JPS59178617A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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-
- G—PHYSICS
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-
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体、特にいわゆる斜め蒸着法によ
る連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法
に関する。
る連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法
に関する。
先行技術とその問題点
ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
プ化して巻回したときのコンパクト性から、連続薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
このような連続薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ −Ｎ ｉ
系等の柱状結晶の集合体からなる蒸着膜が好適である０ そして、斜め蒸着の際の雰囲気中に、多量の酸素ガスを
導入して蒸着を行い、柱状結晶の表面を酸化物層で被う
（特公昭５６−２３２０８号公報等）と、電磁変換特性
が向上し、走行耐久性が向上し、より好ましい結果をう
るＯこのような場合、ｃｏＮｔ系では、導入酸素量を増
大し、酸化物層を多くすると、走行耐久性は向上するが
、高密度記録媒体として大切な特性である保磁力が減少
する０このため、導入酸素量を増大して、しかも保磁力
をある程度以上に維持するためには、斜め蒸着の際の、
基体法線に対する入射角を大きくする必要があるＯしか
し、このようなときには、蒸着効率が激減し、経済性の
点で不十分となる０ また、膜密度が減少して、耐食性
に欠けることになる。
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆ
る斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ −Ｎ ｉ
系等の柱状結晶の集合体からなる蒸着膜が好適である０ そして、斜め蒸着の際の雰囲気中に、多量の酸素ガスを
導入して蒸着を行い、柱状結晶の表面を酸化物層で被う
（特公昭５６−２３２０８号公報等）と、電磁変換特性
が向上し、走行耐久性が向上し、より好ましい結果をう
るＯこのような場合、ｃｏＮｔ系では、導入酸素量を増
大し、酸化物層を多くすると、走行耐久性は向上するが
、高密度記録媒体として大切な特性である保磁力が減少
する０このため、導入酸素量を増大して、しかも保磁力
をある程度以上に維持するためには、斜め蒸着の際の、
基体法線に対する入射角を大きくする必要があるＯしか
し、このようなときには、蒸着効率が激減し、経済性の
点で不十分となる０ また、膜密度が減少して、耐食性
に欠けることになる。
更に大量に導入した酸素により、ルツボ内の溶融金属の
酸化あるいは、真空系のトラブル等の問題が生じる。
酸化あるいは、真空系のトラブル等の問題が生じる。
すなわち、従来の斜め蒸着法による媒体では、十分な電
磁変換特性、走行耐久性、製造に除し２ての経済性およ
び耐食性をすべて満足するものは実現していない。
磁変換特性、走行耐久性、製造に除し２ての経済性およ
び耐食性をすべて満足するものは実現していない。
＝６−
ＩＩ 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、保磁力、磁束量、角形比等の磁気
特性が高く、電磁変換特性が高く、しかも走行耐久性に
すぐれ、また、製造に際して経済性にすぐれ、さらに耐
食性の高い磁性層を有する斜め蒸着法を用いた磁気記録
媒体の製造方法を提供することにある。
、その主たる目的は、保磁力、磁束量、角形比等の磁気
特性が高く、電磁変換特性が高く、しかも走行耐久性に
すぐれ、また、製造に際して経済性にすぐれ、さらに耐
食性の高い磁性層を有する斜め蒸着法を用いた磁気記録
媒体の製造方法を提供することにある。
このような目的は、以下の発明によって達成される。
本発明は、
非磁性の基体上に、基体主面の法線に対して２０°以上
の入射角にて金属原子を入射させて蒸着を行い、ｃｏ、
またはＣＯならびにＮｉおよび／もしくはＣｒを含む柱
状結晶粒の集合体からなる磁性薄膜を形成し、次いで、
この磁性薄膜を、電気化学的処理法によシ強制的に酸化
し、磁性薄膜の柱状結晶粒の表面に酸化物層を形成して
