JPS59195146A - メツキ被膜の螢光ｘ線分析法 - Google Patents
メツキ被膜の螢光ｘ線分析法Info
- Publication number
- JPS59195146A JPS59195146A JP6981483A JP6981483A JPS59195146A JP S59195146 A JPS59195146 A JP S59195146A JP 6981483 A JP6981483 A JP 6981483A JP 6981483 A JP6981483 A JP 6981483A JP S59195146 A JPS59195146 A JP S59195146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- fluorescent
- plating
- ray
- plating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蛍光Ｘ線強度に基づいてメッキ被膜の早及び／
又は組成を定量する蛍光Ｘ線分析方法間するものである
。
又は組成を定量する蛍光Ｘ線分析方法間するものである
。
耐食性、溶接性、〜〉装性、経済性に優れた各種メッキ
鋼板が製造されているが、耐食性、溶接、窪装性はメッ
キ被膜の膜厚９組成と密接な関にあり、品質管理上、膜
厚９組成の正確な測定キ被膜の膜厚又は付を・量（ｇ／
ｒｎ２）の測定にはメッキｍｆＪ ｒ後の鋼板重量及び
銅板表面積上に基づいて求める重量法が、また組成には
化７？分析法が採られていたが、これらの方法は正確な
分析を行えるが結果を得る迄に時間を要するためメッキ
鋼板の製造ラインにおいてメッキ被膜の付、有量７組成
の制御にＩ″ｉ適用出来ない難点がある。このため近年
にあっては蛍光Ｘ線分析法が利用び九つつある。
鋼板が製造されているが、耐食性、溶接、窪装性はメッ
キ被膜の膜厚９組成と密接な関にあり、品質管理上、膜
厚９組成の正確な測定キ被膜の膜厚又は付を・量（ｇ／
ｒｎ２）の測定にはメッキｍｆＪ ｒ後の鋼板重量及び
銅板表面積上に基づいて求める重量法が、また組成には
化７？分析法が採られていたが、これらの方法は正確な
分析を行えるが結果を得る迄に時間を要するためメッキ
鋼板の製造ラインにおいてメッキ被膜の付、有量７組成
の制御にＩ″ｉ適用出来ない難点がある。このため近年
にあっては蛍光Ｘ線分析法が利用び九つつある。
蛍光Ｘ線分析法は測定対象物に励起Ｘ線を照射し、これ
によって測定対象物から発生する１、ｌ’＝Ｊ有Ｘ線有
産線強度蛍光Ｘ線強度を測定し、予め求めておいた検量
娠から目標元素の定量を行い、また蛍光Ｘ線強度と１漢
Ｐ＝’との関係に基づき膜厚を求めるようになっている
。
によって測定対象物から発生する１、ｌ’＝Ｊ有Ｘ線有
産線強度蛍光Ｘ線強度を測定し、予め求めておいた検量
娠から目標元素の定量を行い、また蛍光Ｘ線強度と１漢
Ｐ＝’との関係に基づき膜厚を求めるようになっている
。
ところで従来における蛍光Ｘ線分析法はいずれも単層メ
ッキ鋼板についての膜厚２紀成を定量する方法であって
、例えば５ｎ−Ｐｂの二元メッキ鋼板の膜厚Ｘと、Ｓｎ
（又はＰｂ）７．）度ｙを求める場合にはＳｎの特性
Ｘ線の測定強度と純ＳｎのＸ線強度との比Ｉｓと、Ｐｂ
の特性Ｘ線の測定強度と純ＰｂのＸ線強度との比ｉｐと
を求め、下記（１） 、 （２）式の連立方程式を求め
ることによってＸ＋Ｙを得ている（特公昭５６−１ｇｅ
６′８号）。
ッキ鋼板についての膜厚２紀成を定量する方法であって
、例えば５ｎ−Ｐｂの二元メッキ鋼板の膜厚Ｘと、Ｓｎ
（又はＰｂ）７．）度ｙを求める場合にはＳｎの特性
Ｘ線の測定強度と純ＳｎのＸ線強度との比Ｉｓと、Ｐｂ
の特性Ｘ線の測定強度と純ＰｂのＸ線強度との比ｉｐと
を求め、下記（１） 、 （２）式の連立方程式を求め
ることによってＸ＋Ｙを得ている（特公昭５６−１ｇｅ
６′８号）。
ｌ５＝ｆｌ（Ｘ 、 Ｖ ） −ＩＩ）
■ｐ−ｆ２（Ｘ、ｙ） ・・（２）しか
しこの方法は下地金属とメッキ被膜とに共通の元素が含
まれているような場合、例えば鋼板にＦｅ −Ｚｎ合金
メッキを施したような場１−・１には被膜厚さ５組成の
定量が゛出来ず、また近年開発が進められている耐食性
、溶接性、塗装性等により優れた多層メッキ鋼板、例え
ば鋼板表１川に夫々組成の異なるＦｅ −Ｚｎ合金メッ
キを二層にわたって積層形成してなる二層メッキ鋼板に
２ける各層の膜厚。
■ｐ−ｆ２（Ｘ、ｙ） ・・（２）しか
しこの方法は下地金属とメッキ被膜とに共通の元素が含
まれているような場合、例えば鋼板にＦｅ −Ｚｎ合金
メッキを施したような場１−・１には被膜厚さ５組成の
定量が゛出来ず、また近年開発が進められている耐食性
、溶接性、塗装性等により優れた多層メッキ鋼板、例え
ば鋼板表１川に夫々組成の異なるＦｅ −Ｚｎ合金メッ
キを二層にわたって積層形成してなる二層メッキ鋼板に
２ける各層の膜厚。
組成を測定することも出来ないという欠点があった。
との対重として本発明者等は鋼４μにＦｅ −Ｚｎ合金
をメンキした単層メッキ鋼板、即ち下地金属とメッキ被
膜とに共通の元素が含まれている場合においても、メッ
キ被膜の付−ａｍ及び組成の分析が可能な蛍光Ｘ線分析
法につき既に出頭を行っている（特願１召５７−１０５
７０９号）。本発明は更にこの方法を発展させたもので
あって、鋼板等の下地金属６上に二層又はそれ以上の多
層にわたって、純金属又は二元、三元、或いはそれ以上
の多元合金メッキ被膜を形成した場合についても、下地
金ノ１」ル及び各層のメッキ被膜に共通の元素が含せハ
てめるか否かＫかかわらず各メッキ被膜の付４量及び各
成分の組成を分析することをｉ”Ｊ能としたメッキ被１
１％の蛍光Ｘ線分析法を提供するにある。
をメンキした単層メッキ鋼板、即ち下地金属とメッキ被
膜とに共通の元素が含まれている場合においても、メッ
キ被膜の付−ａｍ及び組成の分析が可能な蛍光Ｘ線分析
法につき既に出頭を行っている（特願１召５７−１０５
７０９号）。本発明は更にこの方法を発展させたもので
あって、鋼板等の下地金属６上に二層又はそれ以上の多
層にわたって、純金属又は二元、三元、或いはそれ以上
の多元合金メッキ被膜を形成した場合についても、下地
金ノ１」ル及び各層のメッキ被膜に共通の元素が含せハ
てめるか否かＫかかわらず各メッキ被膜の付４量及び各
成分の組成を分析することをｉ”Ｊ能としたメッキ被１
１％の蛍光Ｘ線分析法を提供するにある。
本発明に係るメッキ被１俟の蛍光Ｘ森分析法は純金ノ萬
又は合金の複層メッキ被膜の付着量及び／又は組成を定
量する方法において、一層目のメッキ被膜を形成した後
、該一層目のメッキ被１１シ３についての付看力ｉ、叉
び／又は組成を蛍光Ｘ線分析し、次いで二層のメッキ被
膜を形成した後、前記蛍光Ｘ誠分析を行った一層目のメ
