JPS5894104A - 針研摩用デイスクの製造方法 - Google Patents
針研摩用デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5894104A JPS5894104A JP56192256A JP19225681A JPS5894104A JP S5894104 A JPS5894104 A JP S5894104A JP 56192256 A JP56192256 A JP 56192256A JP 19225681 A JP19225681 A JP 19225681A JP S5894104 A JPS5894104 A JP S5894104A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grooves
- groove
- disk
- needle
- polishing
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B3/00—Recording by mechanical cutting, deforming or pressing, e.g. of grooves or pits; Reproducing by mechanical sensing; Record carriers therefor
- G11B3/44—Styli, e.g. sapphire, diamond
- G11B3/56—Sharpening
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
この発明は、静電容量式情報ディスクに配録され九情報
を再生するための電極針等の先端を所定形状に研摩する
ための針研摩用ディスクの製造方法に関する。
を再生するための電極針等の先端を所定形状に研摩する
ための針研摩用ディスクの製造方法に関する。
発明の技術的背景と４″０１％４５１１点近年、各種の
方式のビデオディスクヤオーディオディスク（以下、情
報ディスクと称する）の開発が進み実用段階に達してい
るが、その一方式として静電容量式がある。この方式は
ビデオ信号郷の情報を導電性を有するディスクに凹凸の
形で記録し、再生はこのディスク上を相対的に移動する
電極針によってディスク上の凹凸による静電容量の変化
を検出することにより行なうものである。この場合、電
極針としては縞１図に示すようにダイヤモンドやサファ
イヤなどの高硬度の材料からなる針状の絶縁性基体１の
Ｉｌｗに静電容量検出用の金属１１４２を被着したもの
が用いられる。
方式のビデオディスクヤオーディオディスク（以下、情
報ディスクと称する）の開発が進み実用段階に達してい
るが、その一方式として静電容量式がある。この方式は
ビデオ信号郷の情報を導電性を有するディスクに凹凸の
形で記録し、再生はこのディスク上を相対的に移動する
電極針によってディスク上の凹凸による静電容量の変化
を検出することにより行なうものである。この場合、電
極針としては縞１図に示すようにダイヤモンドやサファ
イヤなどの高硬度の材料からなる針状の絶縁性基体１の
Ｉｌｗに静電容量検出用の金属１１４２を被着したもの
が用いられる。
ところで、静電容量式情報ｆ４スクには、再生時におけ
る電極針のトラ、キング方式に関して、ディスク表面に
記録トラ、りに沿ってトラ、キング用の案内溝を設け、
これに沿って電極針を走行させる方式と、トラ、キング
用信号８記−してお龜、電気的なサーが制御によって電
極針Ｏ位置を制御する方式とがある。ここで前者の案内
溝を設ける方式では、電極針が溝をトレースする関係で
摩耗が問題となる。とのため、電極針としては嬉１図に
示すように先端部３を船麿と同様な細長い形状（キール
状）に加工したものを使用することが検討されている。
る電極針のトラ、キング方式に関して、ディスク表面に
記録トラ、りに沿ってトラ、キング用の案内溝を設け、
これに沿って電極針を走行させる方式と、トラ、キング
用信号８記−してお龜、電気的なサーが制御によって電
極針Ｏ位置を制御する方式とがある。ここで前者の案内
溝を設ける方式では、電極針が溝をトレースする関係で
摩耗が問題となる。とのため、電極針としては嬉１図に
示すように先端部３を船麿と同様な細長い形状（キール
状）に加工したものを使用することが検討されている。
この場合、キール状に加工された先端部の寸法は幅ａが
２〜３μ、長さｂが４〜５μ程度という極めて小さいも
