JPS59150421A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPS59150421A JPS59150421A JP58020593A JP2059383A JPS59150421A JP S59150421 A JPS59150421 A JP S59150421A JP 58020593 A JP58020593 A JP 58020593A JP 2059383 A JP2059383 A JP 2059383A JP S59150421 A JPS59150421 A JP S59150421A
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- JP
- Japan
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- film
- titanium
- metal
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- Granted
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Classifications
-
- H10D64/011—
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58020593A JPS59150421A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58020593A JPS59150421A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59150421A true JPS59150421A (ja) | 1984-08-28 |
| JPH0150098B2 JPH0150098B2 (OSRAM) | 1989-10-27 |
Family
ID=12031549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58020593A Granted JPS59150421A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59150421A (OSRAM) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6068612A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
| JPS62235775A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-15 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| DE3908676A1 (de) * | 1988-12-24 | 1990-06-28 | Samsung Electronics Co Ltd | Verfahren zur ausbildung niederohmiger kontakte an mindestens zwei n+/p+-vorohmschen bereichen einer hochintegrierten halbleiterschaltung |
| JPH0590204A (ja) * | 1991-03-20 | 1993-04-09 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 半導体デバイスの製造方法 |
-
1983
- 1983-02-10 JP JP58020593A patent/JPS59150421A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6068612A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
| JPS62235775A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-15 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| DE3908676A1 (de) * | 1988-12-24 | 1990-06-28 | Samsung Electronics Co Ltd | Verfahren zur ausbildung niederohmiger kontakte an mindestens zwei n+/p+-vorohmschen bereichen einer hochintegrierten halbleiterschaltung |
| JPH0590204A (ja) * | 1991-03-20 | 1993-04-09 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 半導体デバイスの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0150098B2 (OSRAM) | 1989-10-27 |
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