JPS5915908A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
- Publication number
- JPS5915908A JPS5915908A JP57125420A JP12542082A JPS5915908A JP S5915908 A JPS5915908 A JP S5915908A JP 57125420 A JP57125420 A JP 57125420A JP 12542082 A JP12542082 A JP 12542082A JP S5915908 A JPS5915908 A JP S5915908A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dyed
- dyeing
- layer
- photoresist
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は固体撮像素子に用いるオンチップのカラーフィ
ルタの製造方法に係り、特に染色の際のＰＲ工程が従来
よシも少ない回数で製造出来る分割形のカラーフィルタ
の製造方法に関する。
ルタの製造方法に係り、特に染色の際のＰＲ工程が従来
よシも少ない回数で製造出来る分割形のカラーフィルタ
の製造方法に関する。
本発明に先行する、この種のカラーフィルタの製造方法
は、例えば特願昭５６７１００８０８８１０号に開示の
とと（、ＭＯＳ型もしくはＣＣＤ型の固体撮像素子基板
のポンディングパッド部およびスクライプ線を除く領域
に染色樹脂のパターンを形成し、その上に金属層のパタ
ーンを形成し、次に第１の染色領域以外の領域に第１の
フォトレジストのパターンを形成し、例えば緑（Ｑの第
１の染色領域の染色を行ない、以下同様な方法によシ、
赤（８）、緑（Ｑ、青（Ｂ）の３色の染色を行なうもの
である。この先行技術のカラーフィルタの製造方法では
、３つの染色領域を染色するために３回のＰＲ工程を要
し、また、カラーフィルタ製造のために５回のＰＲ工程
を要するため、工程が長く複雑になるという欠点を有す
る。
は、例えば特願昭５６７１００８０８８１０号に開示の
とと（、ＭＯＳ型もしくはＣＣＤ型の固体撮像素子基板
のポンディングパッド部およびスクライプ線を除く領域
に染色樹脂のパターンを形成し、その上に金属層のパタ
ーンを形成し、次に第１の染色領域以外の領域に第１の
フォトレジストのパターンを形成し、例えば緑（Ｑの第
１の染色領域の染色を行ない、以下同様な方法によシ、
赤（８）、緑（Ｑ、青（Ｂ）の３色の染色を行なうもの
である。この先行技術のカラーフィルタの製造方法では
、３つの染色領域を染色するために３回のＰＲ工程を要
し、また、カラーフィルタ製造のために５回のＰＲ工程
を要するため、工程が長く複雑になるという欠点を有す
る。
本発明の目的は、上記の欠点を解決した、カラーフィル
タの製造方法を提供するものである。
タの製造方法を提供するものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、ＭＯＳ型もしく
はＣＣＤ型の固体撮像素子基板のポンディングパッド部
およびスクライプ線を除く領域に染色樹脂のパターンを
形成し、その上に金属層のパターンを形成し、次に第１
のフォトレジストのパターンを形成し、第１の染色領域
の染色を行なった後第１の染色マスク層を形成した後リ
フトオフ法によシ第１のフォトレジストを剥離すると同
時に第１の染色マスク層を部分的に除去し、第１の染色
領域のみに第１の染色マスク層を残す。次に同様に第２
の染色領域を形成し、第２の染色領域のみに第２の染色
マスク層を残す。次に金属層および第１の染色マスク層
および第２の染色マスク層をマスクとして第３の染色領
域を染色する。
はＣＣＤ型の固体撮像素子基板のポンディングパッド部
およびスクライプ線を除く領域に染色樹脂のパターンを
形成し、その上に金属層のパターンを形成し、次に第１
のフォトレジストのパターンを形成し、第１の染色領域
の染色を行なった後第１の染色マスク層を形成した後リ
フトオフ法によシ第１のフォトレジストを剥離すると同
時に第１の染色マスク層を部分的に除去し、第１の染色
領域のみに第１の染色マスク層を残す。次に同様に第２
の染色領域を形成し、第２の染色領域のみに第２の染色
マスク層を残す。次に金属層および第１の染色マスク層
および第２の染色マスク層をマスクとして第３の染色領
域を染色する。
染色マスク層としてシリカフィルム、シランカップリン
グ剤、有機材料を用いた場合は第３の領域を・染色後完
了する。染色マスク層として金属（アルミ、クロムなど
）を用いた場合には第３の領域を染色後第１および第２
の染色マスク層をエツチング除去する。
