JPS5894102A - 針研摩用デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分針 この発明は、静電容量式情報ディスクに記載された情報
を再生するための電極針等の先端を所定形状に加工する
ための針研摩用ディスクの製造方法に関する。

発明の技術的背景とその問題点 近年、各種の方式のビデオディスクやオーディオディス
ク（以下、情報ディスクと称する）の開発が進み実用段
階に達しているが、その一方式として静電容量式がある
。この方式はビデオ信号等の情報を導電性を有するディ
スクに凹凸の形で記帰し、再生はこのディスク上を相対
的に移動する電極針によってディスク上の凹凸による静
電容量の変化を検出することにより行なうものである。

この場合、電極針としては第１図に示すようにダイヤモ
ンド′やサファイヤなどの高硬度の材料からなる針状の
絶縁性基体１の側面に静電容量検出用の金属膜２を被着
したものが用いられる。

ところで、静電容量式情報ディスクには、再生時におけ
る電極針のトラッキング方式に関して、ディスク表面に
記載トラックに沿ってトラッキング用の案内溝を設け、
これに沿って電極針を走行させる方式と、トラッキング
用信号区記載しておき、電気的なサーボ制御によって電
極針の位置を制御する方式とがある。ここで前者の案内
溝を設ける方式では、電極針が溝をトレースする関係で
摩耗が問題となる。このため、電極針としては第１図に
示すように先端部３を船底と同様な細長い形状（キール
状）に加工したものを使用することが検討されている。

この場合、キール状に加工された先端部の寸法は幅ａが
２〜３μ、長さｂが４〜５μ程度という極めて小さいも
のであり、その加工には細心の注意が必要である。

従来、電極針の先端をこのような形状−こ加工するため
の手段として、ラッカー盤または金属盤にダイヤモンド
等のカッターで溝を機械的に切削してこれにダイヤモン
ドダストあるいは８１０１　＋　Ａｊｌｏｌ　ｅ　Ｃｏ
ｏｌ　等の酸化物微粉末ｔたはタングステンカーバイド
の徴求等を研摩剤として塗布したもの（これを針研摩用
ディスクという）が用いられている。すなわち、第２図
に示すように溝２１を例えばらせん状に形成した針研摩
用ディスク２１を用意し、ξれを回転させて電極針１の
先端を溝２ｚに沿って走行させることで研摩してゆくこ
とにより、キール状に加工するものである。しかしなが
ら、従来の針研摩用ディスクの製造方法は、研摩のため
の溝を１枚１枚機械的に切削するというものであるため
貴意が困離であり、延いては電極針の製造コストの上昇
の原因ともなっていた。

発明の目的 この発明の目的は量産性にすぐれた針研摩用ディスクの
製造方法を提供するにある。

発明の概要 この発明に係る方法は、レーザービーム等のエネルギー
ビームを用いてフォトレジスト層に溝を形成したものを
原盤とし、この原盤を用いてメッキ法によりマスタ盤、
マザー盤、そしてスタンパを順次作製し、スタンパを用
いてプレス法等により所定の溝を持った針研摩用ディス
クを成層するものである。この方法によれば１枚のスタ
ンパのプレス寿命を１０”回鵬度として、１枚の原盤か
ら実にｌｏ”＃ｌｏ＠枚程度の針研摩用ディスクを得る
ことができ、前述したｌＩ！東の方法と比較して格段に
量産性を高めることができる。またこの方法においては
、溝の深さを大きくする必要からメッキ工種後の剥離の
容易さを考慮する必要があるが、これはエネルギービー
ムの照射条件や、フォトレジスト層の　゛アフターベー
クエ薯における条件を選ぶことにより容易に解決するこ
とができる。

発明の実施例 第３図はこの発明の一実施例に係る製造工程を示しγこ
ものである。まず、第３１９　（ａｌ　＆こ示ずよろに
Ｗラス板等からなる基盤３１上にクロム等の金属材料か
らなる反射層３２を必要Ｏこ応じ形成した後、フォトレ
ジスト層３３をスピナー等により例えば４〜５μ程度の
厚さに塗布する。

そして全体を回転させながらレーザービームや電子ビー
ムのようなエネルギービーム３４をフォトレジスト層３
３に照射し、らせん状あるいは同心円状に露光した後、
現像を行ない、さらにアフターベークを行なって定着し
、第３図（ｂ）に示すようにフォトレジスト層３３にら
せん状の溝３５を形成する。これまでが原盤、の作製工
程である。

次Ｑこ、この原盤の上に第３図（ｃＨこ示す如く例えば
ニッケルメッキを所定厚さに行なって、原盤に対し反転
したパターンを持つマスク盤３６を作製する。次に、こ
のマスク盤３６を剥離してその表面にメッキを行なって
第３図（ｄｌに示すような原盤と同様なパターンを持っ
たマザー盤３７を作製し、さらにこのマザー盤３７にメ
ッキを行なって第３図（・）に示すようなマスタ盤ｊ６
と同様なスタンパ３１を作製する。

そして、スタンパ１＃を用いてプレス、インジェクショ
ン、キャスティング、フォトポリメツゼーション（２−
Ｐ）等の方法により第３図（ｒ）に示すような原盤と同
様な溝４０を有するキール加工用ディスク１ｔを複製す
る。このようにして得られたキール加工用ディスク１９
の上に従来と同様ダイヤモンドダスト等を塗布し、溝４
０に沿ってダイヤモンド等からなる針状基体の一側面に
金属膜を被着した電極針を走行させれば、電極針の先端
を第１図に示した如くキール状に研摩することができる
。

