JPS5894103A - 電極針の研摩方法 - Google Patents
電極針の研摩方法Info
- Publication number
- JPS5894103A JPS5894103A JP19225581A JP19225581A JPS5894103A JP S5894103 A JPS5894103 A JP S5894103A JP 19225581 A JP19225581 A JP 19225581A JP 19225581 A JP19225581 A JP 19225581A JP S5894103 A JPS5894103 A JP S5894103A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- needle
- electrode needle
- grooves
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B3/00—Recording by mechanical cutting, deforming or pressing, e.g. of grooves or pits; Reproducing by mechanical sensing; Record carriers therefor
- G11B3/44—Styli, e.g. sapphire, diamond
- G11B3/56—Sharpening
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
この発明は、静電容量式情報ディスクに記録された情報
管再生するための電極針等の先端を所定形状に研摩する
方法に関する。
管再生するための電極針等の先端を所定形状に研摩する
方法に関する。
発明の技術的背景とその問題点
近都、各種の方式のビデオデ（スフやオーディオディス
ク（以下、情報ディスクと称する）の開発が進み実用段
階に遺しているが、その一方式として静電容量式がある
。この方式はビデオ信号等の情報を導電性を有するディ
スクに凹凸の形で記録し、再生はこのディスク上を相対
的に移動する電極針によってディスク上の凹凸による静
電容量の変化を検出することにより行なうものである。
ク（以下、情報ディスクと称する）の開発が進み実用段
階に遺しているが、その一方式として静電容量式がある
。この方式はビデオ信号等の情報を導電性を有するディ
スクに凹凸の形で記録し、再生はこのディスク上を相対
的に移動する電極針によってディスク上の凹凸による静
電容量の変化を検出することにより行なうものである。
この場合、電極針としては第１図に示すようにダイヤモ
ンドやサファイヤなどの高硬度の材料からなる針状の絶
縁性基体１の側面に静電容量検出用の金属膜２を被着し
たものが用いられる。
ンドやサファイヤなどの高硬度の材料からなる針状の絶
縁性基体１の側面に静電容量検出用の金属膜２を被着し
たものが用いられる。
ところで、静電容量式情報ディスクには、再生時におけ
る電極針のトラ、キング方式に関して、ディスク表面に
記録トラ、りに沿ってトラ、−＃ング用の案内溝を設け
、これに沿って電極針を走行させる方式と、トラッキン
グ用信号・重記録しておき、電気的なサーが制御によっ
て電極針の位置を制御する方式とがある。ここで前者の
案内溝を設ける方式では、電極針が溝をトレースする関
係で摩耗が問題となる。このため電極針としては第１図
に示すように先端部３を船底と同様な細長い形状（キー
ル状）（加工し友ものを使用することが検討されている
。この場合、キール状に加工された先端部の寸法は幅ａ
が２〜３岸、長さｂが４〜５μ程度という極めて小さい
ものであり、その加工には細心の注意が必要である。
る電極針のトラ、キング方式に関して、ディスク表面に
記録トラ、りに沿ってトラ、−＃ング用の案内溝を設け
