j関中の金1.Q12の蛍光X線強度に変
換される。
一方、高角度の入射角ψ1.1で鋼板1に照射されたX
線によって励起され鋼板1から収出角ψ1(1で収出さ
れた蛍光X線は、上述の低角度測定の場合と同様に構成
されている検出器41.増幅器42.波高分析器43及
び計数器44によって鋼&1の蛍光X線強度に変換され
る。計数器34.44の蛍光X線強度に対応する出力は
演算器50に棉かれる。
この演算器50には、vJ2図で示される如き’FeK
rxとWFeIの胸係式wFel = f(■FeKa
”びクコ3図で示される如き’FeKcc ’ ”li
’eI及び目付t1.(厚さ) C1lの1414.4
式d、= ” IF eK(z ’νvFeI’が予め
設定されており、上述の17!D < シて得られる蛍
光X線強度に対応する重量媒)y及び目付量が演算され
表示器51に表示される。な寂、検出器31.41とし
てけFe及びZnの蛍光強度が容易に分離測定できる半
導体検出1嚇を用いるのがよい。
型光X線分析計4u、4dを経た鋼&1は二層目のメッ
キ用タンク5に通され、同様にその1匈m1にメンキを
施ぎれスプレィタンク6に1iJiされてfk /I[
aされた後、その上、ド、ju過域に國ませた蛍光X 
11分析計7u、7dに達し、ここで前記第4図におい
て説明した如き連用Iによって、二層目のメッキ層にお
ける膜厚及び目保冗素の組成がγI(11定される。
具体的な蛍光X猟分析計の構成は第8図に示しだ構成と
同じである。
第9,10図は上述した手順で分析した二層目のメッキ
被+1= 12 tcついての付ft f< (g /
 rnす、Zn賞@→と、従来行なわれている重量法に
ょる二層目メッキ被膜の付着m(g/mす、化学分析法
によるZn量−との結果を示すグラフである。第9図の
グラフは横軸に重量法により求めた二層目のメッキ被膜
の付着量(g/m2)を、また縦軸に本発明方法により
求めた二層目メッキ被膜の付着量(g/m2)をとって
示してあり、一方@10図は横11に化学分析法により
求めた二層目のメッキ被膜のZ n Q)。
(@を、ま7ζ縦頓に本発明方法により求めた二層目の
メッキ被膜の付着量(g / 1i)2)をとって示し
である。
これらのグラフから明らかな如く、末完1月方法てよる
二層目メッキ被膜の付着量(g/lη2)、Znけ1(
@はいずれも従来方法によって求めたイ11〕と一致し
ており、十分な測定精度が寿られることを示している。
次に木発り4方法を鋼板表面に一層目としてire、−
Zn合金勿、二層目には組成の異なるFe−Znn合金
メンキする二層メッキ鋼板の製造ラインに適用して二層
目のメッキ被膜の付着量(g / 1112) 、及び
Zn量を分析した結果と、従来より実施されている市昂
、法を適用して二層目のメッキ被膜の付着量(gAn2
)を、また化学分析法を適用して二層lのZn量を分析
した結果とを示す。
なお本発明法としては、鋼板表面に一層目としてFe−
Zn合金をメッキした諺に、鋼板からの蛍光X線強度が
実質的に最低となる入射角丸、−5°。
取出角ψ1□=5°、で天測し、次いで、高角度の入射
角軸□=60°、収出角ψH1=60°、ご実測した後
、二層目として一層目の組成と異なるFe−Zn合金の
メッキを施し、一層目の蛍光X線分析位1ffiと同位
置において、再び、一層目からの蛍光X線強度が実質的
に最低となる入射角!pL2−5°、収出角ψL2−5
°。
で実測し12次いで、一層目から蛍光X線が測定される
比較的高角度の入射角軸2−10°、収出角ψ1,2−
1O9で実測した。第11図は横軸に重量法によシ氷め
た二層目のメッキ被膜付着、請: (g/rn2)を、
また縦軸に本発明方法により求めた二層目のメッキ鼓膜
付着量(g/1n2)をとって示してあり、一方第12
図は横軸に化学分析法により求めた二層目メッキ被膜中
のZn量(ロ)を、また縦軸に本発明方法により求めた
二層目メッキ被膜中のZn量に)をとって示しである。
これら両グラフから明らかな如く、いずれも本発明方法
にて得た二層目のメッキ被膜の付着量、Zn量とも大々
重量法、化学分析法による結果と一致する結果が得られ
ている。
更に本発明法の別の態様として、鋼板表面に一層目とし
てN i −Z n合金を7メツキした後に、二層目と
してFe−Z’n合金をメンキした場合について示す。
鋼板表面に一層目としてNi−Zn合金をメッキしたの
ちに、入射角ψ−90°、収出角ψ−85゜の条件で、
犬々の蛍光X線強度■FeKa ”N1Ka及び■Zn
Kg 全測定し、■  蛍光X線強度測定値及FeK−
α ひ予め定めておいたIF eKz蛍゛光X思:類1度と
、付−着量二との関係から付着量を求め、また’N1K
a、蛍光X線強度測定値と’ZnKa蛍光X線強度測定
値との比、文ひ予め定めておいたlN1Ka蛍光X練強
度と’ZnKa蛍光X線強度との比とNi量又はZn量
との関係から1東量又はZn量を求めた。この様にして
一層目のメッキの付着量とNi量又はZn量を測定した
のちに、Fe−Zn合金メッキを施し、一層目の蛍光X
a分析位百と同位1百において、再び一層目からの蛍光
X線強度が夫質的に最低となる入射角丸、=5°、収出
角ψ5□=5°で実測し、次いで一層目からの蛍光X線
が測定される比較的高角度の入射角6λH2−10°、
収出角ψH2−10°、で測定した。この様にして求め
た結果を、第13図、第14図に示す。第13図は、横
l紬に重量法により求めた二層目のメッキ被)模付着量
(g//1112)を、また縦軸に本発明法で求めた二
