JPS5914223B2 - 像表示装置 - Google Patents

像表示装置

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Publication number
JPS5914223B2
JPS5914223B2 JP52115345A JP11534577A JPS5914223B2 JP S5914223 B2 JPS5914223 B2 JP S5914223B2 JP 52115345 A JP52115345 A JP 52115345A JP 11534577 A JP11534577 A JP 11534577A JP S5914223 B2 JPS5914223 B2 JP S5914223B2
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JP
Japan
Prior art keywords
display device
scanning
sample
electron beam
detection signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52115345A
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English (en)
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JPS5448478A (en
Inventor
正志 岩槻
嘉「やす」 原田
義弘 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
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Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP52115345A priority Critical patent/JPS5914223B2/ja
Publication of JPS5448478A publication Critical patent/JPS5448478A/ja
Publication of JPS5914223B2 publication Critical patent/JPS5914223B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子顕微鏡における回折パターンを電気的に検
出し、これを表示装置上に描出する場合等に使用して有
効な装置に関し、更に詳述すれば検出信号の強度に応じ
て表示装置の走査速度を変化させることによりS/N比
の向上をはかることのできる装置を提供する。
近時電子顕微鏡においては極微小領域の回折パターンと
該回折パターンに対応する顕微鏡像とを同時に観察する
ことが可能である。
以下その観察方法の概略を第1図に基づき説明する。
第1図において1は電子顕微鏡の電子光学系における光
軸を表わし、その上方の電子銃(図示せず)から発生す
る電子線2は集束レンズ3と対物レンズ4aにより薄膜
試料5上に集束される。
この装置では試料5が設置されている対物レンズ4の励
磁が強いため対物レンズは実質的に2段の電子レンズ4
a 、4bから成っており、該2つのレンズの中心に試
料5が置かれる。
又前記集束レンズ3の焦点距離が試料前方レンズ4aの
前方焦点面近傍に光源像を形成するように調整されてい
るため、試料前方レンズ4aを通過した電子線は平行ビ
ームとなって試料5を照射する。
該電子線照射により試料を透過した電子は結像レンズと
して作用する試料後方レンズ4bにより中間レンズ6の
前方焦点位置に試料の拡大像を作る。
この拡大像は更に中間レンズと投影レンズIにより拡大
され、螢光板8上に試料の拡大像、即ち顕微鏡像が結像
される。
尚9は対物レンズ絞りである。
このようなレンズ条件において偏向コイル10を用いて
電子線2を試料前方レンズ4aの主面上で2次元的に走
査するとこのレンズを通過した電子線はEBl、EB2
で示すように平行状態のまま試料5上の一定領域に常に
振りもどされ、従って試料上の一定領域への電子線の入
射方向は偏向コイル10の走査に同期して周期的に変化
し、角度走査が行われる。
従って螢光板8上に電子線の入射角向に応じた明視野像
或いは暗視野像が投影される。
このとき螢光板8上の顕微鏡像の一部をこの螢光板に設
けた絞り穴11を通して検出器12により検出し、その
検出信号により前記偏向コイルと同期した表示装置13
の輝度変調を行えば、該表示装置上に微小領域の回折パ
ターンが表示される。
尚14は偏向コイル10と表示装置13の偏向コイル1
5に走査信号を供給するための走査回路である。
しかし乍ら一般に斯様な方法においては数万倍乃至数十
万倍の高倍率で観察することが多く、従って螢光板上の
絞り穴11を通過して検出器12に入射する電子線の量
、即ち検出器に入射する信号量が非常に少なくなるので
検出器から得られる検出信号のS/N比も極めて悪化し
てしまう。
そのため表示装置上の回折パターンのS/Nも悪くなり
、観察や像解析に支障を来たしている。
本発明は斯様な欠陥を排除するもので、以下第2図に示
す実施例に基づき詳説する。
尚第1図と同一符号は同一構成要素を示す。
即ち本実施例においては検出器12からの検出信号を二
分割し、一方は直接表示装置13のグリッドに加えその
輝度を制御し、他方は強度弁別回路16に送られる。
該強度弁別回路は第1回目の角度走査の期間中検出器1
2からの検出信号の強度を弁別し、該弁別に応じた走査
速度信号を角度走査信号に対応させて記憶する。
そして次の角度走査からは角度走査に応じて予め記憶さ
れた走査速度信号を走査回路14に送る。
