JPH04131751A - 蛍光x線分析方法 - Google Patents

蛍光x線分析方法

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JPH04131751A
JPH04131751A JP2253921A JP25392190A JPH04131751A JP H04131751 A JPH04131751 A JP H04131751A JP 2253921 A JP2253921 A JP 2253921A JP 25392190 A JP25392190 A JP 25392190A JP H04131751 A JPH04131751 A JP H04131751A
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JP
Japan
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sample
fluorescent
ray
rays
incident
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JP2253921A
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Inventor
Yoshiyuki Kataoka
由行 片岡
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Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Industrial Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、表面層にコーティングや汚染などの付着物
を有する試料にX線を照射し、発生した蛍光X線から試
料の定量分析を行う蛍光X線分析方法に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
た乏えば、めっき鋼板などのように、めっき層と下地金
属の元素か既知である試料については、2種類の取出角
で蛍光X線の強度を測定することにより、めっき層の厚
さを非破壊で自動的に分析することができる(特開昭5
5−24680号公報)。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、研究所などで分析する試料は、付着物の構成元
素か不明である場合もあり、この場合、従来の蛍光X線
分析方法では、試料の分析を行うことができなかった。
また、この種の試料には、構成元素の不明な下地試料に
、さらに構成元素の不明な汚染物質が付着している場合
かあり、このような場合に、試料全体を均質な試料とし
て分析すると、汚染物質を下地試料として分析すること
になり、そのため、誤った分析結果となる。
この発明は上記従来の問題を解決するためになされたも
ので、表面に付着物を有する試料について、それらの構
成元素が不明であっても、試料の定量分析を行うことが
できる蛍光X線分析方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、この発明は、まず、予め、
定性分析法により試料に含まれる元素を定性分析する。
ついで、分析対象とする各元素について、互いに異なる
複数種類の取出角で、それぞれ、蛍光X線の強度を測定
する。この測定後、上記蛍光X線の複数の測定強度に基
づいて、付着物の付着量と、付着物に含まれる各元素の
濃度と、下地試料に含まれる各元素の濃度とを未知数と
して定量演算することにより、試料の定量分析を行う。
〔作用〕
まず、この発明の詳細な説明する。
薄膜中から発生する蛍光X線の理論強度を(1)式に示
す。(1)式は、1次励起のみ示しており、層内におけ
る2次励起および下地層からの2次励起式を省略して示
す。
(以下余白) 1i(Thin)= ・・・山 但し、X=u  (λ) /sinφ+U (λi )
 /sinψに1:1元素スペクトルに対する装置関数
Pi:i元素スペクトルの蛍光X線発生効率Wi:薄膜
層中の1元素濃度 λllI:n  ・入射X線の最短波長λedgei 
 : i元素スペクトルの吸収端波長τ1 (λ);入
射X線の波長λに対する1元素の光電吸収係数 μ(λ):入射X線の波長λに対する試料の質量吸収係
数 μ(λi)・1元素スペクトルに対する試料の質量吸収
係数 φ:入射X線の入射角 ψ:蛍光X線の取出角 D=薄膜層の単位面積当たりの重量 Io (λ):波長λの入射X線の強度ここで、蛍光X
線の発生過程は、大きく分けて次の3つの過程とするこ
とができる。
■入射X線の試料内での吸収、 ■入射X線か原子を励起し蛍光X線を発生させる、 ■発生した蛍光X線が試料表面に到達するまでの試料に
よる吸収。
しかし、付着層のような薄い層では上記■、■による吸
収は少ない。したがって、付着層が非常に薄い場合は、
XD<<1となるので、(1)式は、次式に置き換える
ことができる。
It(Thin)− 一方、下地試料は通常X線的に無限の厚さを育している
と考えることができるので、X線が下地試料中を通過す
る距離が長く、そのため、■、■による吸収の影響が大
きい。
したがって、下地試料を無限厚と考えた場合の理論X線
強度は、(1)式のXD=■と考えることができ、これ
を次式に示す。次式においては、2次励起および付着層
による吸収の項は省略した。
1i(Tbick) = (3)式において、Xは入射X線および蛍光X線の吸収
を表すものであり、そのため、無限厚の試料では、取出
角が小さいほど、吸収(X>が大きくなり、したがって
、試料表面から放出される蛍光X線強度が小さ(なる。
一方、付着層が非常に薄い場合は、(2)式のように、
X線の吸収を無視できるので、試料表面から発生する蛍
光X線強度は、取出角に依存しないことが分かる。した
がって、分析対象とする各元素について、2種類の取出
角によって蛍光X線の強度を測定し、複数の測定強度に
基づいて試料の定量分析を行うことができる。
これを、第2図および第3図を用いて具体的に説明する
第2図のように、厚さ50nmのAIの薄膜10と、第
3図のように、AIか5重量%、Feか95重量%の無
限厚の試料11について、それぞれ、第1の入射角φ1
−20°で入射X線B1を照射した場合に、第1の取出
角ψ1=lO°で得られる蛍光X !B2の理論X線強
度■1を表1に示す。また、薄膜10および試料11に
、第2の入射角φ2=60°で入射X線B1を照射した
場合に、第2の取出角ψ2−70°で得られる蛍光X線
B2の理論X線強度I2を表1に示す。
なお、計算には2次励起も考慮し、装置関数を140と
して計算した。
表1 表1の数値から分かるように、薄膜lOでは、入射角お
よび取出角を変えても、理論X線強度1112が殆ど変
化せず、たとえば、12/Il =1.0253となる
。一方、無限厚の試料11の場合は、入射角および取出
角を変えることによって、理論X線強度It、 12か
大きく変化し、たとえば、+2/+1−4、9135に
なる。このように、試料の厚さによって、12/Ifの
値か大きく異なり、かつ、薄膜の場合は12/11. 