ッキ被朕位ｉ！？と対応する位置について、蛍光Ｘ線分
析を行い、両蛍光Ｘ線分析結果に基づいて二層目のメッ
キ被膜についての付着量及び／又は組成を算出すること
を特数とする。
又は合金の複層メッキ被膜の付着量及び／又は組成を定
量する方法において、一層目のメッキ被膜を形成した後
、該一層目のメッキ被１１シ３についての付看力ｉ、叉
び／又は組成を蛍光Ｘ線分析し、次いで二層のメッキ被
膜を形成した後、前記蛍光Ｘ誠分析を行った一層目のメ
ッキ被朕位ｉ！？と対応する位置について、蛍光Ｘ線分
析を行い、両蛍光Ｘ線分析結果に基づいて二層目のメッ
キ被膜についての付着量及び／又は組成を算出すること
を特数とする。
以下本発明方法の原理を、下地金偶たる鋼板の表面に大
々組成の異なるＦｅ−、Ｚｎ合金を二層メンキした場合
における各層の＃ｌ阪及びメッキ被１１・、・の付扁量
（ｇ／ｍ２）を測定する場合につき説ゆ〜］する。
々組成の異なるＦｅ−、Ｚｎ合金を二層メンキした場合
における各層の＃ｌ阪及びメッキ被１１・、・の付扁量
（ｇ／ｍ２）を測定する場合につき説ゆ〜］する。
第１，４図は末完り」方法の原理説明〆１であり、第１
図は多絢板１表面に一層目のＦｅ −’−Ｚｎ ＠曽メ
ッキ被腺１１を形成した時点での一層目におけるＩ’
ｅ濃度ＷＦｅ工及び一層目の膜厚ｄ１を測定する過程を
示し、また第４図は鋼＆１に施した一層目のＦｅＺｎ合
金メッキ彼１ｊ呆１■表面に更に二層１＝］のＦｅ ＝
ＺｎＺｎ合金メッキ仮り１２を形ｊ戎した時点での二層
目におけるＦｅ茹度”Ｉ’ｅｉｌ及び二層目の１模厚ｄ
２を測定する虚程を／Ｊζしている。即ち、先ず第１１
゛ズｌに示す如く一層目のメッキ彼１１１Ａ！１１を形
成した時点で、下地金属たる（（胴板１からの蛍光Ｘ線
を検出しないよう低角度の入射〕ｊ」ψ で励、１μＸ
線をメッキ被１１桑ＩＩ１ に入射１且つ低角度の収出角φＬ１で蛍光Ｘ線を検出し
、メッキ被膜１１のＦｅからの蛍光Ｘ９強度’ＦｅＫａ
を７１Ｊ１１定する。この蛍光Ｘ＃％ＫＩＦｅＫｚけメ
ッキ被膜１１の中のＦｅｊｋ ：Ｗ： 漉Ｗ Ｗ、、−
＝、と下記（１）式に示す如き一義対応の関係にありメ
ッキ被＋俣１＋甲のＦｅｌ量濃度”Ｆｅｌが容易に求め
られる。
図は多絢板１表面に一層目のＦｅ −’−Ｚｎ ＠曽メ
ッキ被腺１１を形成した時点での一層目におけるＩ’
ｅ濃度ＷＦｅ工及び一層目の膜厚ｄ１を測定する過程を
示し、また第４図は鋼＆１に施した一層目のＦｅＺｎ合
金メッキ彼１ｊ呆１■表面に更に二層１＝］のＦｅ ＝
ＺｎＺｎ合金メッキ仮り１２を形ｊ戎した時点での二層
目におけるＦｅ茹度”Ｉ’ｅｉｌ及び二層目の１模厚ｄ
２を測定する虚程を／Ｊζしている。即ち、先ず第１１
゛ズｌに示す如く一層目のメッキ彼１１１Ａ！１１を形
成した時点で、下地金属たる（（胴板１からの蛍光Ｘ線
を検出しないよう低角度の入射〕ｊ」ψ で励、１μＸ
線をメッキ被１１桑ＩＩ１ に入射１且つ低角度の収出角φＬ１で蛍光Ｘ線を検出し
、メッキ被膜１１のＦｅからの蛍光Ｘ９強度’ＦｅＫａ
を７１Ｊ１１定する。この蛍光Ｘ＃％ＫＩＦｅＫｚけメ
ッキ被膜１１の中のＦｅｊｋ ：Ｗ： 漉Ｗ Ｗ、、−
＝、と下記（１）式に示す如き一義対応の関係にありメ
ッキ被＋俣１＋甲のＦｅｌ量濃度”Ｆｅｌが容易に求め
られる。
−１１，！Ｌｋ：単位質喰の分析元素Ｆｅがり、）Ｊ起
Ｘ線を蛍光Ｘ線に変換する割合 Ｉｏ：励起Ｘ娠の強度 ＷＦｅ：メンキｇ、映中のＦｅ重叡湿度（９）、：励起
Ｘ線に対するＦｅ −Ｚｎメッキ被膜層の質量扱収係故 （ニ）２：蛍光Ｘ１球に対するＦｅ −Ｚｎメッキ被被 膜層の質量吸収係攻 次に実験結果に基き上記関係を明らかにする。
Ｘ線を蛍光Ｘ線に変換する割合 Ｉｏ：励起Ｘ娠の強度 ＷＦｅ：メンキｇ、映中のＦｅ重叡湿度（９）、：励起
Ｘ線に対するＦｅ −Ｚｎメッキ被膜層の質量扱収係故 （ニ）２：蛍光Ｘ１球に対するＦｅ −Ｚｎメッキ被被 膜層の質量吸収係攻 次に実験結果に基き上記関係を明らかにする。
実験の供試料としてはＦｅ２＋、 Ｚｎ２＋から構成さ
れているメッキ液中で電気メッキを行ったものを使用す
る。測定条件は励起源のＸ線管球としてはタングステン
を用い、励起条件としての・閾電圧−管′ｒ竜１ｆｉ（
、ｒ：Ｌ ３０ ＫＶ−３０ｍＡとし測定時１１」は１
０秒としたＯ 力２図は付着量：が１９〜５３ｇ／ｍ２
のｕｕ、 ＶＪＩで、−４板Ｉからの蛍光Ｘｆ＠強度が
実質的に最低となる低角度の入射角ψＴｌ−収用角ψ
−５°の条件にて測定したＦｅ蛍１ 光Ｘ蝋強度’Ｆｅ□（、、Ｃｃｐｓ ）を縦軸に、捷た
化学分析で得られたメッキ被膜中のＦｅの重量篠度ｗ１
．８□〔％〕を横軸にとって示したものであってその場
合の検］社線も図示している。この図に示されるように
’ＦｅＫａとＷＦ ｅ Ｉとは〜義対后の関係に・ちる
ことが実証された。
れているメッキ液中で電気メッキを行ったものを使用す
る。測定条件は励起源のＸ線管球としてはタングステン
を用い、励起条件としての・閾電圧−管′ｒ竜１ｆｉ（
、ｒ：Ｌ ３０ ＫＶ−３０ｍＡとし測定時１１」は１
０秒としたＯ 力２図は付着量：が１９〜５３ｇ／ｍ２
のｕｕ、 ＶＪＩで、−４板Ｉからの蛍光Ｘｆ＠強度が
実質的に最低となる低角度の入射角ψＴｌ−収用角ψ
−５°の条件にて測定したＦｅ蛍１ 光Ｘ蝋強度’Ｆｅ□（、、Ｃｃｐｓ ）を縦軸に、捷た
化学分析で得られたメッキ被膜中のＦｅの重量篠度ｗ１
．８□〔％〕を横軸にとって示したものであってその場
合の検］社線も図示している。この図に示されるように
’ＦｅＫａとＷＦ ｅ Ｉとは〜義対后の関係に・ちる
ことが実証された。
次に前記した角度ψ１□、ψ１□と異なるこれよりも大
きい角度、即ち高角度の入射角ψ１，１で励起ｘｇを略
同じ位置に入射し、且つ高角度の収出角部、で蛍光Ｘ線
を快出し、鋼板１及びメッキ被膜ＩＩのＦｅからの蛍光
Ｘ線強度■Ｆｅあを測定する。この蛍光Ｘ裸強度■Ｆｅ
Ｋ（ｙ、はメッキ被膜１１の１戻ｊ学ｄ１と下記（２）
式の如き一義対応の関係があり、メッキ層１１の月Ｑノ
与毛ｄ□を求め７停る。
きい角度、即ち高角度の入射角ψ１，１で励起ｘｇを略
同じ位置に入射し、且つ高角度の収出角部、で蛍光Ｘ線
を快出し、鋼板１及びメッキ被膜ＩＩのＦｅからの蛍光
Ｘ線強度■Ｆｅあを測定する。この蛍光Ｘ裸強度■Ｆｅ
Ｋ（ｙ、はメッキ被膜１１の１戻ｊ学ｄ１と下記（２）
式の如き一義対応の関係があり、メッキ層１１の月Ｑノ
与毛ｄ□を求め７停る。
１１−↓し Ｃｐ ）１ ＊ ＋’）Ｊ） １ｌｌＰ
Ｘ ｐＨｔに対する下」ｍ金（−１３の’ＩｊＵ１ｉｌ
ン１史収句丈≠う〔 （Ｌ）′２：頂光Ｘ課に対する下地金、馬のア↓１１支
ρ １１及収係、′父 ρＦｅ−Ｚｎ：Ｆｅ−Ｚｎ：メッキ被照１分１曽１５８
図は尚角度の入射ブΔ］釉、−収１ｊ′１角ψ、、１＝
６０°の条件にて測定したＦｅ蛍光Ｘ 気”ｊＭ ｇ
ｌＦｅ１（、（ｃｐｓ〕Ｌ 市ｊＪ（法で得られた付右