該走査回路は走査速度信号に応じた傾きをもつ走査信号
を試料照射電子線を偏向する偏向コイル10と表示装置
の偏向コイル15に送り、これらの走査(水平走査、垂
直走査を含む)速度を変化せしめる。
以下第2図で示す装置における動作を第3図に基づき詳
しく説明する。
前記強度弁別回路16には第3図に示すように例えばA
、B、C,Dの4つの強度領域(但しA〉v3.V2〈
B<v3.vl〈C<v2.D<Vl)ば予じめ設定さ
れており、検出器12からの検出信号が初めの等速角度
走査期間中、どの領域にあるかを弁別し、各領域に対応
する角度走査範囲を記憶する。
そしてその次からの角度走査に際しては、記憶された各
走査範囲における検出信号レベルの領域に応じた走査速
度信号を走査回路14に送る。
該走査回路は各偏向コイルに対して検出信号がDびAの
領域にある場合には最も早い走査信号を、Cの領域にあ
る場合には最も遅い走査信号を、Bの領域にある場合に
はその中間の速度の走査信号を送る。
しかして今、第3図中Pで示すような検出信号が強度弁
別回路16に供給された場合、先ずt。
〜t1の間では走査速度が最も早くなり、次に−t1〜
t2の間では走査速度が非常に遅くなり、t2〜t3の
間ではto−tlとt1〜t2との中間の走査速度とな
り、更にt3〜t4の間では走査速度が最も早くなる。
従って強度領域のC,B、Aの順に表示装置13の走査
速度が早くなるので輝度が一様化され、しかも強度領域
のDにおいてはノイズレベルと判断して最も早い走査速
度が行なわれるのでノイズによる像は実質的に表示され
ないようにすることができるため、回折パターンが観察
しやすくなる。
更に検出器からの検出信号の強度が前記りのノイズレベ
ルより僅かに大きい場合には走査速度が遅くなるので検
出器に入射する信号量を増加させることができるため、
検出信号のS/N比の向上をはかることができる。
又、逆に検出信号の強度が非常に大きい場合においては
走査速度が早くされるので表示装置上でのサチュレーシ
ョンを防止することができる。
上記記述では強度弁別回路は4ステツプで説明したがス
テップ数はもつと多ければ、より好ましいことは言うま
でもない。
又、第3図の如く、1つの回折スポットに対応する信号
に対してのみ説明したが、さらに別の回折スポットに対
しても同様の信号処理が行われることは言うまでもない
以上のように、本発明によれば試料からの検出信号の強
度に応じて試料照射電子線の角度走査の速度が制御され
るので、表示装置に表示される回折パターンが観察しや
すいものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を説明するだめの構成概略図、第2図は
本発明の一実施例を示す構成概略図、第3図は本発明の
詳細な説明するだめの図である。 第2図において2は電子線、3は集束レンズ、4は対物
レンズ、5は試料、6は中間レンズ、Iは投影レンズ、
8は螢光板、9は対物絞り、10及び15は偏向コイル
、11は絞り穴、12は検出器、13は表示装置、14
は走査回路、16は波高弁別回路である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 試料の特定領域を照射する電子線の入射角を角度走
    査し、前記試料を透過する電子線を結像させて螢光板上
    に表示すると同時に、螢光板上の一部に入射する電子線
    の強度を検出し、該検出信号を輝度変調信号として前記
    角度走査と同期した表示装置に導入して回折パターンを
    表示する装置において、前記検出信号が所定レベル範囲
    以下又は以上になる角度範囲は所定レベル範囲内におけ
    る角度走査速度よりも高速にする手段を備えたことを特
    徴とする電子顕微鏡における像表示装置。
JP52115345A 1977-09-26 1977-09-26 像表示装置 Expired JPS5914223B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52115345A JPS5914223B2 (ja) 1977-09-26 1977-09-26 像表示装置

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JP52115345A JPS5914223B2 (ja) 1977-09-26 1977-09-26 像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5448478A JPS5448478A (en) 1979-04-17
JPS5914223B2 true JPS5914223B2 (ja) 1984-04-03

Family

ID=14660224

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JP52115345A Expired JPS5914223B2 (ja) 1977-09-26 1977-09-26 像表示装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5019494A (ja) * 1973-05-09 1975-02-28

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5019494A (ja) * 1973-05-09 1975-02-28

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JPS5448478A (en) 1979-04-17

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