#1.0であることから、この強度比の関係を利用する
ことにより、試料の定量分析を行うことかできる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面にしたがって説明する
第1図において、試料20は、2nが50重量%、Fe
が50重量%の下地層(下地試料)21に、200nm
のZnの付着層(付着物)22を有する。
まず、試料20に図示しないX線を照射し、ゴニオメー
タおよび分光結晶を用いて、周知の定性分析を行う。こ
れにより、試料20中にはlnとFeか含まれているこ
とが分かる。
ついで、下地層21からも蛍光X線B2か検出される程
度の第1の入射角φ1−20°で、入射X線旧を試料2
0に照射するとともに、第1の取出角ψ1−to″で蛍
光X線B2の第1の強度を測定する。上記第1の強度の
測定後、上記第1の入射角φ1よりも大きな第2の入射
角φ2=60°で入射X線B1を試料20に照射すると
ともに、第1の取出角φlよりも大きな第2の取出角ψ
2=70°で蛍光X線B2の第2の強度を測定する。
上記蛍光X線Bl、 B2の測定においては、分析対象
とする元素(Fe、7.n)についで波長の異なるスペ
クトルを測定する。たとえばZnの場合には、znKa
線とZnLa線を測定する。
ここで、試料20は、付着層22の厚さ(付着量)、付
着層22および下地層2〕の各元素(Zrr、Fe)の
濃度の3つの未知数を含んでいる。したかって、Feに
ついても、両人射角φ1.φ2および両爪出角ψ1.ψ
2で蛍光X線B2の強度を測定する。
表2に、試料20からのZnKa線とZnLa線の理論
X線強度11.12を示す。なお、計算には2次励起も
考慮し、装置関数を1.0として計算した。
(以下余白) 表2 一方、2nの付着層22のみによる理論X線強度11■
2を表3に示す。なお、計算には2次励起も考慮し、装
置関数を10として計算した。
表3 ここで、表2、表3のZnKa線の理論X線強度に着目
すると、仮に試料20の下地層21にZnを含んでいな
ければ、表2の12/41(試料20の蛍光X線の強度
比)は1.0に近い値、この場合、表3の1、0158
に近い値になるはずである。しかし、実際のznKa線
の強度比12/Itは3.9872になる。したがって
、この関係から、2nが下地層21にどの程度含まれて
いるかが分かるので、各元素(Zn、 Fe)について
2種類の入射角φ1.φ2および取出角ψ1.ψ2によ
って蛍光X線B2の強度を測定し、複数の測定強度に基
づいて試料の定量分析を行うことができる。
ところで、この実施例のように、付着層22および下地
層21の双方に同一の元素、たとえばZnを含んでいる
場合は、1つの蛍光X!82についての測定のみでは、
十分な精度が得られない場合がある。
そこで、より正確な分析を行うには、前述のように、同
一の元素について波長の異なるznKα線およびZnL
a線を測定する。
上記ZnKa線およびZnLa線の波長は、それぞれ、
0.14364nmおよび1.2254nmである。Z
nK a線は波長が短いので分析深さが深く、そのため
、この実施例のように、下地層21に多くのZnが含ま
れている場合は、大きな第2の入射角φ2および取出角
ψ2で測定することにより、ZnKa線の蛍光X線の強
度か表2のように著しく大きくなる。この結果、下地層
21のlnの比率が高いことか分かる。
これに対し、ZnLa線は波長が長いので分析深さが浅
く、そのため、大きな第2の入射角φ2および取出角φ
2で測定しても、ZnLa線の強度が表2のように差程
大きくならない。この結果、付着層22にもznが含ま
れていることが分かる。
ところで、付着層22におけるX線の吸収・励起、下地
層21中における吸収・励起および付着層22による吸
収、さらに同一元素が付着層22と下地層21のいずれ
にも存在する場合など蛍光X線の発生過程は複雑であり
、この分析には、周知のファンダメンタルパラメータ法
による定量演算法が適している。以下、ファンダメンタ
ルパラメータ法による分析処理方法例を示す。
まず、定量演算処理には、各元素について、異なる入射
角および取出角、異なるスペクトルで測定されたX線強
度を用いる。以下の定量演算では、元素の所在の未知な
元素について、付着層22と下地層21のいずれにも存
在する場合についての処理を説明する。なお、付着層2
2のみに存在する元素は、下地層21の濃度は0%とし
て得られる。