昂：Ｃｇ／ｍ２）との関１糸忙目１１記低角度の蛍光Ｘ
線分析によって得たＷＦｅｌを変改としてンバしたもの
であって、縦軸に’ＦｅＫａを、址だ横軸に付着量金と
って示している。この図によりＩＦｅゎＷＦｅＩ及びメ
ッキ被腺厚さく付積量）ｄｌの間に対応関係があること
が解かる。なお第３図において、り点（実線連結）ホＷ
Ｆｅ１か０９０（即ちＺｎのみ）、Ｘ点（破、寂ｌ！］
！結）は同じ＜５．７〜６．３％、Ｚ＼点（欠株連結）
は向しく １２．１〜１５．８％、・９点（イ１１ｂ尿
連結）は回じ＜ ３３．５〜３６．７％、Ｘ点（仄諒連
結）は同じ＜４４．．０〜４７．５％の試料・片につい
てのに１宋を示している。以上詳述したように、低角度
の蛍光Ｘ、線測定で得られるＷＦｅＩを変数として高角
度でりど光Ｘ赤強度を測定することにより、該測定値に
対欝する何名ｉ１が得られることが解る。
Ｘ ｐＨｔに対する下」ｍ金（−１３の’ＩｊＵ１ｉｌ
ン１史収句丈≠う〔 （Ｌ）′２：頂光Ｘ課に対する下地金、馬のア↓１１支
ρ １１及収係、′父 ρＦｅ−Ｚｎ：Ｆｅ−Ｚｎ：メッキ被照１分１曽１５８
図は尚角度の入射ブΔ］釉、−収１ｊ′１角ψ、、１＝
６０°の条件にて測定したＦｅ蛍光Ｘ 気”ｊＭ ｇ
ｌＦｅ１（、（ｃｐｓ〕Ｌ 市ｊＪ（法で得られた付右
昂：Ｃｇ／ｍ２）との関１糸忙目１１記低角度の蛍光Ｘ
線分析によって得たＷＦｅｌを変改としてンバしたもの
であって、縦軸に’ＦｅＫａを、址だ横軸に付着量金と
って示している。この図によりＩＦｅゎＷＦｅＩ及びメ
ッキ被腺厚さく付積量）ｄｌの間に対応関係があること
が解かる。なお第３図において、り点（実線連結）ホＷ
Ｆｅ１か０９０（即ちＺｎのみ）、Ｘ点（破、寂ｌ！］
！結）は同じ＜５．７〜６．３％、Ｚ＼点（欠株連結）
は向しく １２．１〜１５．８％、・９点（イ１１ｂ尿
連結）は回じ＜ ３３．５〜３６．７％、Ｘ点（仄諒連
結）は同じ＜４４．．０〜４７．５％の試料・片につい
てのに１宋を示している。以上詳述したように、低角度
の蛍光Ｘ、線測定で得られるＷＦｅＩを変数として高角
度でりど光Ｘ赤強度を測定することにより、該測定値に
対欝する何名ｉ１が得られることが解る。
而して上述した列」くシー板１に一層目のメッキ液１か
１１か形成された時点で下地金１．蝿たる鋼板１からの
蛍光Ｘ線強度が実質的に最低となる低角度の入射角、収
出角を定めて、励起Ｘ線の入射及び蛍光Ｘ線強度の測定
を行うことにより、この測定結果から一層目のメッキ液
１＃１１における成分の組成が求まり、また前記入射角
、収出角とは異なるこれよりも高角度の入射角、取出角
を定めて、励起Ｘ線の入射及び蛍光Ｘ緑飄度の測定を行
うこ々により、この測定結果から一層目のメッキ被膜１
１の付着量（ｇ／ｍ２’）を求め得ることとなる。
１１か形成された時点で下地金１．蝿たる鋼板１からの
蛍光Ｘ線強度が実質的に最低となる低角度の入射角、収
出角を定めて、励起Ｘ線の入射及び蛍光Ｘ線強度の測定
を行うことにより、この測定結果から一層目のメッキ液
１＃１１における成分の組成が求まり、また前記入射角
、収出角とは異なるこれよりも高角度の入射角、取出角
を定めて、励起Ｘ線の入射及び蛍光Ｘ緑飄度の測定を行
うこ々により、この測定結果から一層目のメッキ被膜１
１の付着量（ｇ／ｍ２’）を求め得ることとなる。
次に二層目のメッキ被膜１２における組成及び付着量を
求める過程について説明する。第゛４図に示す如く二層
目のメッキ被膜１２が形成された時点で、先ず一一目の
メッキ被膜１１からの蛍光Ｘ線強度が最低となる低角度
の入射角丸２．収出角ψＬ２を選定し、前記蛍光Ｘ盪分
析金行った一層目のメッキ被ｉｉｎ １１位置と対応す
る位置において、上記入射角ψ１□での１必起ｘ ａＱ
の人別及び収出角ψＬ２でのＦｅ蛍光Ｘ線強ｔＫ ｒ
を測定する。この蛍光ＸＦｅＫα 線強度１ とメッキ彼映Ｉ２中のＦｅ重量瀘度Ｉ？ｅ
Ｋα ＷＦｅｌとの１３！、Ｉ保は前記第２図に示した一層目
メツキ被膜ｌｌ中のＦｅ重枇濃度ＷＦｅｌと蛍光Ｘ線強
度との関係に近似したものであり、二層目メッキ被膜１
２中のＦｅ屯量濃Ｊ蔓ＷＦｅＬｌが容易に水する。
求める過程について説明する。第゛４図に示す如く二層
目のメッキ被膜１２が形成された時点で、先ず一一目の
メッキ被膜１１からの蛍光Ｘ線強度が最低となる低角度
の入射角丸２．収出角ψＬ２を選定し、前記蛍光Ｘ盪分
析金行った一層目のメッキ被ｉｉｎ １１位置と対応す
る位置において、上記入射角ψ１□での１必起ｘ ａＱ
の人別及び収出角ψＬ２でのＦｅ蛍光Ｘ線強ｔＫ ｒ
を測定する。この蛍光ＸＦｅＫα 線強度１ とメッキ彼映Ｉ２中のＦｅ重量瀘度Ｉ？ｅ
Ｋα ＷＦｅｌとの１３！、Ｉ保は前記第２図に示した一層目
メツキ被膜ｌｌ中のＦｅ重枇濃度ＷＦｅｌと蛍光Ｘ線強
度との関係に近似したものであり、二層目メッキ被膜１
２中のＦｅ屯量濃Ｊ蔓ＷＦｅＬｌが容易に水する。
次に前記した低角度の入射角ψ１，１．収出角φ１，１
と異なるこれよりも大きい角度、即ち高角度の入射角ψ
Ｈ２＋取出角取出全幅め、同じ位置に入射角ψ、１□で
励起Ｘ線の入射及び収出角９！ＩＨ２でＦｅ蛍光Ｘ線強
度’ＦｅＫｔｔ （又はＺｎ蛍光ＸｇＡ 強ＪＫ ＩＺ
、に、、 ）を測定する。この蛍光Ｘ線強度ＩＦｅゎ（
又はＩｚ□や）は二ｊψ目のメッキ被膜１２における１
戻厚ｄ２及び各成分組成の重重濃度ＷＦｅ１１． 、
ＷＺｎｌ［の影響を受けており、これら” ”Ｆｅ１ｌ
、”ＷＺｅｌＪ並ひに一層目のメッキ被膜１１におけ
る組成ＷＦｅＩ、映厚ｄ工間には下記（３）。
と異なるこれよりも大きい角度、即ち高角度の入射角ψ
Ｈ２＋取出角取出全幅め、同じ位置に入射角ψ、１□で
励起Ｘ線の入射及び収出角９！ＩＨ２でＦｅ蛍光Ｘ線強
度’ＦｅＫｔｔ （又はＺｎ蛍光ＸｇＡ 強ＪＫ ＩＺ
、に、、 ）を測定する。この蛍光Ｘ線強度ＩＦｅゎ（
又はＩｚ□や）は二ｊψ目のメッキ被膜１２における１
戻厚ｄ２及び各成分組成の重重濃度ＷＦｅ１１． 、
ＷＺｎｌ［の影響を受けており、これら” ”Ｆｅ１ｌ
、”ＷＺｅｌＪ並ひに一層目のメッキ被膜１１におけ
る組成ＷＦｅＩ、映厚ｄ工間には下記（３）。
（４）式で示す如き関係式（回帰式）が成立する。
’ＦｅＫｔｘ −ｆ （ｄ２ ＋ ν’Ｆｅ１ｌ
、 ｄｌ 、 Ｖｖｐ−８ｌ）
−・ （３）■：ｇ（ｄ２）Ｗ５ｄしＷＺｎ
ｌ）・・・（４）ＺｎＫα Ｚｎ１Ｊ （３） 、 （４）式を解くことによって、ｄ２ ＋
ＷＦｅ［＋ ｌ１ｖＺｎｌｌが求まる。
、 ｄｌ 、 Ｖｖｐ−８ｌ）
−・ （３）■：ｇ（ｄ２）Ｗ５ｄしＷＺｎ
ｌ）・・・（４）ＺｎＫα Ｚｎ１Ｊ （３） 、 （４）式を解くことによって、ｄ２ ＋
ＷＦｅ［＋ ｌ１ｖＺｎｌｌが求まる。
次に実、強結果に基づき上記関係を明らかにする。
供試料としては倶；イΔ櫂にＦｅ２÷からなるメンキ液
中で電気メッキを施し、一層目のメッキ被膜は組成（Ｆ