グ剤、有機材料を用いた場合は第３の領域を・染色後完
了する。染色マスク層として金属（アルミ、クロムなど
）を用いた場合には第３の領域を染色後第１および第２
の染色マスク層をエツチング除去する。
本発明のカラーフィルタの製造方法を用いれば、第３の
染色領域を染色する際に、フォトレジスト工程を要しな
いため、先行技術のカラーフィルタの製造方法よシも１
回少ないＰＲ工程で製造出来るため、工程が短かくなる
という大きな利点を有する。
染色領域を染色する際に、フォトレジスト工程を要しな
いため、先行技術のカラーフィルタの製造方法よシも１
回少ないＰＲ工程で製造出来るため、工程が短かくなる
という大きな利点を有する。
次に、本発明を図面を用いて説明する。
まス、従来のカラーフィルタの製造方法を第１図（ａ）
〜（ｄ）を参照して説明する。まず、第１図（ａ）に示
すごとく、ＭＯＳ型もしくはＣＣＤ型の固体撮像素子基
板１のポンディングパッドおよびスクライプ線を除く領
域に染色樹脂層２を形成し、その上から金属層３のパタ
ーンを形成する。次に第１図（ｂ）に示すごとく、第１
の７オトレジスト４のパターンを形成し、金属層３とフ
ォトレジスト４をマスクとして例えば緑（５）の第１の
染色領域５を染色する。次に第１図（Ｃ）に示すごとく
、第１の７オトレジスト４を全面除去し、第２の７オト
レジスト６のパターンを形成し、金属層３と第２のフォ
トレジスト６をマスクとして例えば赤（８）の第２の染
色領域７を染色する。次に第２図（ｄ）Ｋ示すごとく第
２のフォトレジスト６を全面除去し、第３のフォトレジ
スト８のパターンを形成し、金属層３と第３のフォトレ
ジスト８をマスクとして例えば青（Ｂ）の第３の染色領
域９を染色する。
〜（ｄ）を参照して説明する。まず、第１図（ａ）に示
すごとく、ＭＯＳ型もしくはＣＣＤ型の固体撮像素子基
板１のポンディングパッドおよびスクライプ線を除く領
域に染色樹脂層２を形成し、その上から金属層３のパタ
ーンを形成する。次に第１図（ｂ）に示すごとく、第１
の７オトレジスト４のパターンを形成し、金属層３とフ
ォトレジスト４をマスクとして例えば緑（５）の第１の
染色領域５を染色する。次に第１図（Ｃ）に示すごとく
、第１の７オトレジスト４を全面除去し、第２の７オト
レジスト６のパターンを形成し、金属層３と第２のフォ
トレジスト６をマスクとして例えば赤（８）の第２の染
色領域７を染色する。次に第２図（ｄ）Ｋ示すごとく第
２のフォトレジスト６を全面除去し、第３のフォトレジ
スト８のパターンを形成し、金属層３と第３のフォトレ
ジスト８をマスクとして例えば青（Ｂ）の第３の染色領
域９を染色する。
この従来のカラーフィルタの製造方法においては例えば
Ｇ、Ｒ，Ｂの３つの染色領域を染色するために、３回の
フォトマスク工程を要する。このため、プロセス工程が
長く複雑になるという大きな問題が存在した。
Ｇ、Ｒ，Ｂの３つの染色領域を染色するために、３回の
フォトマスク工程を要する。このため、プロセス工程が
長く複雑になるという大きな問題が存在した。
次に本発明のカラーフィルタの製造方法の実施例／＆に
ついて、第２図（、）〜（ｈ）を参照して説明する。
ついて、第２図（、）〜（ｈ）を参照して説明する。
まず第２図（ａ）に示すとと（、ＭＯＳ型もしくはＣＣ
Ｄ型の固体撮像素子基板１のポンプイングツくラドおよ
びスクライプ線を除く領域に染色樹脂層２を形成し、そ
の上に金属層３のパターンを形成する。次に第２図（ｂ
）に示すごとく、第１のフォトレジスト４のパターンを
形成し、金属層３と第１のフォトレジスト４をマスクと
して、例えば縁日の第１の染色領域５を染色する。次に
第２図（Ｃ）に示すごとく第１の染色マスク層１０を形
成する。次に第２図（ｄ）に示すごとく、リフトオフ法
により第１のフォトレジスト４を全面除去することによ
シ同時に、第１の染色マスク層１０を部分的に除去する
。次に第２図（ｅ）に示すごとく、第２のフォトレジス
ト６のパターンを形成し、金属層３と第１の染色マスク
層１０と第２のフォトレジスト６をマスクとして、例え
ば青（坊の第２の染色領域７を染色する。次に第２図（
ｆ）に示すごとく、第２の染色マスク層１１を形成する
。次に第２図（ｇ）に示すごとく、リフトオフ法によシ
第２のフォトレジスト６を全面除去することによシ同時
Ｋ、第２の染色マスク層１１を部分的に除去する。次に
第２図（ｈ）に示すごとく、金属層３および第１の染色
マスク層１０および第２の染色マスク層１１をマスクと
して例えば赤（６）の第３の染色領域９を染色する。
Ｄ型の固体撮像素子基板１のポンプイングツくラドおよ
びスクライプ線を除く領域に染色樹脂層２を形成し、そ
の上に金属層３のパターンを形成する。次に第２図（ｂ
）に示すごとく、第１のフォトレジスト４のパターンを
形成し、金属層３と第１のフォトレジスト４をマスクと