磁性層とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
である。
の入射角にて金属原子を入射させて蒸着を行い、ｃｏ、
またはＣＯならびにＮｉおよび／もしくはＣｒを含む柱
状結晶粒の集合体からなる磁性薄膜を形成し、次いで、
この磁性薄膜を、電気化学的処理法によシ強制的に酸化
し、磁性薄膜の柱状結晶粒の表面に酸化物層を形成して
磁性層とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
である。
＝４＝
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明においては、まず、いわゆる斜め蒸着法によって
、所定の組成の磁性薄膜を基体上に形成する。
、所定の組成の磁性薄膜を基体上に形成する。
磁性薄膜はＣｏを主成分とし、これに必要に応じＮｉお
よび／またはＣｒが含有される。
よび／またはＣｒが含有される。
すなわち、ｃｏ単独からなってもよく、ＣＯとＮｉから
なってもよいｏＮｉが含まれる場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量
比は、１．５以上である。
なってもよいｏＮｉが含まれる場合、Ｃｏ／Ｎｉの重量
比は、１．５以上である。
さらに、磁性薄膜中には、Ｃｒが含有されていてもよい
６、 Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。
６、 Ｃｒが含有されると、電磁変換特性が向上し、出力およ
びＳ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度も向上する。
このような場合、Ｃｒ／ＣＯあるいはＣｒ／（Ｃｏ＋Ｎ
ｉ）の重量比は０．００１〜０，１、より好ましくは０
． ＯＯ５〜０，０５であることが好ましい。
ｉ）の重量比は０．００１〜０，１、より好ましくは０
． ＯＯ５〜０，０５であることが好ましい。
なお、このような磁性薄膜中には、さらに他の微量成分
、特に遷移元素、例えばＦｅ、Ｍｎ。
、特に遷移元素、例えばＦｅ、Ｍｎ。
Ｖ＋Ｚｒ＋Ｎｂ１ＴａｌＴｉ ｌＺｎ１Ｍ０．Ｗ。
Ｃｕ等が含まれていてもよい０
このような成分からなる磁性薄膜は、斜め蒸着法によっ
て形成される０ この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２Ｏ２以上とされる。
て形成される０ この場合、基体法線に対する、蒸着物質の入射角の最小
値は、２Ｏ２以上とされる。
入射角が２Ｏ２未満となると、所望の電磁変換特性が得
られない。
られない。
なお、これ以外の蒸着条件には特に制限はない○
すなわち、蒸着雰囲気は、通常と同様、アルゴン、ヘリ
ウム、真空等の不活性雰囲気とし、１０−５〜１００
Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基体搬送方向、
マスクの配置等は公知の条件と同様にすればよい。
ウム、真空等の不活性雰囲気とし、１０−５〜１００
Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、基体搬送方向、
マスクの配置等は公知の条件と同様にすればよい。
このような斜め蒸着法によシ、基体上には、上記しだＣ
ｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体からなる磁性薄膜
が形成される。
ｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体からなる磁性薄膜
が形成される。
この場合、磁性薄膜の厚さは、０．０５〜０．５μｍ）
好ましくは、０．０７〜０．６μｍとされる。
好ましくは、０．０７〜０．６μｍとされる。
そして、柱状の結晶粒は、薄膜の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０°の範囲にて傾斜している。
亘る長さをもち、その長手方向は、基体の主面の法線に
対して、１０〜７０°の範囲にて傾斜している。
また、結晶粒の短径は、５０〜５００八程度の長さをも
つ。
つ。
このような磁性薄膜を形成する基体は、非磁性のもので
ありさえすれば、特に制限はなく、特に、可とり性の基
体、特にポリエステル）ポリイミド等の樹脂製のもので
あることが好ましい。
ありさえすれば、特に制限はなく、特に、可とり性の基
体、特にポリエステル）ポリイミド等の樹脂製のもので
あることが好ましい。
また、その厚さは、種々のものであってよいが、特に５
〜２０μｍであることが好ましい。
〜２０μｍであることが好ましい。
そして、その磁性薄膜形成面の裏面の表面あらさ高さの