ｅ ： ８０％）、付着量（２５ｇ／ｒｎ” ）を一定
とし、これに組成及び付着量を異にするＦｅ −Ｚｎ合
企による二層目のメッキ被膜を形成したものを用いた。
中で電気メッキを施し、一層目のメッキ被膜は組成（Ｆ
ｅ ： ８０％）、付着量（２５ｇ／ｒｎ” ）を一定
とし、これに組成及び付着量を異にするＦｅ −Ｚｎ合
企による二層目のメッキ被膜を形成したものを用いた。
捷た蛍光Ｘ線分析計における入射角、取出角の設定には
Ｘ線回折分析に用いられているゴニオメータを利用し、
更に蛍光Ｘ線の検出にはＦｅ、Ｚｎの谷蛍光Ｘ線強度を
分離測定し得る半辱体検出器を用い、隘７匝ターゲット
にはタングステンを用いた。
Ｘ線回折分析に用いられているゴニオメータを利用し、
更に蛍光Ｘ線の検出にはＦｅ、Ｚｎの谷蛍光Ｘ線強度を
分離測定し得る半辱体検出器を用い、隘７匝ターゲット
にはタングステンを用いた。
励起条件とｋての管電圧−管軍電流は３０ＫＶ〜３０ｍ
Ａとし、励起Ｘ線側には厚さ０．１０ｍｍのジルコニク
ムフィルタを用いた。
Ａとし、励起Ｘ線側には厚さ０．１０ｍｍのジルコニク
ムフィルタを用いた。
この実験に鋭いて、低角度の入射角ψＬ−５°。
取出角ψＬ２＝５°の条件で測定した二層目のメッキ被
１１竪からのＦｅ蛍光Ｘ線強度ＩＦｅＫｇ （又は’ｉ
ｎ、Ｋａ ’と化学分析法によって求めた二層１゜１の
メッキ彼１ｊ呆中のＦｅ＋を辰ｊｆｉ＋７度、との関係
は−ハ＠ ｌ：Ｊのメッキ被１１央についての両者の１
カー系である第２図に下すものと１・・／； ｌ’１じ
てあった。弔５，６図（ｄ高角度の人！４１角ψ１□２
−１０°、収１−１１月ψＨ２＝１０°の条件で似；ｌ
定したｌ？ｅ、Ｚｎ蛍光Ｘ・べり：Ｍ ）Ｋ ■Ｆ ｅ
Ｋａ 、 ’ ＺｎＫ１ ’ 消つ（Ｆｅ蛍元Ｘ尿１匝
）変死（６ｔｉｉｌ ）奴のＦｅＫα蛍光Ｘ外泉Ｉｊ虫
度を１としたときの４ｌ文寸通度）Ｚｎ′虫光Ｘ娠強度
比（夷核試料中最大の１圧度になる試料の強度を１とし
たときの相対’：”！”ｖ度）を犬々’Ｆ、ｌＩ［軸に
、また事最分析法によって求めたＦｅ、Ｚｎの付着量（
ｇ’／ｍ２）を、）黄軸にとり、先に１氏用ノ斐の入射
角、収出角で氷めた二層目のメッキ被１１１尾中のＺｎ
組成（へ））ＷＺｎｌｌｌを変数として示しである。
１１竪からのＦｅ蛍光Ｘ線強度ＩＦｅＫｇ （又は’ｉ
ｎ、Ｋａ ’と化学分析法によって求めた二層１゜１の
メッキ彼１ｊ呆中のＦｅ＋を辰ｊｆｉ＋７度、との関係
は−ハ＠ ｌ：Ｊのメッキ被１１央についての両者の１
カー系である第２図に下すものと１・・／； ｌ’１じ
てあった。弔５，６図（ｄ高角度の人！４１角ψ１□２
−１０°、収１−１１月ψＨ２＝１０°の条件で似；ｌ
定したｌ？ｅ、Ｚｎ蛍光Ｘ・べり：Ｍ ）Ｋ ■Ｆ ｅ
Ｋａ 、 ’ ＺｎＫ１ ’ 消つ（Ｆｅ蛍元Ｘ尿１匝
）変死（６ｔｉｉｌ ）奴のＦｅＫα蛍光Ｘ外泉Ｉｊ虫
度を１としたときの４ｌ文寸通度）Ｚｎ′虫光Ｘ娠強度
比（夷核試料中最大の１圧度になる試料の強度を１とし
たときの相対’：”！”ｖ度）を犬々’Ｆ、ｌＩ［軸に
、また事最分析法によって求めたＦｅ、Ｚｎの付着量（
ｇ’／ｍ２）を、）黄軸にとり、先に１氏用ノ斐の入射
角、収出角で氷めた二層目のメッキ被１１１尾中のＺｎ
組成（へ））ＷＺｎｌｌｌを変数として示しである。
これらのグラフから明らかな如く、Ｆｅ蛍光Ｘ・尿強度
比、Ｚｎ蛍光Ｘ線強度比と二層目のメッキ被膜の付着量
との間には対応関係があることが解る。
比、Ｚｎ蛍光Ｘ線強度比と二層目のメッキ被膜の付着量
との間には対応関係があることが解る。
而して一層目からの蛍光Ｘ線強度が最低となる低角度で
の励起Ｘ線の入射及び低角度での蛍光Ｘ線強度の測定結
果から求めた二層目のメッキ被膜中のＺｎ重量濃度ＷＺ
ｎ■を愛飲として高角度でＦｅ、Ｚｎの蛍光Ｘ ？１Ｍ
強Ｊ” ＦｅＫヶ＋ ＩＺｎＫヶの測定を行うことによ
り二層目のメッキ被膜の付＃量が求められる。
の励起Ｘ線の入射及び低角度での蛍光Ｘ線強度の測定結
果から求めた二層目のメッキ被膜中のＺｎ重量濃度ＷＺ
ｎ■を愛飲として高角度でＦｅ、Ｚｎの蛍光Ｘ ？１Ｍ
強Ｊ” ＦｅＫヶ＋ ＩＺｎＫヶの測定を行うことによ
り二層目のメッキ被膜の付＃量が求められる。
次に本発明方法を実施する装置を二層メッキ鋼板の製造
ラインに適用した場合につき具体的にｄ１セリ１する。
ラインに適用した場合につき具体的にｄ１セリ１する。
弔７図は本発明方法を二層（至）メッキ（イ）板の製造
ラインに適用した状態を示す模式図であり、図中１は鋼
板を示している。銅＆ｌは図示しないペイオフリールか
ら保り出されてｌｆ■処坤工程を経た後、先ず一層目の
メッキ用タンク２に通され、その両面にメッキを施され
、スプレィタンク３に通されて洸１録された後、その丘
、下面通過域に臨ませた蛍光ｘ裸分析計４ ｕ ｒ ４
ｄにて相対応する両面のメッキ被膜の膜厚（付着量）
及び組成（濃度）全、第１図に示したＩＡ」き原理に従
って、具体的には第８図に示す如き装置自で測定される
。第８図は蛍光Ｘ線分析計４ｕのブロック図であり、各
励起妃から発せられた励起Ｘ線のうち低角度の入射角ψ
□、でメッキ被）戻１１に照射されたＸ線によって励起
されメッキ被ＩＮＩＩから収出角錐１で収出された蛍光
Ｘ線は検出器３１に尋かれて電気信号に変換される。検
出器３Ｉの出力電気信号は増ＩＭ器３２に人って増媚）
された後に、波高分析器８３及びδ−１゛敗器３４によ
ってメッキ彼ｊ関中の金１．Ｑ１２の蛍光Ｘ線強度に変
換される。
ラインに適用した状態を示す模式図であり、図中１は鋼
板を示している。銅＆ｌは図示しないペイオフリールか
ら保り出されてｌｆ■処坤工程を経た後、先ず一層目の
メッキ用タンク２に通され、その両面にメッキを施され
、スプレィタンク３に通されて洸１録された後、その丘
、下面通過域に臨ませた蛍光ｘ裸分析計４ ｕ ｒ ４
ｄにて相対応する両面のメッキ被膜の膜厚（付着量）
及び組成（濃度）全、第１図に示したＩＡ」き原理に従
って、具体的には第８図に示す如き装置自で測定される
。第８図は蛍光Ｘ線分析計４ｕのブロック図であり、各
励起妃から発せられた励起Ｘ線のうち低角度の入射角ψ
□、でメッキ被）戻１１に照射されたＸ線によって励起
されメッキ被ＩＮＩＩから収出角錐１で収出された蛍光
Ｘ線は検出器３１に尋かれて電気信号に変換される。検
出器３Ｉの出力電気信号は増ＩＭ器３２に人って増媚）
された後に、波高分析器８３及びδ−１゛敗器３４によ
ってメッキ彼ｊ関中の金１．Ｑ１２の蛍光Ｘ線強度に変
換される。
一方、高角度の入射角ψ１．１で鋼板１に照射されたＸ
線によって励起され鋼板１から収出角ψ１（１で収出さ
れた蛍光Ｘ線は、上述の低角度測定の場合と同様に構成
されている検出器４１．増幅器４２．波高分析器４３及
び計数器４４によって鋼＆１の蛍光Ｘ線強度に変換され
る。計数器３４．４４の蛍光Ｘ線強度に対応する出力は
演算器５０に棉かれる。