のであシ、その加工には細心の注意が必要である。
２〜３μ、長さｂが４〜５μ程度という極めて小さいも
のであシ、その加工には細心の注意が必要である。
従来、電極針の先端をこのような形状に加工する九めの
手段として、２．カー盤または金属盤にダイヤモンド等
の力、ターで溝を機械的に切削してこれにダイヤモンド
ダストあるいは８１０□ 、ムＬ２０ ｓ 、 Ｃ＠０
２ ’１１の酸化物微粉末またはタングステンカーバイ
ドの微粉末等を研摩剤として塗布したもの（これを針研
摩用ディスクという）が用いられている。すなわち、第
２図に示すように溝２２を例えばらせん状に形成した針
研摩用ディスク２１を用意し、これを回転させて電極１
の先端を溝ＪＪＫ沿りて走行させることで研摩してゆく
ととにより、キール状に加工する−のである。しかしな
がら、従来の針研摩用ディスクの製造方法は、研摩のた
めの溝を１枚１枚機棹的に切削するというものであるた
め量産が困難であり、延いては電極針の製造コストの上
昇の原因ともなっていた。
手段として、２．カー盤または金属盤にダイヤモンド等
の力、ターで溝を機械的に切削してこれにダイヤモンド
ダストあるいは８１０□ 、ムＬ２０ ｓ 、 Ｃ＠０
２ ’１１の酸化物微粉末またはタングステンカーバイ
ドの微粉末等を研摩剤として塗布したもの（これを針研
摩用ディスクという）が用いられている。すなわち、第
２図に示すように溝２２を例えばらせん状に形成した針
研摩用ディスク２１を用意し、これを回転させて電極１
の先端を溝ＪＪＫ沿りて走行させることで研摩してゆく
ととにより、キール状に加工する−のである。しかしな
がら、従来の針研摩用ディスクの製造方法は、研摩のた
めの溝を１枚１枚機棹的に切削するというものであるた
め量産が困難であり、延いては電極針の製造コストの上
昇の原因ともなっていた。
そこで、針研摩用ディスクを量産する方法として、溝を
表面に形成した原盤からメッキ法によりマスタ、盤、マ
デー盤等の作製を経てスタ／ｄを作製し、プレス法勢に
よって針研摩用ディスクを複製する方法が考えられる。
表面に形成した原盤からメッキ法によりマスタ、盤、マ
デー盤等の作製を経てスタ／ｄを作製し、プレス法勢に
よって針研摩用ディスクを複製する方法が考えられる。
との方法によれば１枚のスタンパのプレス寿命を１０３
回程度として１枚の原盤から爽に１０〜１０ 枚程度の
針研摩用ディスクを得ることができ、前述した従来の方
法と比較して格ＲＫ量産性を高めることができる。
回程度として１枚の原盤から爽に１０〜１０ 枚程度の
針研摩用ディスクを得ることができ、前述した従来の方
法と比較して格ＲＫ量産性を高めることができる。
ところが、針研摩用ディスクにおいては通常、溝の深さ
が２μ以上必要である関係上、上記の方法では原盤から
のマスク盤の剥離、マスク盤からのマデーＩＩＭの剥離
、マデー盤からのスタンパの剥離等、メ、キエ租後の剥
離作業が容易でなく、これが量産性を上げる上での大き
な障害となる。
が２μ以上必要である関係上、上記の方法では原盤から
のマスク盤の剥離、マスク盤からのマデーＩＩＭの剥離
、マデー盤からのスタンパの剥離等、メ、キエ租後の剥
離作業が容易でなく、これが量産性を上げる上での大き
な障害となる。
発明の目的
この発明の目的は、溝を形成した原盤からメ、キ法によ
ｐスタンパを作製し、とのスタン・帯を用いて針研摩用
ディスクを成型するに際し、メッキ工程後の剥離性を良
好ならしめることができる針研摩用ディスクの製造方法
を提供するととにある。
ｐスタンパを作製し、とのスタン・帯を用いて針研摩用
ディスクを成型するに際し、メッキ工程後の剥離性を良
好ならしめることができる針研摩用ディスクの製造方法
を提供するととにある。
発明の概要
との発明は、原盤上の溝の形成条件が剥離性を大きく左
右する点に着目し、剥離性を最も良好にする溝の形成条
件を規定するものである。
右する点に着目し、剥離性を最も良好にする溝の形成条
件を規定するものである。
すなわち、この発明では第３図に示すように原盤Ｓ１の
溝３２相互間の非溝部３３の幅をＡ。
溝３２相互間の非溝部３３の幅をＡ。
溝Ｓ２の深さをａ（但し、ａ≧２μ）、溝３２０側壁の
傾斜角を０（但し、・ｑ≦０く９０°）。
傾斜角を０（但し、・ｑ≦０く９０°）。
溝３２の底部の幅をｂとし、溝３２の開口部の幅をｌ１
ｍ２ａｅｅｔ＃＋ｂと置いたとき、Ａ／Ｂ＝ＫをＯ≦０
〈１０°の場合はに≧０．８とし、−〉１の場合はに≧
０．７とすることを特徴としている。