、これに沿って電極針を走行させる方式と、トラッキン
グ用信号・重記録しておき、電気的なサーが制御によっ
て電極針の位置を制御する方式とがある。ここで前者の
案内溝を設ける方式では、電極針が溝をトレースする関
係で摩耗が問題となる。このため電極針としては第１図
に示すように先端部３を船底と同様な細長い形状（キー
ル状）（加工し友ものを使用することが検討されている
。この場合、キール状に加工された先端部の寸法は幅ａ
が２〜３岸、長さｂが４〜５μ程度という極めて小さい
ものであり、その加工には細心の注意が必要である。
従来、電極針の先端をこのような形状に研摩加工するだ
めの方法として、ラッカー盤または金属盤にダイヤモン
ド等のカッターで溝を機械的に切削して、これにダイヤ
モンドダストあるいは８１０２ 、ム１ｚｏｓ ｅ Ｃ
６０２等の酸化物微粉末またはタングステンカーバイド
の微粉末等を研摩剤として塗布してなる針研摩用ディス
クを用いる方法が考えられている。すなわち、第２図に
示すように溝２２を例えばらせん状に形成した針研摩用
ディスク２１を用意し、これを回転させて電極針１の先
端を溝２２に沿らて走行させることで研摩してゆくこと
によシ、キール状に加工するもＯである。しかしながら
、従来では研摩のための溝をディスクの１枚１枚に機械
的に切削していたため、量産が困難であり、延いては電
極針の製造コストの上昇の原因ともなりていた。
めの方法として、ラッカー盤または金属盤にダイヤモン
ド等のカッターで溝を機械的に切削して、これにダイヤ
モンドダストあるいは８１０２ 、ム１ｚｏｓ ｅ Ｃ
６０２等の酸化物微粉末またはタングステンカーバイド
の微粉末等を研摩剤として塗布してなる針研摩用ディス
クを用いる方法が考えられている。すなわち、第２図に
示すように溝２２を例えばらせん状に形成した針研摩用
ディスク２１を用意し、これを回転させて電極針１の先
端を溝２２に沿らて走行させることで研摩してゆくこと
によシ、キール状に加工するもＯである。しかしながら
、従来では研摩のための溝をディスクの１枚１枚に機械
的に切削していたため、量産が困難であり、延いては電
極針の製造コストの上昇の原因ともなりていた。
発明の目的
この発明の目的は、電極針の先端を量産性よく所定形状
に研摩する方法を提供することである。
に研摩する方法を提供することである。
発明の概要
この発明に係る電極針の研摩方法は、表面に溝を有する
原盤を作製する工程と、この原盤を用いてメッキ法によ
シスタンノ譬を作製する工程と、このスタンノ譬を用い
て表面に溝を有し有機高分子材料を主成分とする針研摩
用ディスクを作製する工程と、この針研摩用ディスク表
面の溝に沿って電極針を相対的に移動させて、電極針の
先端を所定形状に研摩する工程とを具備することを特徴
としている。
原盤を作製する工程と、この原盤を用いてメッキ法によ
シスタンノ譬を作製する工程と、このスタンノ譬を用い
て表面に溝を有し有機高分子材料を主成分とする針研摩
用ディスクを作製する工程と、この針研摩用ディスク表
面の溝に沿って電極針を相対的に移動させて、電極針の
先端を所定形状に研摩する工程とを具備することを特徴
としている。
この発明によれば、特に消耗品である針研摩用ディスク
を１枚の原盤から多量に複製することができるため、所
定の先端形状を持つ電極針を量産性よく得ることができ
、電極針の製造コストを大幅に引下げることができる。
を１枚の原盤から多量に複製することができるため、所
定の先端形状を持つ電極針を量産性よく得ることができ
、電極針の製造コストを大幅に引下げることができる。
発明の実施例
籐３図はこの発明の一実施例における針研摩用ディスク
の製造工程の一例を示したものである。まず、第３図（
−）に示すようにガラスあるいはプラスチック、金属等
からなる基盤３１上にクロム等の金属材料あるいはシリ