線によって励起され鋼板１から収出角ψ１（１で収出さ
れた蛍光Ｘ線は、上述の低角度測定の場合と同様に構成
されている検出器４１．増幅器４２．波高分析器４３及
び計数器４４によって鋼＆１の蛍光Ｘ線強度に変換され
る。計数器３４．４４の蛍光Ｘ線強度に対応する出力は
演算器５０に棉かれる。
この演算器５０には、ｖＪ２図で示される如き’ＦｅＫ
ｒｘとＷＦｅＩの胸係式ｗＦｅｌ ＝ ｆ（■ＦｅＫａ
”びクコ３図で示される如き’ＦｅＫｃｃ ’ ”ｌｉ
’ｅＩ及び目付ｔ１．（厚さ） Ｃ１ｌの１４１４．４
式ｄ、＝ ” ＩＦ ｅＫ（ｚ ’νｖＦｅＩ’が予め
設定されており、上述の１７！Ｄ ＜ シて得られる蛍
光Ｘ線強度に対応する重量媒）ｙ及び目付量が演算され
表示器５１に表示される。な寂、検出器３１．４１とし
てけＦｅ及びＺｎの蛍光強度が容易に分離測定できる半
導体検出１嚇を用いるのがよい。
ｒｘとＷＦｅＩの胸係式ｗＦｅｌ ＝ ｆ（■ＦｅＫａ
”びクコ３図で示される如き’ＦｅＫｃｃ ’ ”ｌｉ
’ｅＩ及び目付ｔ１．（厚さ） Ｃ１ｌの１４１４．４
式ｄ、＝ ” ＩＦ ｅＫ（ｚ ’νｖＦｅＩ’が予め
設定されており、上述の１７！Ｄ ＜ シて得られる蛍
光Ｘ線強度に対応する重量媒）ｙ及び目付量が演算され
表示器５１に表示される。な寂、検出器３１．４１とし
てけＦｅ及びＺｎの蛍光強度が容易に分離測定できる半
導体検出１嚇を用いるのがよい。
型光Ｘ線分析計４ｕ、４ｄを経た鋼＆１は二層目のメッ
キ用タンク５に通され、同様にその１匈ｍ１にメンキを
施ぎれスプレィタンク６に１ｉＪｉされてｆｋ ／Ｉ［
ａされた後、その上、ド、ｊｕ過域に國ませた蛍光Ｘ
１１分析計７ｕ、７ｄに達し、ここで前記第４図におい
て説明した如き連用Ｉによって、二層目のメッキ層にお
ける膜厚及び目保冗素の組成がγＩ（１１定される。
キ用タンク５に通され、同様にその１匈ｍ１にメンキを
施ぎれスプレィタンク６に１ｉＪｉされてｆｋ ／Ｉ［
ａされた後、その上、ド、ｊｕ過域に國ませた蛍光Ｘ
１１分析計７ｕ、７ｄに達し、ここで前記第４図におい
て説明した如き連用Ｉによって、二層目のメッキ層にお
ける膜厚及び目保冗素の組成がγＩ（１１定される。
具体的な蛍光Ｘ猟分析計の構成は第８図に示しだ構成と
同じである。
同じである。
第９，１０図は上述した手順で分析した二層目のメッキ
被＋１＝ １２ ｔｃついての付ｆｔ ｆ＜ （ｇ ／
ｒｎす、Ｚｎ賞＠→と、従来行なわれている重量法に
ょる二層目メッキ被膜の付着ｍ（ｇ／ｍす、化学分析法
によるＺｎ量−との結果を示すグラフである。第９図の
グラフは横軸に重量法により求めた二層目のメッキ被膜
の付着量（ｇ／ｍ２）を、また縦軸に本発明方法により
求めた二層目メッキ被膜の付着量（ｇ／ｍ２）をとって
示してあり、一方＠１０図は横１１に化学分析法により
求めた二層目のメッキ被膜のＺ ｎ Ｑ）。
被＋１＝ １２ ｔｃついての付ｆｔ ｆ＜ （ｇ ／
ｒｎす、Ｚｎ賞＠→と、従来行なわれている重量法に
ょる二層目メッキ被膜の付着ｍ（ｇ／ｍす、化学分析法
によるＺｎ量−との結果を示すグラフである。第９図の
グラフは横軸に重量法により求めた二層目のメッキ被膜
の付着量（ｇ／ｍ２）を、また縦軸に本発明方法により
求めた二層目メッキ被膜の付着量（ｇ／ｍ２）をとって
示してあり、一方＠１０図は横１１に化学分析法により
求めた二層目のメッキ被膜のＺ ｎ Ｑ）。
（＠を、ま７ζ縦頓に本発明方法により求めた二層目の
メッキ被膜の付着量（ｇ ／ １ｉ）２）をとって示し
である。
メッキ被膜の付着量（ｇ ／ １ｉ）２）をとって示し
である。
これらのグラフから明らかな如く、末完１月方法てよる
二層目メッキ被膜の付着量（ｇ／ｌη２）、Ｚｎけ１（
＠はいずれも従来方法によって求めたイ１１〕と一致し
ており、十分な測定精度が寿られることを示している。
二層目メッキ被膜の付着量（ｇ／ｌη２）、Ｚｎけ１（
＠はいずれも従来方法によって求めたイ１１〕と一致し
ており、十分な測定精度が寿られることを示している。
次に木発り４方法を鋼板表面に一層目としてｉｒｅ、−
Ｚｎ合金勿、二層目には組成の異なるＦｅ−Ｚｎｎ合金
メンキする二層メッキ鋼板の製造ラインに適用して二層
目のメッキ被膜の付着量（ｇ ／ １１１２） 、及び
Ｚｎ量を分析した結果と、従来より実施されている市昂
、法を適用して二層目のメッキ被膜の付着量（ｇＡｎ２
）を、また化学分析法を適用して二層ｌのＺｎ量を分析
した結果とを示す。
Ｚｎ合金勿、二層目には組成の異なるＦｅ−Ｚｎｎ合金
メンキする二層メッキ鋼板の製造ラインに適用して二層
目のメッキ被膜の付着量（ｇ ／ １１１２） 、及び
Ｚｎ量を分析した結果と、従来より実施されている市昂
、法を適用して二層目のメッキ被膜の付着量（ｇＡｎ２
）を、また化学分析法を適用して二層ｌのＺｎ量を分析
した結果とを示す。
なお本発明法としては、鋼板表面に一層目としてＦｅ−
Ｚｎ合金をメッキした諺に、鋼板からの蛍光Ｘ線強度が
実質的に最低となる入射角丸、−５°。
Ｚｎ合金をメッキした諺に、鋼板からの蛍光Ｘ線強度が
実質的に最低となる入射角丸、−５°。
取出角ψ１□＝５°、で天測し、次いで、高角度の入射
角軸□＝６０°、収出角ψＨ１＝６０°、ご実測した後
、二層目として一層目の組成と異なるＦｅ−Ｚｎ合金の
メッキを施し、一層目の蛍光Ｘ線分析位１ｆｆｉと同位
置において、再び、一層目からの蛍光Ｘ線強度が実質的
に最低となる入射角！ｐＬ２−５°、収出角ψＬ２−５
°。
角軸□＝６０°、収出角ψＨ１＝６０°、ご実測した後
、二層目として一層目の組成と異なるＦｅ−Ｚｎ合金の
メッキを施し、一層目の蛍光Ｘ線分析位１ｆｆｉと同位
置において、再び、一層目からの蛍光Ｘ線強度が実質的
に最低となる入射角！ｐＬ２−５°、収出角ψＬ２−５
°。
で実測し１２次いで、一層目から蛍光Ｘ線が測定される
比較的高角度の入射角軸２−１０°、収出角ψ１，２−
１Ｏ９で実測した。第１１図は横軸に重量法によシ氷め
た二層目のメッキ被膜付着、請： （ｇ／ｒｎ２）を、
また縦軸に本発明方法により求めた二層目のメッキ鼓膜
付着量（ｇ／１ｎ２）をとって示してあり、一方第１２
図は横軸に化学分析法により求めた二層目メッキ被膜中
のＺｎ量（ロ）を、また縦軸に本発明方法により求めた
二層目メッキ被膜中のＺｎ量に）をとって示しである。
比較的高角度の入射角軸２−１０°、収出角ψ１，２−
１Ｏ９で実測した。第１１図は横軸に重量法によシ氷め
た二層目のメッキ被膜付着、請： （ｇ／ｒｎ２）を、
また縦軸に本発明方法により求めた二層目のメッキ鼓膜
付着量（ｇ／１ｎ２）をとって示してあり、一方第１２
図は横軸に化学分析法により求めた二層目メッキ被膜中
のＺｎ量（ロ）を、また縦軸に本発明方法により求めた
二層目メッキ被膜中のＺｎ量に）をとって示しである。
これら両グラフから明らかな如く、いずれも本発明方法