ｍ２ａｅｅｔ＃＋ｂと置いたとき、Ａ／Ｂ＝ＫをＯ≦０
〈１０°の場合はに≧０．８とし、−〉１の場合はに≧
０．７とすることを特徴としている。
一般に、非溝部３３０幅ムが十分に大暑ければ、機械的
（物理的）な方法による剥離は容易である。しかし、発
明者らが実験した結果によれば剥離性は溝３２Ｃ）側壁
Ｏ傾斜角０によっても大きく左右され、０が１０”以下
の場合はＡは溝３２の開口部の幅ＢＫ対しＫ ＝ ０．
８倍以上、また−が１０°を越える場合はＫ ｍ ｏ、
７倍以上であればよいことが確認された。
（物理的）な方法による剥離は容易である。しかし、発
明者らが実験した結果によれば剥離性は溝３２Ｃ）側壁
Ｏ傾斜角０によっても大きく左右され、０が１０”以下
の場合はＡは溝３２の開口部の幅ＢＫ対しＫ ＝ ０．
８倍以上、また−が１０°を越える場合はＫ ｍ ｏ、
７倍以上であればよいことが確認された。
発明の実施例
第４図はこの発明の一実施例に係る製造工程を示したも
のである。まず、第４図（、）に示すようにガラス板等
からなる基盤４１上にクロム勢の金属材料あるいはシリ
コーン樹脂系の表面処理層４２を必要に応じ形成した後
、フォトレゾスト層４３をスピナー等によｐ例えば４〜
５μ程度の厚さに塗布する。そして全体を回転させ１ｋ
からレーデ−ビームや電子ビーム、イオンビームのよう
なエネルギービーム４４をフォトレノスト層４３に照射
し、らせん状あるいは同心円状あるいは平行な直線状に
露光し念後、現像を行ない、さらにアフターベーク奢行
なって定着し、第４図（ｂ）に示すように７オトレゾス
ト層４１にらせん状あるいは同心円状あるいは直線状の
溝３２を形成する。こうして、溝３２を有する原盤３１
が作製される。
のである。まず、第４図（、）に示すようにガラス板等
からなる基盤４１上にクロム勢の金属材料あるいはシリ
コーン樹脂系の表面処理層４２を必要に応じ形成した後
、フォトレゾスト層４３をスピナー等によｐ例えば４〜
５μ程度の厚さに塗布する。そして全体を回転させ１ｋ
からレーデ−ビームや電子ビーム、イオンビームのよう
なエネルギービーム４４をフォトレノスト層４３に照射
し、らせん状あるいは同心円状あるいは平行な直線状に
露光し念後、現像を行ない、さらにアフターベーク奢行
なって定着し、第４図（ｂ）に示すように７オトレゾス
ト層４１にらせん状あるいは同心円状あるいは直線状の
溝３２を形成する。こうして、溝３２を有する原盤３１
が作製される。
次に、この原盤３１の上に第４図（Ｃ）に示す如く例え
ば二、ケルメッキを所定厚さに行なって、原盤に対し反
転したパターンを持つマスク盤４５を作製する。次に、
このマスク盤４５を剥離してその表面にメッキを行なっ
て第４図（ｄ）に示すような原盤３１と同様なノリーン
を持った！デー盤４６を作製し、さらにこのマデー盤４
６にメッキを行なりて第４図（・）に示すようなマスタ
盤４５と同様なスタンノ４４７を作製する。
ば二、ケルメッキを所定厚さに行なって、原盤に対し反
転したパターンを持つマスク盤４５を作製する。次に、
このマスク盤４５を剥離してその表面にメッキを行なっ
て第４図（ｄ）に示すような原盤３１と同様なノリーン
を持った！デー盤４６を作製し、さらにこのマデー盤４
６にメッキを行なりて第４図（・）に示すようなマスタ
盤４５と同様なスタンノ４４７を作製する。
そして、スタンノ４４１を用いてプレスあるいはインゾ
エクシ、ン、キャスティング、フォトＩリメリゼーシ、
ン（２−Ｐ）轡の方法によシ第４図（ｆ）に示すような
原盤と同様な＄ ４９を有する針研摩用ディスク４ａｔ
複製する。この針研摩用ディスク４８の材料としては、
４り塩化ビニール樹脂、アクリル樹脂、ｆリエチレン樹
脂、／ＩＪカー？ネート樹脂などの有機高分子材料ある
いはこれらの混合物を用い、また好ましくは硬度を増す
ため、とれらの材料中にさらにカーーンなどの硬化剤を
混入したものを用いる。
エクシ、ン、キャスティング、フォトＩリメリゼーシ、
ン（２−Ｐ）轡の方法によシ第４図（ｆ）に示すような
原盤と同様な＄ ４９を有する針研摩用ディスク４ａｔ
複製する。この針研摩用ディスク４８の材料としては、
４り塩化ビニール樹脂、アクリル樹脂、ｆリエチレン樹
脂、／ＩＪカー？ネート樹脂などの有機高分子材料ある
いはこれらの混合物を用い、また好ましくは硬度を増す
ため、とれらの材料中にさらにカーーンなどの硬化剤を
混入したものを用いる。
このようにして得られた針研摩用ディスク４８の上に好
ましくはクロム等の金属被膜をメッキあるいは蒸着によ