層目のメッキ被膜付着量(g/m2)’eとって示しで
ある。また、第14図は、横軸に化学分析法により求め
た二層目のメッキ被膜中Zn量(%)を、縦III洸末
完明法で求めた二層目のメンキ被1模中Z n 敏(%
)をとって示しである。
この両グラフから、いずれも本発明方法、lごて得。
た二層目のメッキ被膜の付着量は、Zn−はともに、弔
11図、第12図と同椋に、重量法、化学分析法による
ものと一致する結果がイ4Iられた。
以上の如く本発明方法にあっては複層メッキ製品であっ
て、しかも各メンキ被j模に共通の元素を含む場合にお
いても各メッキ被膜の膜厚及び組成を正確に、しかも自
動的に定量することが出来て、オンラインに適用して膜
厚9組成の制御に利用することが出来るなど、木発すJ
は侵れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
多51図は不発(7)方法の原理説11図、第2図はm
一層目のメッキ被膜における’PeKa  ’FeIの
相関関係を示すグラフ、第3図は一層目のメッキ被膜に
おけるWFeI全変べとしたIFe紐−付4量のr+」
+=開保を示すグラフ、第4図は本発明方法の原理説明
図、ti、i 5 、6図は二層目のメッキ被膜におけ
るWZelをノS般とした1  −付を゛量1 ’Zn
Kz−付肴尾の4u関関FeKα 俤を示すグラフ、弗7図は本発明方法を二層メッキ銅板
の製造ラインに適用し之ときの具体的な構1μ、を示す
模式図、第8図は一層目のメッキ被膜に対する蛍光X線
分析計のブロック図、969図は不発ゾJ方法と従来の
重量法とを適用して二層目メッキ液11Qの付着量を測
定した結果を比較して示すグラフ、第10図は本発明方
法と従来の化学分析法と全適用して二層目メッキ被膜中
のZn量を測定した結果をjtI吠して示すグラフ、・
帛11図は本発明方法を二層メッキ鋼板の製造ラインに
適用してニル4目のメッキ被膜付着量を検出した結果を
、従来の41童法によって検出した結果と比較して示す
グラフ、第12図は本発明方法を同じく二層メッキ鋼板
の製造ラインに適用して二層目のメッキ被1模中のZn
1dを測定した結果を従来の化学分析法によって測定し
た結果と比較して示すグラフ、第13図は本発明の他の
夫原則について二層目のメッキ被膜付着量を本発明方法
の結果と「重量法によって検出した結果を比較して示す
グラフ、弔14図は同じく二層目のメッキf&膜中のZ
lけ本発明方法の結果と化学分析法によって検出した結
果を比較して示すグラフである。 ■・・・副板 2・・・メッキタンク 3・・・スプレ
ィタンク 4u、4d・・・蛍光X裸分析計 5・・二
層目メッキタンク 6・スプレィタンク 7u、7d・
・・蛍光X線分析計 11・・・一層目メッキ被膜12
・・・二層目メッキ彼I模 31,41・・・検出器8
2.42・・・増幅器 88.43・・・波高分析器3
4.44・・・計疾器 50・・・演算器 51−・表
示器第 1 図 0      10      20    .3Q 
     40      500      Io 
    20    30    4OS04目メツキ
ネ皮鰻のイす 尤 量  〔9ん2〕(重量法【2よろ
値) 第 3 図 菓卆図 二層目メヅキネiff?イ呼名量(#/、−)第 5 
 図 ニE目メッキオ崖月埠の44者t(ff%慈)第 6 
 図 第7図 一\−1 第8 図 二層目メツリ皮月葵の付名量gA?C1しQ第9図 =M目メ・ツキ移月暴中のz、8%、(/ヒ学分才を請
菓 70 図 ((4) 第 ll  図 )″′ 二鳥目メッキ被月莫の付着量(重量法)9ム・第73図 二層目メッキ粧月φ中のz7量(イIZ営分耕s大)鰯
第 /l−A  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、純金属又は合金の複層メッキ披jjQの付着量及び
    /又は組成を定量する方法において、一層目のメッキ被
    膜を形成した後、該一層目のメッキ被膜についての付着
    量及び/又は組成を蛍光X線分析し、次いで二層目のメ
    ッキm1iQlを形成した後、前記蛍光X線分析を行っ
    た一層目のメッキ被1侯位論゛と対応する位置について
    蛍光X線分析を行い、両賞光X線分析結果に基づいて二
    層目のメッキ被膜についての付 3着量及び/又は組成
    を算出することを特徴とするメッキ被膜の蛍光X線分析
    法。     映2、純金属又は合金の複層メッキ被膜
    の付着量 に及び/又は組成を定量する方法において、
    一層目のメッキ被膜を形成した後、該一層目の のメッ
    キ被1侯についての付着量及び/又は組成 性を蛍光X
     、att分析し、次いで二層目のメッキ披 係一層目
    のメッキ被膜位置と対応する位置について、一層目のメ
    ッキ被膜からの蛍光X線強度が実質的に最低となる入射
    角で励起X線を照射し、且つ収出角で蛍光X線強度を測
    定すると共にこれら入射角、収出角とは異なる入射角及
    び取出角で励起X線の照射及び蛍光X線の測定を行い、
    これら測定値及び一層目のメッキ被膜についての蛍光X
    線分析結果に基づき二層目のメッキ被膜についての付着
    量及び/又は組成を算出することを特徴とする蛍光X慰
    分析法。
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