にて得た二層目のメッキ被膜の付着量、Ｚｎ量とも大々
重量法、化学分析法による結果と一致する結果が得られ
ている。
にて得た二層目のメッキ被膜の付着量、Ｚｎ量とも大々
重量法、化学分析法による結果と一致する結果が得られ
ている。
更に本発明法の別の態様として、鋼板表面に一層目とし
てＮ ｉ −Ｚ ｎ合金を７メツキした後に、二層目と
してＦｅ−Ｚ’ｎ合金をメンキした場合について示す。
てＮ ｉ −Ｚ ｎ合金を７メツキした後に、二層目と
してＦｅ−Ｚ’ｎ合金をメンキした場合について示す。
鋼板表面に一層目としてＮｉ−Ｚｎ合金をメッキしたの
ちに、入射角ψ−９０°、収出角ψ−８５゜の条件で、
犬々の蛍光Ｘ線強度■ＦｅＫａ ”Ｎ１Ｋａ及び■Ｚｎ
Ｋｇ 全測定し、■ 蛍光Ｘ線強度測定値及ＦｅＫ−
α ひ予め定めておいたＩＦ ｅＫｚ蛍゛光Ｘ思：類１度と
、付−着量二との関係から付着量を求め、また’Ｎ１Ｋ
ａ、蛍光Ｘ線強度測定値と’ＺｎＫａ蛍光Ｘ線強度測定
値との比、文ひ予め定めておいたｌＮ１Ｋａ蛍光Ｘ練強
度と’ＺｎＫａ蛍光Ｘ線強度との比とＮｉ量又はＺｎ量
との関係から１東量又はＺｎ量を求めた。この様にして
一層目のメッキの付着量とＮｉ量又はＺｎ量を測定した
のちに、Ｆｅ−Ｚｎ合金メッキを施し、一層目の蛍光Ｘ
ａ分析位百と同位１百において、再び一層目からの蛍光
Ｘ線強度が夫質的に最低となる入射角丸、＝５°、収出
角ψ５□＝５°で実測し、次いで一層目からの蛍光Ｘ線
が測定される比較的高角度の入射角６λＨ２−１０°、
収出角ψＨ２−１０°、で測定した。この様にして求め
た結果を、第１３図、第１４図に示す。第１３図は、横
ｌ紬に重量法により求めた二層目のメッキ被）模付着量
（ｇ／／１１１２）を、また縦軸に本発明法で求めた二
層目のメッキ被膜付着量（ｇ／ｍ２）’ｅとって示しで
ある。また、第１４図は、横軸に化学分析法により求め
た二層目のメッキ被膜中Ｚｎ量（％）を、縦ＩＩＩ洸末
完明法で求めた二層目のメンキ被１模中Ｚ ｎ 敏（％
）をとって示しである。
ちに、入射角ψ−９０°、収出角ψ−８５゜の条件で、
犬々の蛍光Ｘ線強度■ＦｅＫａ ”Ｎ１Ｋａ及び■Ｚｎ
Ｋｇ 全測定し、■ 蛍光Ｘ線強度測定値及ＦｅＫ−
α ひ予め定めておいたＩＦ ｅＫｚ蛍゛光Ｘ思：類１度と
、付−着量二との関係から付着量を求め、また’Ｎ１Ｋ
ａ、蛍光Ｘ線強度測定値と’ＺｎＫａ蛍光Ｘ線強度測定
値との比、文ひ予め定めておいたｌＮ１Ｋａ蛍光Ｘ練強
度と’ＺｎＫａ蛍光Ｘ線強度との比とＮｉ量又はＺｎ量
との関係から１東量又はＺｎ量を求めた。この様にして
一層目のメッキの付着量とＮｉ量又はＺｎ量を測定した
のちに、Ｆｅ−Ｚｎ合金メッキを施し、一層目の蛍光Ｘ
ａ分析位百と同位１百において、再び一層目からの蛍光
Ｘ線強度が夫質的に最低となる入射角丸、＝５°、収出
角ψ５□＝５°で実測し、次いで一層目からの蛍光Ｘ線
が測定される比較的高角度の入射角６λＨ２−１０°、
収出角ψＨ２−１０°、で測定した。この様にして求め
た結果を、第１３図、第１４図に示す。第１３図は、横
ｌ紬に重量法により求めた二層目のメッキ被）模付着量
（ｇ／／１１１２）を、また縦軸に本発明法で求めた二
層目のメッキ被膜付着量（ｇ／ｍ２）’ｅとって示しで
ある。また、第１４図は、横軸に化学分析法により求め
た二層目のメッキ被膜中Ｚｎ量（％）を、縦ＩＩＩ洸末
完明法で求めた二層目のメンキ被１模中Ｚ ｎ 敏（％
）をとって示しである。
この両グラフから、いずれも本発明方法、ｌごて得。
た二層目のメッキ被膜の付着量は、Ｚｎ−はともに、弔
１１図、第１２図と同椋に、重量法、化学分析法による
ものと一致する結果がイ４Ｉられた。
１１図、第１２図と同椋に、重量法、化学分析法による
ものと一致する結果がイ４Ｉられた。
以上の如く本発明方法にあっては複層メッキ製品であっ
て、しかも各メンキ被ｊ模に共通の元素を含む場合にお
いても各メッキ被膜の膜厚及び組成を正確に、しかも自
動的に定量することが出来て、オンラインに適用して膜
厚９組成の制御に利用することが出来るなど、木発すＪ
は侵れた効果を奏するものである。
て、しかも各メンキ被ｊ模に共通の元素を含む場合にお
いても各メッキ被膜の膜厚及び組成を正確に、しかも自
動的に定量することが出来て、オンラインに適用して膜
厚９組成の制御に利用することが出来るなど、木発すＪ
は侵れた効果を奏するものである。
多５１図は不発（７）方法の原理説１１図、第２図はｍ
一層目のメッキ被膜における’ＰｅＫａ ’ＦｅＩの
相関関係を示すグラフ、第３図は一層目のメッキ被膜に
おけるＷＦｅＩ全変べとしたＩＦｅ紐−付４量のｒ＋」
＋＝開保を示すグラフ、第４図は本発明方法の原理説明
図、ｔｉ、ｉ ５ 、６図は二層目のメッキ被膜におけ
るＷＺｅｌをノＳ般とした１ −付を゛量１ ’Ｚｎ
Ｋｚ−付肴尾の４ｕ関関ＦｅＫα 俤を示すグラフ、弗７図は本発明方法を二層メッキ銅板
の製造ラインに適用し之ときの具体的な構１μ、を示す
模式図、第８図は一層目のメッキ被膜に対する蛍光Ｘ線
分析計のブロック図、９６９図は不発ゾＪ方法と従来の
重量法とを適用して二層目メッキ液１１Ｑの付着量を測
定した結果を比較して示すグラフ、第１０図は本発明方
法と従来の化学分析法と全適用して二層目メッキ被膜中
のＺｎ量を測定した結果をｊｔＩ吠して示すグラフ、・
帛１１図は本発明方法を二層メッキ鋼板の製造ラインに
適用してニル４目のメッキ被膜付着量を検出した結果を
、従来の４１童法によって検出した結果と比較して示す
グラフ、第１２図は本発明方法を同じく二層メッキ鋼板
の製造ラインに適用して二層目のメッキ被１模中のＺｎ
１ｄを測定した結果を従来の化学分析法によって測定し
た結果と比較して示すグラフ、第１３図は本発明の他の
夫原則について二層目のメッキ被膜付着量を本発明方法
の結果と「重量法によって検出した結果を比較して示す
グラフ、弔１４図は同じく二層目のメッキｆ＆膜中のＺ
ｌけ本発明方法の結果と化学分析法によって検出した結
果を比較して示すグラフである。 ■・・・副板 ２・・・メッキタンク ３・・・スプレ
ィタンク ４ｕ、４ｄ・・・蛍光Ｘ裸分析計 ５・・二
層目メッキタンク ６・スプレィタンク ７ｕ、７ｄ・
・・蛍光Ｘ線分析計 １１・・・一層目メッキ被膜１２
・・・二層目メッキ彼Ｉ模 ３１，４１・・・検出器８
２．４２・・・増幅器 ８８．４３・・・波高分析器３
４．４４・・・計疾器 ５０・・・演算器 ５１−・表
示器第 １ 図 ０ １０ ２０ ．３Ｑ
４０ ５００ Ｉｏ
２０ ３０ ４ＯＳ０４目メツキ
ネ皮鰻のイす 尤 量 〔９ん２〕（重量法【２よろ
値） 第 ３ 図 菓卆図 二層目メヅキネｉｆｆ？イ呼名量（＃／、−）第 ５
図 ニＥ目メッキオ崖月埠の４４者ｔ（ｆｆ％慈）第 ６
図 第７図 一＼−１ 第８ 図 二層目メツリ皮月葵の付名量ｇＡ？Ｃ１しＱ第９図 ＝Ｍ目メ・ツキ移月暴中のｚ、８％、（／ヒ学分才を請