シ形成した後、従来と同様ダイヤモンドダスト等の研摩
剤ｔ−塗布し、溝４９に沿ってダイヤモンド等からなる
針状基体の一側面に金属膜を被着し九電極針を走行させ
れば、電極針の先端を第１図に示した如くキール状に加
工することができる。
ましくはクロム等の金属被膜をメッキあるいは蒸着によ
シ形成した後、従来と同様ダイヤモンドダスト等の研摩
剤ｔ−塗布し、溝４９に沿ってダイヤモンド等からなる
針状基体の一側面に金属膜を被着し九電極針を走行させ
れば、電極針の先端を第１図に示した如くキール状に加
工することができる。
ここで、第４図（ｂ）のＩＩｉ、磐３１において溝３２
の深さを１；５μ、溝３２の底部の幅ｔ″ｂ−３μとし
たときの溝３２の儒ｌ１１ｏ傾斜角θ、溝３２の開口部
の幅Ｂ（＝２ｉｃｏｔａ＋ｂ）、溝３２相亙間の非溝部
３３０幅（第３図参照）Ａと、剥離性（原盤３１からの
マスタ盤４５の剥離の容易さ）の関係を次表に示す。
の深さを１；５μ、溝３２の底部の幅ｔ″ｂ−３μとし
たときの溝３２の儒ｌ１１ｏ傾斜角θ、溝３２の開口部
の幅Ｂ（＝２ｉｃｏｔａ＋ｂ）、溝３２相亙間の非溝部
３３０幅（第３図参照）Ａと、剥離性（原盤３１からの
マスタ盤４５の剥離の容易さ）の関係を次表に示す。
この実験結果から明らかな通シ、前述の如く０≦−≦１
０＠の場合はム／Ｂ ＝ Ｋ≧ｏ、 ｓとし、−）１０
＠の場合はに≧０．７とすることによって、原盤３１か
らマスタ盤４５をなんらの不良を生ずることなく、確実
かつ、容易に剥離することができる。σ≦θ≦１０＠の
場合ＫＫを大きくする必要があるのは、０≦１０”では
剥離の際の溝３２の側壁の摩擦抵抗が予想外に大きくな
ることが原因と思われる。）なお、ニッケルメッキの場
合、剥離の際に重クロム酸液を剥離促進剤として用いる
ことが考えられるが、溝３２のピッチ（Ａ＋Ｂ ”）が
深さａに比べて大きい場合を除いてその効果は小さく、
ま九酸処理時間を長くしてもあまシ効果は認められなか
った。この点、この発明によれば剥離性を効果的に向上
させることができる。
０＠の場合はム／Ｂ ＝ Ｋ≧ｏ、 ｓとし、−）１０
＠の場合はに≧０．７とすることによって、原盤３１か
らマスタ盤４５をなんらの不良を生ずることなく、確実
かつ、容易に剥離することができる。σ≦θ≦１０＠の
場合ＫＫを大きくする必要があるのは、０≦１０”では
剥離の際の溝３２の側壁の摩擦抵抗が予想外に大きくな
ることが原因と思われる。）なお、ニッケルメッキの場
合、剥離の際に重クロム酸液を剥離促進剤として用いる
ことが考えられるが、溝３２のピッチ（Ａ＋Ｂ ”）が
深さａに比べて大きい場合を除いてその効果は小さく、
ま九酸処理時間を長くしてもあまシ効果は認められなか
った。この点、この発明によれば剥離性を効果的に向上
させることができる。
上記の実験結果は、原盤３１からのマスタ盤４５の剥離
性についであるが、一般的にこの剥離が容易であれば、
マスタ盤４５がらのマザー盤４６の剥離、マザー盤４６
がらのスタンパ４１の剥離、スタンパ４４１からの針研
摩用ディスク４１の剥離も容易である。
性についであるが、一般的にこの剥離が容易であれば、
マスタ盤４５がらのマザー盤４６の剥離、マザー盤４６
がらのスタンパ４１の剥離、スタンパ４４１からの針研
摩用ディスク４１の剥離も容易である。
発明の効果
との発明によれば４ＩＫメ、キ工程後の剥離性の向上に
よシ、溝付き静電容量式情報ディスクに記録された情報
の再生のための電極針等の先端を研摩するに適した針研
摩用ディスクを大量に効率よく製造することができる。
よシ、溝付き静電容量式情報ディスクに記録された情報
の再生のための電極針等の先端を研摩するに適した針研
摩用ディスクを大量に効率よく製造することができる。
なお、この発明は前記実施例に限定されるものではなく
、例えば原盤の作製プロセスはガラス板郷の基盤上にＳ
ｔおよび５１０２を蒸着またはスノ臂ツタリングを行な
って形成した薄膜に、クロムなどの金属のマスクを形成
して、フレオンガス中でイオンミリングによシ溝を形成
するか、ダイヤモンド、サファイヤなどからなる加工針
で溝を機械的に加工してもよい。
、例えば原盤の作製プロセスはガラス板郷の基盤上にＳ
ｔおよび５１０２を蒸着またはスノ臂ツタリングを行な
って形成した薄膜に、クロムなどの金属のマスクを形成
して、フレオンガス中でイオンミリングによシ溝を形成
するか、ダイヤモンド、サファイヤなどからなる加工針
で溝を機械的に加工してもよい。
また、原盤からマスク盤、マザー盤を経ずに、直接スタ
ン・母を作製してもよい。