コーン樹脂系の表面処理層３２を必要に応じ形成した後
、フォトレジスト層３３をスピナー、ディラグ法等によ
シ例えば４〜５μ程度の厚さに塗布する。
の製造工程の一例を示したものである。まず、第３図（
−）に示すようにガラスあるいはプラスチック、金属等
からなる基盤３１上にクロム等の金属材料あるいはシリ
コーン樹脂系の表面処理層３２を必要に応じ形成した後
、フォトレジスト層３３をスピナー、ディラグ法等によ
シ例えば４〜５μ程度の厚さに塗布する。
なお、基盤Ｓ１０表面は表面粗さ０．０２μ以下の鏡面
状であることが望ましく、また平行度も良好であること
が望ましい。そして、全体を回転させながらレーザービ
ームや電子ビーム、イオンビームのようなエネルギービ
ーム３４をフォトレジスト層３３に照射し、らせん状あ
るいは同心円状あるいは平行な直線状に露光した後、現
像を行ない、さらにアフターベークを行なって定着し、
第３図（ｂ）に示すようにフォトレジ１１層３３にらせ
ん状あるいは同心円状あるいは直線状の溝３５を形成す
る。これまでが原盤の作製工程である。
状であることが望ましく、また平行度も良好であること
が望ましい。そして、全体を回転させながらレーザービ
ームや電子ビーム、イオンビームのようなエネルギービ
ーム３４をフォトレジスト層３３に照射し、らせん状あ
るいは同心円状あるいは平行な直線状に露光した後、現
像を行ない、さらにアフターベークを行なって定着し、
第３図（ｂ）に示すようにフォトレジ１１層３３にらせ
ん状あるいは同心円状あるいは直線状の溝３５を形成す
る。これまでが原盤の作製工程である。
次に、この原盤の上に第３図（、）に示す如く例えばニ
ッケルメッキを所定厚さに行なって、原盤に対し反転し
たパターンを持つマスク盤３６を作製する。次に、この
マスタ盤３６を剥離してその表面にメッキを行なって、
第３図（ｄ）に示すような原盤と同様なパターンを持っ
たマザー盤３１を作製し、さらにこのマザー盤３７にメ
、キを行なって第３１図（、）に示すようなマスタ盤３
６と同様なスタン／＃３８を作製する。
ッケルメッキを所定厚さに行なって、原盤に対し反転し
たパターンを持つマスク盤３６を作製する。次に、この
マスタ盤３６を剥離してその表面にメッキを行なって、
第３図（ｄ）に示すような原盤と同様なパターンを持っ
たマザー盤３１を作製し、さらにこのマザー盤３７にメ
、キを行なって第３１図（、）に示すようなマスタ盤３
６と同様なスタン／＃３８を作製する。
そして、スタンパ３８を用いてプレスあるいはインジェ
クション、キャスティング、フォトポリメリゼーション
（２−Ｐ）等の方法によシ第３図（ｆ）に示すような原
盤と同様な溝３９を有する針研摩用ディスク４０を成壓
する。
クション、キャスティング、フォトポリメリゼーション
（２−Ｐ）等の方法によシ第３図（ｆ）に示すような原
盤と同様な溝３９を有する針研摩用ディスク４０を成壓
する。
針研摩用ディスク４０は例えばＰＶＣ（ポリ塩化ビニー
ル） 、 ＰＭＭＡ （ポリメタクリルｍｌ）。
ル） 、 ＰＭＭＡ （ポリメタクリルｍｌ）。
Ｐ８（ポリスチレン）、ｐｃ（ポリカーデネー））、Ｐ
ＶＡＣ（／す酢酸ビ＝７ｙ）、ＰＥ（ポリエチレン）
、 ＰＯＭ （ポリアセタール）、ｐｐ（４リグロピレ
ン）、／リスルフオンなどの樹脂、あるいはこれらの混
合系としてのｐｖｃ −ＰＶＡＣ、ＰＶＣ−ＰＥ 、
ＰＶＣ−ヒニールステ７ Ｖ −）。
ＶＡＣ（／す酢酸ビ＝７ｙ）、ＰＥ（ポリエチレン）
、 ＰＯＭ （ポリアセタール）、ｐｐ（４リグロピレ
ン）、／リスルフオンなどの樹脂、あるいはこれらの混
合系としてのｐｖｃ −ＰＶＡＣ、ＰＶＣ−ＰＥ 、
ＰＶＣ−ヒニールステ７ Ｖ −）。
ＰＶＣ−ＰＭＭＡ ニスｆｋ 、 ＰＶＣ−ＰＰ等のポ
リマーや、ムＳ（アクリル二Ｆルスチレン） 、 ＡＢ