ＲＭＳ値は、０．０５μｍ以上であることが好ましい。
ＲＭＳ値は、０．０５μｍ以上であることが好ましい。
これによシ、電磁変換特性が向上する。
なお、基体と磁性薄膜との間には、必要に応７−
じ、各種下地層を介在させることもできる０このような
磁性薄膜を形成したのち、この磁性薄膜は、電気化学的
処理法により強制的に酸化され、その後、洗浄・加熱乾
燥の工程にまわされる。
磁性薄膜を形成したのち、この磁性薄膜は、電気化学的
処理法により強制的に酸化され、その後、洗浄・加熱乾
燥の工程にまわされる。
電気化学的処理法としては、陽極酸化法、電位ＰＨ図を
利用した方法等がある○処理温度は１０〜９５℃が好ま
しく、また、処理時間は０．１分〜６０分が好ましい０ このような工程を経てＣＯｌまたはＣＯならびにＮｉお
よび／もしくはＣｒを含み、 Ｏ／（ＣｏまたはＣｏ
＋ Ｎ ｉ ）の原子比が、好ましくは０．１〜０．
５のＯを含み、好ましくは０．０５〜０．５μｍ１よシ
好ましくは０．０７〜０．３μｍの厚さをもつ磁性層が
形成される０ なお、もし必要であれば、このような磁性層上に、各種
最上層保護層を形成することもできる０ ８− ■ 発明の具体的作用効果 本発明による磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ用
等の媒体として有用である。
利用した方法等がある○処理温度は１０〜９５℃が好ま
しく、また、処理時間は０．１分〜６０分が好ましい０ このような工程を経てＣＯｌまたはＣＯならびにＮｉお
よび／もしくはＣｒを含み、 Ｏ／（ＣｏまたはＣｏ
＋ Ｎ ｉ ）の原子比が、好ましくは０．１〜０．
５のＯを含み、好ましくは０．０５〜０．５μｍ１よシ
好ましくは０．０７〜０．３μｍの厚さをもつ磁性層が
形成される０ なお、もし必要であれば、このような磁性層上に、各種
最上層保護層を形成することもできる０ ８− ■ 発明の具体的作用効果 本発明による磁気記録媒体は、ビデオ用、オーディオ用
等の媒体として有用である。
そして、本発明による媒体は、保磁力、磁束量、角形比
等の磁気特性が高く、電磁変換特性が高い。
等の磁気特性が高く、電磁変換特性が高い。
また、走行摩擦が小さく、走行耐久性が高い。
さらに、蒸着入射角の最小値を低い値に保てるので、蒸
着効率が高く、経済性にすぐれる。
着効率が高く、経済性にすぐれる。
加えて、耐湿性、耐酸化性等の耐食性が高いＯ■ 発明
の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
実施例１
Ｃｏ ／ Ｎ ｉの重量比が４である合金を用い、１２
μｍ厚のポリエチレンテレ７タレー） （ＰＥＴ）フィ
ルム上に、斜め蒸着法によ、？、０．２μｍ厚の磁性薄
膜を形成した。
μｍ厚のポリエチレンテレ７タレー） （ＰＥＴ）フィ
ルム上に、斜め蒸着法によ、？、０．２μｍ厚の磁性薄
膜を形成した。
フィルムは、ルツボに対し斜めに連続搬送し、蒸着物質
の入射角は４０°とした。
の入射角は４０°とした。
また、雰囲気は、Ｐ Ａ ｔ ＝ ２ Ｘ １０ ’
Ｐ ａとした。
Ｐ ａとした。
得られた磁性薄膜は、Ｃｏ／Ｎ１＝４（重量比）であり
、基体主面の法線に対し、約３０゜傾斜した、短径１０
０Ａの、厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶粒の集
合体であった０次いでこのサンプルの金属面に電極を設
は陽極としｓ Ｎａｆｌ Ｏ，１Ｗ／ｌ ｔ Ｈ２ＳＯ
４０，２ｒ／ ｔを乙 加えた５％クロム液中に浸漬し、電流密度０．３Ａ／ｄ
ｉで酸化処理を施した。なお、液温は４０℃、陰極はス
テンレス板を用いた０酸化処理後、イオン交換水、アル
コールで洗浄し、乾燥機中で加熱乾燥してサンプルＡ１
を得た。
、基体主面の法線に対し、約３０゜傾斜した、短径１０
０Ａの、厚さ方向全域に亘って成長した柱状結晶粒の集
合体であった０次いでこのサンプルの金属面に電極を設
は陽極としｓ Ｎａｆｌ Ｏ，１Ｗ／ｌ ｔ Ｈ２ＳＯ
４０，２ｒ／ ｔを乙 加えた５％クロム液中に浸漬し、電流密度０．３Ａ／ｄ
ｉで酸化処理を施した。なお、液温は４０℃、陰極はス
テンレス板を用いた０酸化処理後、イオン交換水、アル
コールで洗浄し、乾燥機中で加熱乾燥してサンプルＡ１
を得た。
サンプルＡ１につき、オージェ分光分析およびＥＳＣＡ
を行い、深さ方向に、ＣＯおよびＯの濃度プロファイル
をとったところ、表面に酸素が多く、内部に少なく、シ
かもＯはケミカルシフトして、金属と結合した形をとっ
ておシ、結晶粒表面に存在していることが確認された。
を行い、深さ方向に、ＣＯおよびＯの濃度プロファイル
をとったところ、表面に酸素が多く、内部に少なく、シ
かもＯはケミカルシフトして、金属と結合した形をとっ