つぎに、ファンダメンタルパラメータ法による定量演算
手順を説明する。
(11測定して得られた各X線強度を、各条件(他の既
知の元素)で予め求めておいた弐m(3)の装置関数を
用いて、理論強度スケールに変換する。
(2+、 (11で求めた換算測定強度から、付着層2
2および下地層21の付着量と組成の初期値を求める。
この初期値については、予め決めた値を用いてもよい。
(3)、前回求めた、付着層22の付着量と組成および
下地層21の組成から、各条件、各スペクトルに対応す
る理論強度を計算する。
+41. (2)で求めた換算測定強度と(3)で求め
た理論強度から、付着@22の付着量と、付着層22の
各元素の濃度と、下地層21の各元素の濃度を未知数と
する連立方程式により、これらの値、つまり付着量と組
成の近似演算をする。
(5)、前回の付着量および組成と(4)で求めた付着
量および組成の収束チエツクをする。収束とみなされな
い場合は、(3)に戻り繰り返し演算をする。
収束とみなされる場合は次の(6)へ進む。
+61. (4)で得られた最終の付着層22の付着量
と組成、および下地層21の組成を分析結果とする。
なお、上記実施例では、取出角ψl、ψ2の他に、入射
角φ1.φ2も変化させたが、(2)式のXの値の変化
は、通常、取出角による寄与が大半を占め、入射角の影
響は少なく、これに伴い蛍光X線B2の強度1iが変化
するので、少なくとも2種類の取出角ψl、ψ2で各元
素について蛍光X!82の強度を測定すればよい。また
、取出角ψl、ψ2のみを変える場合は、装置が簡単に
なる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、分析対象とす
る各元素について、2つの取出角で蛍光X線の強度を測
定するから、この測定強度に基づいて試料の定量分析を
行うことができ、この定量分析に先だって、予め定性分
析法により試料に含まれる元素を定性分析し、さらに、
定量分析に際し、付着物の付着量と、付着物および下地
試料の各元素の濃度とを未知数として定量演算するので
、対象元素が付着層に存在するか、下地試料に存在する
かを判別できるとともに、試料に未知な元素が付着して
いても、あるいは、未知な元素が付着層および下地試料
に存在していても、分析結果に誤差が生じにくい。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の蛍光X線分析方法を示す断面図、第
2図はこの発明の原理を示すA1薄膜についての断面図
、第3図は同AIとFeの無限厚の試料についての断面
図である。 20・・試料、21・・・下地試料、22・・・付着物
、B1・・・入射X線、B2・・・蛍光X線、ψl、ψ
2・・・取出角。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面に付着物を有する試料を蛍光X線を用いて定
    量分析する蛍光X線分析方法であって、予め、定性分析
    法により試料に含まれる元素を定性分析し、分析対象と
    する各元素について、互いに異なる複数種類の取出角で
    、それぞれ、蛍光X線の強度を測定し、上記蛍光X線の
    複数の測定強度に基づいて、付着物の付着量と、付着物
    に含まれる各元素の濃度と、下地試料に含まれる各元素
    の濃度とを未知数として定量演算することにより試料の
    定量分析を行う蛍光X線分析方法。
JP2253921A 1990-09-22 1990-09-22 蛍光x線分析方法 Pending JPH04131751A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5430786A (en) * 1992-12-04 1995-07-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Element analyzing method
JP2006119108A (ja) * 2004-09-24 2006-05-11 Fujitsu Ltd 分析装置及び検査方法
JP2008304405A (ja) * 2007-06-11 2008-12-18 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置およびその方法

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