して、例えば縁日の第１の染色領域５を染色する。次に
第２図（Ｃ）に示すごとく第１の染色マスク層１０を形
成する。次に第２図（ｄ）に示すごとく、リフトオフ法
により第１のフォトレジスト４を全面除去することによ
シ同時に、第１の染色マスク層１０を部分的に除去する
。次に第２図（ｅ）に示すごとく、第２のフォトレジス
ト６のパターンを形成し、金属層３と第１の染色マスク
層１０と第２のフォトレジスト６をマスクとして、例え
ば青（坊の第２の染色領域７を染色する。次に第２図（
ｆ）に示すごとく、第２の染色マスク層１１を形成する
。次に第２図（ｇ）に示すごとく、リフトオフ法によシ
第２のフォトレジスト６を全面除去することによシ同時
Ｋ、第２の染色マスク層１１を部分的に除去する。次に
第２図（ｈ）に示すごとく、金属層３および第１の染色
マスク層１０および第２の染色マスク層１１をマスクと
して例えば赤（６）の第３の染色領域９を染色する。
ここで染色マスク層１０および１１において、材質トし
てシソ力フイルム、シランカップリング剤、有機材料を
用いた場合には、第２図（ｈ）まででこの実施例は完了
する。また、染色マスク層１０．１１に金属層３で形成
した物質と異なる金属を用いた場合には、第２図（ｈ）
の後に染色マスク層１０．１１を除去する工程を加えて
実施例は完了する。なお、本実施例では、第１．第２．
第３の染色領域にＧ。
てシソ力フイルム、シランカップリング剤、有機材料を
用いた場合には、第２図（ｈ）まででこの実施例は完了
する。また、染色マスク層１０．１１に金属層３で形成
した物質と異なる金属を用いた場合には、第２図（ｈ）
の後に染色マスク層１０．１１を除去する工程を加えて
実施例は完了する。なお、本実施例では、第１．第２．
第３の染色領域にＧ。
Ｂ、Ｒの色をそれぞれ対応させているが、実際には、こ
の対応は任意に選定できるものであって、第１．第２．
第３は工程順の対応を示すものである。
の対応は任意に選定できるものであって、第１．第２．
第３は工程順の対応を示すものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、第３の染色領域
を染色する際に、フォトレジストのパターンを形成する
ことなく行なわれるため、工程が短かくなるという大き
な利点を有する。
を染色する際に、フォトレジストのパターンを形成する
ことなく行なわれるため、工程が短かくなるという大き
な利点を有する。
第１図（ａ）ないしくｄ）は、従来のカラーフィルタの
製造方法を説明するための工程順の断面図、第２図（ａ
）ないしくｈ）は本発明の一実施例の製造工程ノーの・
・・金属層、４・・・・・・第１のフォトレジスト、訃
・・・・・第１の染色領域、６・・・・・・第２のフォ
トレジスト、７・・・・・・第２の染色領域、８・・・
・・・第３のフォトレジスト、９°°°゛°°第３の染
色領域、１０・・・・・・第１の染色マスク層、１１・
・・・・・第２の染色マスク層。 寮１ 図 恰 Ｚ図
製造方法を説明するための工程順の断面図、第２図（ａ
）ないしくｈ）は本発明の一実施例の製造工程ノーの・
・・金属層、４・・・・・・第１のフォトレジスト、訃
・・・・・第１の染色領域、６・・・・・・第２のフォ
トレジスト、７・・・・・・第２の染色領域、８・・・
・・・第３のフォトレジスト、９°°°゛°°第３の染
色領域、１０・・・・・・第１の染色マスク層、１１・
・・・・・第２の染色マスク層。 寮１ 図 恰 Ｚ図
Claims (1)
- 第１のフォトレジストをマスクとして固体撮像素子基板
上の染色樹脂層における第１の染色領域を染色する工程
と、前記第１のフォトレジストおよび第１の染色領域を
覆う第１の染色マスク層を形成する工程と、前記第１の
フォトレジストをリフトオフによシ前記第１の染色マス
ク層と共に除去し、前記第１の染色領域のみに一前記第
１の染色マスク層を残す工程と、第２のフォトレジスト
をマスクとして前記染色樹脂層における第２の染色領域
を染色する工程と、前記第２のフォトレジストおよび第
２の染色領域を覆う第２の染色マスク層を形成する工程
と、前記第２のフォトレジストをリフトオフによシ前記
第２の染色マスク層と共に除去し、前記第２の染色領域
のみに前記第２の染色マスク層を形成する工程と、第３
の染色領域を第１および第２の染色マスク層もしくは第
１および第２の染色１７２層と金属層をマスクとして染
色する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57125420A JPS5915908A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57125420A JPS5915908A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5915908A true JPS5915908A (ja) | 1984-01-27 |