菓 ７０ 図 （（４） 第 ｌｌ 図 ）″′ 二鳥目メッキ被月莫の付着量（重量法）９ム・第７３図 二層目メッキ粧月φ中のｚ７量（イＩＺ営分耕ｓ大）鰯
第 ／ｌ−Ａ 図
一層目のメッキ被膜における’ＰｅＫａ ’ＦｅＩの
相関関係を示すグラフ、第３図は一層目のメッキ被膜に
おけるＷＦｅＩ全変べとしたＩＦｅ紐−付４量のｒ＋」
＋＝開保を示すグラフ、第４図は本発明方法の原理説明
図、ｔｉ、ｉ ５ 、６図は二層目のメッキ被膜におけ
るＷＺｅｌをノＳ般とした１ −付を゛量１ ’Ｚｎ
Ｋｚ−付肴尾の４ｕ関関ＦｅＫα 俤を示すグラフ、弗７図は本発明方法を二層メッキ銅板
の製造ラインに適用し之ときの具体的な構１μ、を示す
模式図、第８図は一層目のメッキ被膜に対する蛍光Ｘ線
分析計のブロック図、９６９図は不発ゾＪ方法と従来の
重量法とを適用して二層目メッキ液１１Ｑの付着量を測
定した結果を比較して示すグラフ、第１０図は本発明方
法と従来の化学分析法と全適用して二層目メッキ被膜中
のＺｎ量を測定した結果をｊｔＩ吠して示すグラフ、・
帛１１図は本発明方法を二層メッキ鋼板の製造ラインに
適用してニル４目のメッキ被膜付着量を検出した結果を
、従来の４１童法によって検出した結果と比較して示す
グラフ、第１２図は本発明方法を同じく二層メッキ鋼板
の製造ラインに適用して二層目のメッキ被１模中のＺｎ
１ｄを測定した結果を従来の化学分析法によって測定し
た結果と比較して示すグラフ、第１３図は本発明の他の
夫原則について二層目のメッキ被膜付着量を本発明方法
の結果と「重量法によって検出した結果を比較して示す
グラフ、弔１４図は同じく二層目のメッキｆ＆膜中のＺ
ｌけ本発明方法の結果と化学分析法によって検出した結
果を比較して示すグラフである。 ■・・・副板 ２・・・メッキタンク ３・・・スプレ
ィタンク ４ｕ、４ｄ・・・蛍光Ｘ裸分析計 ５・・二
層目メッキタンク ６・スプレィタンク ７ｕ、７ｄ・
・・蛍光Ｘ線分析計 １１・・・一層目メッキ被膜１２
・・・二層目メッキ彼Ｉ模 ３１，４１・・・検出器８
２．４２・・・増幅器 ８８．４３・・・波高分析器３
４．４４・・・計疾器 ５０・・・演算器 ５１−・表
示器第 １ 図 ０ １０ ２０ ．３Ｑ
４０ ５００ Ｉｏ
２０ ３０ ４ＯＳ０４目メツキ
ネ皮鰻のイす 尤 量 〔９ん２〕（重量法【２よろ
値） 第 ３ 図 菓卆図 二層目メヅキネｉｆｆ？イ呼名量（＃／、−）第 ５
図 ニＥ目メッキオ崖月埠の４４者ｔ（ｆｆ％慈）第 ６
図 第７図 一＼−１ 第８ 図 二層目メツリ皮月葵の付名量ｇＡ？Ｃ１しＱ第９図 ＝Ｍ目メ・ツキ移月暴中のｚ、８％、（／ヒ学分才を請
菓 ７０ 図 （（４） 第 ｌｌ 図 ）″′ 二鳥目メッキ被月莫の付着量（重量法）９ム・第７３図 二層目メッキ粧月φ中のｚ７量（イＩＺ営分耕ｓ大）鰯
第 ／ｌ−Ａ 図
Claims (1)
- １、純金属又は合金の複層メッキ披ｊｊＱの付着量及び
／又は組成を定量する方法において、一層目のメッキ被
膜を形成した後、該一層目のメッキ被膜についての付着
量及び／又は組成を蛍光Ｘ線分析し、次いで二層目のメ
ッキｍ１ｉＱｌを形成した後、前記蛍光Ｘ線分析を行っ
た一層目のメッキ被１侯位論゛と対応する位置について
蛍光Ｘ線分析を行い、両賞光Ｘ線分析結果に基づいて二
層目のメッキ被膜についての付 ３着量及び／又は組成
を算出することを特徴とするメッキ被膜の蛍光Ｘ線分析
法。 映２、純金属又は合金の複層メッキ被膜
の付着量 に及び／又は組成を定量する方法において、
一層目のメッキ被膜を形成した後、該一層目の のメッ
キ被１侯についての付着量及び／又は組成 性を蛍光Ｘ
、ａｔｔ分析し、次いで二層目のメッキ披 係一層目
のメッキ被膜位置と対応する位置について、一層目のメ
ッキ被膜からの蛍光Ｘ線強度が実質的に最低となる入射
角で励起Ｘ線を照射し、且つ収出角で蛍光Ｘ線強度を測
定すると共にこれら入射角、収出角とは異なる入射角及
び取出角で励起Ｘ線の照射及び蛍光Ｘ線の測定を行い、
これら測定値及び一層目のメッキ被膜についての蛍光Ｘ
線分析結果に基づき二層目のメッキ被膜についての付着
量及び／又は組成を算出することを特徴とする蛍光Ｘ慰
分析法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6981483A JPS59195146A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | メツキ被膜の螢光ｘ線分析法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6981483A JPS59195146A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | メツキ被膜の螢光ｘ線分析法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59195146A true JPS59195146A (ja) | 1984-11-06 |
| JPH056139B2 JPH056139B2 (ja) | 1993-01-25 |
Family
ID=13413601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6981483A Granted JPS59195146A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | メツキ被膜の螢光ｘ線分析法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59195146A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
| JPS61132847A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ２層メツキ被膜の螢光ｘ線分析方法及び装置 |
| US5113421A (en) * | 1988-05-13 | 1992-05-12 | Data Measurement Corporation | Method and apparatus for measuring the thickness of a coating on a substrate |
| WO2012008513A1 (ja) * | 2010-07-15 | 2012-01-19 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線検出方法及び蛍光ｘ線検出装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429843A (en) * | 1977-08-10 | 1979-03-06 | Nippon Steel Corp | Controlling method for composition and thickness of plated multicomponent alloy films |