ン・母を作製してもよい。
さらに、この発明によって得られる針研摩用ディスクは
トラ、キング用案内溝を有する静電容量式情報ディスク
の再生用電極針先端の研摩（キール加工）のみならず、
案内溝を有しない静電容量式情報ディスクの再生用電極
針その他の電極針の先端の研摩にも用いることが可能で
ある。
トラ、キング用案内溝を有する静電容量式情報ディスク
の再生用電極針先端の研摩（キール加工）のみならず、
案内溝を有しない静電容量式情報ディスクの再生用電極
針その他の電極針の先端の研摩にも用いることが可能で
ある。
第１図は案内溝付き静電容量式情報ディスクの再生に用
いられる電極針の先端形状を示す図、第２図は上記電極
針の先端をキール状に加工する方法を説明するための図
、第３図はこの発明における針研摩用ディスクの製造用
原盤の溝形成条件を説明するための断面図、第４図はこ
の。 発明の実施例の工程図である。 １・・・針状絶縁性基体、２・・・金属膜、２１・・・
針研摩用ディスク、２２・・・溝、３１・・・原盤、３
２・・・溝、３３・・・非溝部、３４・・・基盤、４２
・・・表面処理層、４３・・・フォトレジスト層、４４
・・・エネルギービーム、４５・・・マスタ盤、４６・
・・マザー盤、４７・・・スタンｔ４．４ Ｊ 、、・
針研摩用ディスク、４９・・・溝。 １１図 第２図 （ａ） 第３図 （ｂ） ３ （ｄ） （ｅ） （ｆ）
いられる電極針の先端形状を示す図、第２図は上記電極
針の先端をキール状に加工する方法を説明するための図
、第３図はこの発明における針研摩用ディスクの製造用
原盤の溝形成条件を説明するための断面図、第４図はこ
の。 発明の実施例の工程図である。 １・・・針状絶縁性基体、２・・・金属膜、２１・・・
針研摩用ディスク、２２・・・溝、３１・・・原盤、３
２・・・溝、３３・・・非溝部、３４・・・基盤、４２
・・・表面処理層、４３・・・フォトレジスト層、４４
・・・エネルギービーム、４５・・・マスタ盤、４６・
・・マザー盤、４７・・・スタンｔ４．４ Ｊ 、、・
針研摩用ディスク、４９・・・溝。 １１図 第２図 （ａ） 第３図 （ｂ） ３ （ｄ） （ｅ） （ｆ）
Claims (1)
- 電極針の先端を所定形状に研摩するための溝を有する針
研摩用ディスクの製造方法であって、溝を表面に形成し
た原盤からメッキ法によシスタンノーを作製し、このメ
タン／平を用いて前記針研摩用ディスクよ、成型する方
法において、前記原盤の壽相互間の非溝部の幅をＡ、溝
の深さをａ（但し、ａ≧２μ）、溝の側壁の傾斜角をθ
（但し、Ｏ≦θ〈９０＠）、溝の底部の幅をｂとし、１
ｌ＝２ａ＠ｏｔ θ＋ｂ と置いたとき、Ａ／Ｂ＝Ｋを
Ｑ≦−≦１０１１の場合はに≧０．８とし、＃ ） １
０＠の場合はに≧０．７とすることを特徴とする針研摩
用ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56192256A JPS5894104A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 針研摩用デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56192256A JPS5894104A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 針研摩用デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5894104A true JPS5894104A (ja) | 1983-06-04 |
Family
ID=16288254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56192256A Pending JPS5894104A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 針研摩用デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5894104A (ja) |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP56192256A patent/JPS5894104A/ja active Pending
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