Family
ID=14909658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57125420A Pending JPS5915908A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5915908A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5305154A (en) * | 1987-01-28 | 1994-04-19 | Nissha Printing Co., Ltd. | Color filter with a porous activated film layer having dyes fixed in the minute pores to form a color pattern |
| JP2620354B2 (ja) * | 1987-01-28 | 1997-06-11 | 日本写真印刷株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP57125420A patent/JPS5915908A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5305154A (en) * | 1987-01-28 | 1994-04-19 | Nissha Printing Co., Ltd. | Color filter with a porous activated film layer having dyes fixed in the minute pores to form a color pattern |
| JP2620354B2 (ja) * | 1987-01-28 | 1997-06-11 | 日本写真印刷株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5915908A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPH0326802B2 (ja) | ||
| JPS6046505A (ja) | カラ−フィルタ−の製造方法 | |
| JP2702266B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH0250441B2 (ja) | ||
| JPS62257104A (ja) | カラ−フイルタ | |
| JPS5868970A (ja) | カラ−固体撮像素子の製造方法 | |
| JPS5915909A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPS63155002A (ja) | 固体撮像装置の製造方法 | |
| JPS61295505A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPS61295504A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPH10341012A (ja) | 固体撮像素子の製造方法 | |
| JP2722587B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| JPH02285673A (ja) | 固体撮像素子及びその製造方法 | |
| JPS6086504A (ja) | カラ−固体撮像装置の製造方法 | |
| JPS6156349A (ja) | フオト・マスクの製造方法 | |
| JPS6214103A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPS58154808A (ja) | 色フイルタ− | |
| JPS646616Y2 (ja) | ||
| JPH0496372A (ja) | 固体撮像素子の製造方法 | |
| JPS59104610A (ja) | ストライプフイルタの製造方法 | |
| JPS62257103A (ja) | カラ−フイルタアレイの製造方法 | |
| JPH04102371A (ja) | 固体撮像素子の製造方法 | |
| JPH03174102A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPS63143504A (ja) | カラ−固体撮像装置の製造方法 |