| JPS5636045A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Quantity determination method for sticking quantity of plating metal and quantity of component in ni-zn alloy-plated steel plate |
-
1983
- 1983-04-19 JP JP6981483A patent/JPS59195146A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429843A (en) * | 1977-08-10 | 1979-03-06 | Nippon Steel Corp | Controlling method for composition and thickness of plated multicomponent alloy films |
| JPS5636045A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Quantity determination method for sticking quantity of plating metal and quantity of component in ni-zn alloy-plated steel plate |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
| JPS61132847A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ２層メツキ被膜の螢光ｘ線分析方法及び装置 |
| JPH0576574B2 (ja) * | 1984-11-30 | 1993-10-22 | Sumitomo Metal Ind | |
| US5113421A (en) * | 1988-05-13 | 1992-05-12 | Data Measurement Corporation | Method and apparatus for measuring the thickness of a coating on a substrate |
| EP0422017B1 (en) * | 1988-05-13 | 1997-09-10 | Dmc Boyle Limited | Method for measuring the thickness of a coating on a substrate |
| WO2012008513A1 (ja) * | 2010-07-15 | 2012-01-19 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線検出方法及び蛍光ｘ線検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH056139B2 (ja) | 1993-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR900008955B1 (ko) | 합금피막의 피막두께 및 조성 측정방법 | |
| St-Onge et al. | Towards quantitative depth-profile analysis using laser-induced plasma spectroscopy: investigation of galvannealed coatings on steel | |
| JPS59195146A (ja) | メツキ被膜の螢光ｘ線分析法 | |
| JPS58223047A (ja) | 螢光ｘ線分析方法 | |
| EP0348574A2 (en) | Method of simultaneously measuring thickness and composition of film and apparatus therefor | |
| JPH0660879B2 (ja) | 被膜の厚みと組成の同時分析法 | |
| Zarrinkhat et al. | Using Terahertz Time-domain Spectroscopy to Measure Coating Thickness on Li-ion Electrodes | |
| JP4302852B2 (ja) | 金属材表面酸化物の測定方法およびｘ線回折装置 | |
| JPS60202339A (ja) | 螢光ｘ線分析方法 | |
| JPS61210932A (ja) | 積層体の螢光ｘ線分析方法及び装置 | |
| JP4513425B2 (ja) | 亜鉛系めっき鋼板のプレス成形性評価方法 | |
| KR20040056207A (ko) | ×선 회절을 이용한 합금화 용융 아연 도금 강판의합금화도 측정 방법 | |
| JPS61132847A (ja) | ２層メツキ被膜の螢光ｘ線分析方法及び装置 | |
| JPS6188128A (ja) | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 | |
| JPH08297106A (ja) | Ｚｎ−Ｍｇ系合金めっき鋼板のめっき付着量及びＭｇ含有率の測定方法 | |
| JPH04131751A (ja) | 蛍光ｘ線分析方法 | |
| JPS62135755A (ja) | 金属材のめつき被膜の定量方法 | |
| JPH02257045A (ja) | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 | |
| JPS60185142A (ja) | グロ−放電分光分析方法 | |
| JPS62129748A (ja) | 金属材のめつき付着量測定方法 | |
| JPS6227651A (ja) | 二層型合金めつき板の定量分析方法 | |
| JP2563016B2 (ja) | 有効波長を用いた蛍光ｘ線分析方法および装置 | |
| JPH0118373B2 (ja) | ||
| JPS6188129A (ja) | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 | |
| JPS62137552A (ja) | 合金メツキ付着量計 |