ところで、以上の製造１楊において第３図（ｂｌの原盤
となるフォトレジスト層３３に形成される溝１５は、第
３図（ｅｌのメッキ工程により得られるマスタ盤３Ｃを
容易に剥離し得るよう、その溝壁に図示の如く適度の正
テーパが形成されることが望ましい。これは第３図（ｆ
ｌのキール加工用の溝４０はビデオディスク等における
凹凸や案内壽の深さが３０００〜４ｏｏｏ１程度である
のに対し、１桁以上大きい４〜５μ程度の深さが必要で
あり、フォトレジスト層３３に形成される溝１５の深さ
もこれと同じ４〜５μ程度とする必要があるが、その場
合溝３５の溝壁が垂直あるいは逆テーパになっていると
、マスタ盤３６の剥離が著しく困難となるからである。

そこで、この実施例においては第３図（ａ）の露光時に
、第４図に示すようにエネルギービーム３４をそのビー
ムウェスト郁４１がフォトレジスト層３ｊの底面４２に
位置するように、すなわち焦点位置がフォトレジスト層
３３の底面４２に一致するように照射する。こうすれば
、エネルギービーム３４の形状に対応して、溝３５に正
テーパをつけることができ、マスタ盤３ｇの剥離が容易
となる。この場合、テーパの角度、深さ！Ｊ１フォトレ
ジスト層３３の膜厚、エ　　　　□ネルイービーム３４
の強度、露光時の基盤３１の回転速度等の条件の組合せ
により任意に選ぶことが可能である。

一方、第３図（ａ）の露光時においては基板３１の一転
時の面振れや、エネルギービーム３４の散ｔｍある１度
生じることは避けられず、これらの原因のためエネルギ
ービーム３４が第４図のように照射されたとしても、現
像時には溝１５の溝壁が第５図（１）に示すようにほと
んど垂直に会り立った状態となってしまうことがあ翫発
明者らはこの点に対処すべく種々検討した結果、フォト
レジスト層１３の現偉後のアフターベークの工程におい
て熱処理条件を適宜選ぶことにより、溝ｊ５の溝壁に第
５図（ｂ）に示す如く丸み（アール）５１をつけること
ができ、これによって現像時にテーパがつかなくともマ
スタ盤ｊ＃の剥離を容易に行なえることを見出した。

異体的な一例として、フォトレジスト層３３として東京
応化製０ＦＰＲ−８００をスピナーにより塗布し、これ
をレーザービームで露光し現倫したものにアフターベー
クを行なって溝３５に丸み５１を形成した結果を次表に
示す。

但し、Ａ／Ｂは溝３５の深さく丸み５１のある部分と画
直部分５２の合計の深さ）Ｂに対する丸み５１のある部
分の深さムの比を示している（第５図参照）。

このように、エネルギービーム３４の照射条件やアフタ
ーベーク時の熱処理条件を適宜選定することにより、フ
ォトレジスト層からなる原盤からのマスク盤の剥離、さ
らにはマスタ盤からのマザー盤の剥離およびマザー盤か
らのスタンパの剥離等を容易に行なうことが可能である
。

発明の効果 この発明によれば案内溝付き静電容量式情報ディスクに
記載された情報の再生のための電極針等の先端を研摩す
るに適した針研摩用ディスクを大量に効率よく製造する
ことができ、電極針の製造コストの低減に大きく寄与す
ることがで舎る。

【図面の簡単な説明】

第１図は案内溝付き静電容量式情報ディスクの再生に用
いられる電極針の先端形状を示す図、ｌＥ２図は上記電
極針の先端をキール状に研摩する方法を説明するための
図、第３図はこの発明の一実施例の工福図、第４図は同
実施例番こおける露光工種時のエネルギービーム照射状
態を示す図、第５図は同実施例におけるアフターベーク
エ寝の熱処理条件を説明するための図である。 １・・・針状絶縁性基体、２・・・金属膜、２１・・・
針研摩用ディスク、２２・・・溝、３１・・・ｔｓ盤、
ｓｘ−・・反射層、３３・・・フォトレジスト層、３４
・・・工。 ネルギービーム、１５・・・溝、３ＩＩ・・・マスタ盤
、１１・・・マザー曽、３８・・・スタンパ、３＃・・
・針研摩用ディスク、４０・・・溝。 出願人代厖人　　弁理士　鈴　江　武　彦１ ＪＩＩ図 １１２図 （（

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （■　電極針の先端を所定形状に研摩するための溝を有
   する針研摩用ディスクの製造に際して、所定の基盤上に
   フォトレジストを塗布し、このフォトレジスト層をエネ
   ルギービームにより露光し現像の後アフターベークを行
   なって原盤を作属し、この原盤を用いてメッキ法により
   マスタ盤、マザー盤およびスタンパを順次作製し、仁の
   スタンパを用いて前記針研摩用ディスクを成型すること
   を特徴とする針研摩用ディスクの製造方法。 （２）フォトレジスト層をエネルギービームで露光する
   に際し、エネルギービームをそのビームウェスト部がフ
   ォトレジスト層の底面に位置するように照射することを
   特徴とする特許請求の範ｌｓｌ嬉［［記載の針研摩用デ
   ィスクの贋造方法。 （３）　　アフターベークエ穆時に、フォトレジスト層
   の溝壁部に丸みがつくように熱処理条件を退室すること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の針研摩用ディ
   スクの製造方法。