ておシ、結晶粒表面に存在していることが確認された。
これに対し、Ｃｏ ／ Ｎ ｉ＝ ４の合金を、ＰＡｒ
＝ ２Ｘ １Ｏ−２Ｐａ ＋ ＰＯ４−３Ｘ １０
−２Ｐａの雰囲気にて、上記と同一の条件で斜め蒸着を
行い、０．２μｍ厚の磁性層を形成し、サンプルＡＯを
得たところ、断面写真、オージェ分光分析、ＥＳＣＡの
結果から、サンプルＡＩ、Ａ２とほぼ同一であった。
＝ ２Ｘ １Ｏ−２Ｐａ ＋ ＰＯ４−３Ｘ １０
−２Ｐａの雰囲気にて、上記と同一の条件で斜め蒸着を
行い、０．２μｍ厚の磁性層を形成し、サンプルＡＯを
得たところ、断面写真、オージェ分光分析、ＥＳＣＡの
結果から、サンプルＡＩ、Ａ２とほぼ同一であった。
これらサンプルＡＯＩＡＩにつき、静磁気特性を測定し
た、・保磁力Ｈｅ ＋ Ｈｍａｘ ＝ ５００００ｅで
のｌ ｃｒ／Ｉあたりの磁束量△ｆｍ１および角形比を
表１に示す。
た、・保磁力Ｈｅ ＋ Ｈｍａｘ ＝ ５００００ｅで
のｌ ｃｒ／Ｉあたりの磁束量△ｆｍ１および角形比を
表１に示す。
また、６０℃、相対湿度９０チにて３日間放置し、１ａ
ｔｌあたりの磁束量変化△！！ｍを測定し、耐食性を評
価したところ、表１に示される結果をえた。
ｔｌあたりの磁束量変化△！！ｍを測定し、耐食性を評
価したところ、表１に示される結果をえた。
１１−
表 １
０／（Ｃｏ＋Ｎｉ ） ０．１５ ０．０
５（原子比） Ｈｃ （Ｏｅ） ８５０ ６００＄ｍ
９ｘ１０３ ８ｘ１０−３（ｅｍｕ
／ｒ、Ａ） 角 形 比 ０．８５ ０．７
耐 食 性 ２６ Δ＄ｍ（％） 表１に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る０ なお、サンプルＡ１は走行摩擦が、Ｊ−さく、実用走行
に十分耐えることが確認された０１２一 実施例２ Ｃｏ／Ｎｉ／Ｃｒ−７５／２０１５の合金を用い、ｐＡ
ｒ＝ ２Ｘ１０−２Ｐａｓ入射角４５°にて斜め蒸着を
行い、ＰＥＴ１２μｍ上に０．２μｍ厚の磁性薄膜をえ
た。実施例１と同じ手法によシ酸化処理を施し、サンプ
ルＢ１を得たＯこれらの断面写真、オージェ分光分析、
ＥＳＣＡの結果から、法線に対し３５°傾斜した、短径
２００Ａの厚さ方向全域に亘って成長した柱状粒子から
なシ、０はその表面に存在していることが確認された。
５（原子比） Ｈｃ （Ｏｅ） ８５０ ６００＄ｍ
９ｘ１０３ ８ｘ１０−３（ｅｍｕ
／ｒ、Ａ） 角 形 比 ０．８５ ０．７
耐 食 性 ２６ Δ＄ｍ（％） 表１に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る０ なお、サンプルＡ１は走行摩擦が、Ｊ−さく、実用走行
に十分耐えることが確認された０１２一 実施例２ Ｃｏ／Ｎｉ／Ｃｒ−７５／２０１５の合金を用い、ｐＡ
ｒ＝ ２Ｘ１０−２Ｐａｓ入射角４５°にて斜め蒸着を
行い、ＰＥＴ１２μｍ上に０．２μｍ厚の磁性薄膜をえ
た。実施例１と同じ手法によシ酸化処理を施し、サンプ
ルＢ１を得たＯこれらの断面写真、オージェ分光分析、
ＥＳＣＡの結果から、法線に対し３５°傾斜した、短径
２００Ａの厚さ方向全域に亘って成長した柱状粒子から
なシ、０はその表面に存在していることが確認された。
これらの結果を表２に示す０
表 ２
サンプル Ｂ１
（原子比）
ＨＣ（ｏｅ） ９００
＄ｍ ８０ Ｘ １０１０−３（ｅ／
ｃｄ） 角 形 比 ０．９５耐 食
性 ０△ｆｍ（％） 表２に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
ｃｄ） 角 形 比 ０．９５耐 食
性 ０△ｆｍ（％） 表２に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
なお、サンプルＢ１は、走行摩擦が小さく、実用走行に
十分耐えることが確認された。
十分耐えることが確認された。
１５−
１０７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性の基体上に、基体主面の法線に対して２Ｏ２
以上の入射角にて金属原子を入射させて蒸着を行い、０
０％またはＣｏならびにＮｉおよび／もしくはＣｒを含
む柱状結晶粒の集合体からなる磁性薄膜を形成し、次い
で、この磁性薄膜を、電気化学的処理法によシ、強制的
に酸化し、磁性薄膜の柱状結晶粒の表面に酸化物層を形
成して磁性層とすることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 ２、磁性層がＮｉを含み、Ｃｏ ／ Ｎ ｉの重量比が
１．５以上である特許請求の範囲第１項に記載のＣｏ＋
Ｎｉ）の重量比が０．００１〜０．１である特許請求の
範囲第１項または第２項に記載の磁原子比が０．１〜０
．５である特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれ
かに記載の磁気記録媒請求の範囲第１項ないし第４項の
いずれかに記
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054797A JPS59178617A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/588,890 US4540600A (en) | 1983-03-30 | 1984-03-12 | Process for producing a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054797A JPS59178617A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59178617A true JPS59178617A (ja) | 1984-10-09 |
Family
ID=12980740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58054797A Pending JPS59178617A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4540600A (ja) |
| JP (1) | JPS59178617A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6398824A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2662777B2 (ja) * | 1985-04-15 | 1997-10-15 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| FR2584847B1 (fr) * | 1985-07-15 | 1987-10-16 | Bull Sa | Support d'enregistrement perpendiculaire magnetiquement anisotrope |
| JPS6282516A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスクの製造法 |
| US4833031A (en) * | 1986-03-20 | 1989-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS6326827A (ja) * | 1986-07-21 | 1988-02-04 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH06150289A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US20050244680A1 (en) * | 2004-05-03 | 2005-11-03 | Imation Corp. | Environmentally stable metal-evaporated recording media |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1599161A (en) * | 1976-07-15 | 1981-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium and method of making the same |
| US4350574A (en) * | 1981-03-23 | 1982-09-21 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method for depositing an oxide coating |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP58054797A patent/JPS59178617A/ja active Pending
-
1984
- 1984-03-12 US US06/588,890 patent/US4540600A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6398824A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4540600A (en) | 1985-09-10 |
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