JPS59104610A - ストライプフイルタの製造方法 - Google Patents

ストライプフイルタの製造方法

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Publication number
JPS59104610A
JPS59104610A JP57215055A JP21505582A JPS59104610A JP S59104610 A JPS59104610 A JP S59104610A JP 57215055 A JP57215055 A JP 57215055A JP 21505582 A JP21505582 A JP 21505582A JP S59104610 A JPS59104610 A JP S59104610A
Authority
JP
Japan
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layer
dyed
dye
color
dyed layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP57215055A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Oota
敏行 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS59104610A publication Critical patent/JPS59104610A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラーフィルターの製造方法に係り、特に、2
管カメラもしくは2板カメラに用いる赤(R1、青(B
lのストライプフィルタを一回のマスク工程で形成する
カラーフィルタの製造方法に関する。
撮像管を用いた2管カラービデオカメラおよび固体撮像
素子を用いた2板カラービデオカメラでは、プリズムに
より光を緑の光と赤と青の混ざった光の2つに分解し、
さらに加と青の光を2色のストライプフィルターによυ
分角子することによシ光を赤四、緑(財)、青(B)の
3色に分解している。これらに用いられている2色のス
トライプフィルりは従来は次に述べる2回のマスク工程
により形成、されていた。
すなわち、第1図(al 、 (bJは従来のストライ
プフィルタの製造方法を説明するための工程順の断面図
で1,1ず第1図(alに示すように、ガラス基板1の
上に、ゼラチン、グルー、カゼイン、l’VA等の染色
材料を塗布し、フォトマスクを通して露光し、第1の染
色材料の]くターン2を形成する。これらの第1の染色
材料のパターンを、酸性染料。
反応性染料などの水溶液中で第1の色、例えば宵に染色
する。次に、イソプレンゴムレジスト、ニトロセルロー
ズ術−の染色マスクとなる樹脂を塗布し、中間層3を形
成する。次に同図(b)に示すように、その上にさらに
ゼラチン、グルー、カゼイン。
PVA等の染色材料を塗布し、フォトマスクを通して露
光し、第2の染色材料のパターン4を形成する。さらに
、前記第2の染色材料のパターンを染料の水溶液中で、
第2の色、例えば赤に染色する。次ニ、インプレンゴム
レジスト、ニトロセルローズ等を塗布し、表面層5を形
成する。
この従来の2色のストライプフィルターの形成方法は、
2回のマスク工程を含むために工程が長くなるという点
と、前記第2の染色材料のパターンを形成する際に、段
差が大きくパターン形成が困難となる等の欠点を有する
本発明の目的は、上記のような欠点を解消した2色のス
トライプフィルタの製造方法を提供することである。
本発明の2色のストライプフィルタの製造方法は、ガラ
ス基板上にポリエステル樹脂、アセテート等を塗布して
第1の染色樹脂層を形成後、ゼラチン、グルー、PVA
等で第2の染色層のパターンを形成する。次に、前記第
2の染色層を酸性染料9反応性染料等の水溶液に浸すこ
とにより染色し、第1の染色領域(例えば膏)を形成す
る。次に、分散染料等を熱転写することにより前記第1
の染色領域のみを選択的に染色して第2の染色領域を形
成することを特徴とする。
本発明のストライプフィルタの製造方法は、−回のマス
ク工程で、2色のストライプフィルタを形成するため工
程が短縮されると共に、第2の染色層を平坦な基板上に
カフ成できるため加工が容易であるという効果が得られ
る。
次に、本発明を実施例により説明する。
第2図は本発明の一実施例の方法により製造された2色
カラーフィルタの断面図である。第2図において、ガラ
ス基板lの上に、ポリエステル樹脂、アセテート等の高
耐熱性樹脂を塗布し、第1の染色層12を形成する。次
に、ゼラチン、グルー、カゼイン、PVA等の染色材料
を塗布しフォトマスクを通して露光し、第2の染色層1
3のパターンを形成する。次に酸性染料9反応性染料等
の水溶液の中に浸すことにより、第2の染色層13のみ
を第1の色、例えば青(均に染色する。次に分散染料を
熱転写することによシ、第1の染色層12のみを選択的
に第2の色、例えば赤(麹に染色し、染色領域14を形
成する。さらに表面層5を塗布し形成する。
例えは、実際に第1の染色層12としてPE5(ポリエ
ーテルサルフォレ)樹脂を用い、また第2の染色層14
としてカゼイ、ンを用いた場合、分散染料を用いて熱転
写した場合、第1の染色材料12では所望の分光特性が
得られるが、第2の染色層14の分光特性の変化は5%
以下であった。また、カチオン染料の水溶液中で染色し
た場合、第2の染色層14では所望の分光特性が得られ
、この時の第1の染色層12の分光特性の変化は5%以
下であった。以上の結果により、本発明のストライプフ
ィルタの製造方法によシ良好なストライプフィルタが形
成されることが@1′:認された。
このように、本発明のストライプフィルタの製造方法に
よれば、1回のマスク工程で形成することができるため
に、工程が簡略となるのみならず第2の染色層が第1の
ストライプの谷間の平坦な基板上に形成できるための加
工の容易性の効果も大きい。
【図面の簡単な説明】
141 図(a) l (bJは従来のストライプフィ
ルタの製造舌根を説明するための工程順の基板四面図、
第2図は本発明の一実施例によるストライプフィルタの
断面図である。 1・・・・・・ガラス基板、12・・・・・・第1の染
色層、3・・・・・・中間層、13・・・・・・@2の
染色層、5・・・・・・表面層、14・・・・・・第2
の染色領域。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ガラス基板に、ポリエステル樹脂、アセテート等の高剛
    熱樹脂を塗布し第1の染色層を形成する工程と、前記第
    1の染色層の上にゼラチン、グルー、1’VA等の感光
    性高分子材料を塗布し第2の染色層を形成する工程と、
    フォトマスクを通して前記第2の染色層を露光しさらに
    現像して前記第2の染色層を部分的に除去する工程と、
    前記第2の染色材料を酸性染料9反応性染料、直接染料
    。 カチオン染料等の水浴液中で染色する工程と、前記第1
    の染色層を前記第2の染色層をマスクとして、分散染料
    等を熱転写することにより染色する工程とを含むことを
    特徴とする2色のストライプフィルタの製造方法。
JP57215055A 1982-12-08 1982-12-08 ストライプフイルタの製造方法 Pending JPS59104610A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0289044A2 (en) * 1987-04-30 1988-11-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Color image sensor and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0289044A2 (en) * 1987-04-30 1988-11-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Color image sensor and manufacturing method thereof
US4951130A (en) * 1987-04-30 1990-08-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Color filter structure of color image sensor
US5028547A (en) * 1987-04-30 1991-07-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Manufacture of a color image sensor

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