Ｓ（アクリルニトリル、ブタシュン、スチレン）等の２
ｆ！ＩＪマーその他の有機高分子材料を主成分として
形成され、さらに必要に代Ｃ層度を増す丸め、硬化剤と
して例えばカー？ン、セラさ、りの微粒粉（ム４２０５
ｍ ８１０２ ｅ ＳＩＣ＊ ５ｌＢＮ４等）あるい
は金属の微粒粉を０．５〜３５嗟程度入れて混ＨＦ）し
たものである。
リマーや、ムＳ（アクリル二Ｆルスチレン） 、 ＡＢ
Ｓ（アクリルニトリル、ブタシュン、スチレン）等の２
ｆ！ＩＪマーその他の有機高分子材料を主成分として
形成され、さらに必要に代Ｃ層度を増す丸め、硬化剤と
して例えばカー？ン、セラさ、りの微粒粉（ム４２０５
ｍ ８１０２ ｅ ＳＩＣ＊ ５ｌＢＮ４等）あるい
は金属の微粒粉を０．５〜３５嗟程度入れて混ＨＦ）し
たものである。
そして、上記のようにして得られた第３図（ｆ）の針研
摩用ディスク４０の上に研摩剤を塗布（沈積）シ、溝３
９に沿ってダイヤモンドあるいはサファイア等の高硬度
材料からなる針状基体を有する電極針を走行させる。実
際には、電極針を一定位置に静止させ、ディスク４０を
モータにより高速回転させる。なお、この針状基体はキ
ール加工前予め針状に削υ出したもの、あるいはチタン
などの金属シャンクにダイヤモンドチップを銀ロウ付け
したものが用いられ、いずれもその先端は三角錐をなし
ているが、上記の如く針研摩用デづスフによって研摩す
ると、その先端は第１図に示し九如くキール状に加工さ
れる。
摩用ディスク４０の上に研摩剤を塗布（沈積）シ、溝３
９に沿ってダイヤモンドあるいはサファイア等の高硬度
材料からなる針状基体を有する電極針を走行させる。実
際には、電極針を一定位置に静止させ、ディスク４０を
モータにより高速回転させる。なお、この針状基体はキ
ール加工前予め針状に削υ出したもの、あるいはチタン
などの金属シャンクにダイヤモンドチップを銀ロウ付け
したものが用いられ、いずれもその先端は三角錐をなし
ているが、上記の如く針研摩用デづスフによって研摩す
ると、その先端は第１図に示し九如くキール状に加工さ
れる。
第４図は研摩工程の一例を示したもので、らせん状また
は同心円状の溝を有する円板状の針研摩用ディスク４１
を用いた場合の例である。
は同心円状の溝を有する円板状の針研摩用ディスク４１
を用いた場合の例である。
この場合、ディスク４１をターンテーブル４２上に載置
固定してモータ４Ｊによシ回転させ、カートリッジ４４
にチタン棒等を介して取付けた電極針４５をディスク４
１Ｃ）溝に挿入し、ディスク４１Ｃ）回転によりてその
先端を研摩することになる。
固定してモータ４Ｊによシ回転させ、カートリッジ４４
にチタン棒等を介して取付けた電極針４５をディスク４
１Ｃ）溝に挿入し、ディスク４１Ｃ）回転によりてその
先端を研摩することになる。
一方、第５図は直線状Ｏ溝を多数並行に形成した角板状
Ｏ針研摩用ディスク５１を用いた場合の例であシ、この
場合ディスク５１をチーグル５ｊ上に載置固定し、カー
トリッジ５３に取付は九数本〜数十本の電極針５４をデ
ィスク６１上を溝に沿りて往復させて研摩を行なう。
Ｏ針研摩用ディスク５１を用いた場合の例であシ、この
場合ディスク５１をチーグル５ｊ上に載置固定し、カー
トリッジ５３に取付は九数本〜数十本の電極針５４をデ
ィスク６１上を溝に沿りて往復させて研摩を行なう。
なお、研摩に際しては前述の如く針研摩用ディスク上に
研摩剤を塗布するが、研摩剤としてはダイヤモンド微粉
末のほか、酸化セリウム（Ｃ”０２ ） を酸化硅素（
５ｔｏ２ ） 、酸化鉄（ＦｅＯｒＦ・２０ｉ ） ｅ
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）酸化アルミニウム（Ａｈ
Ｏｓ ） ＊タングステンカーバイド（ｗｃ）、窒化硅
素（８’ｓＮａ ） ｐ酸化ハフニウム（Ｉ（ｆ０２）
、酸化マグネシウム（ＭｇＯ） ＃酸化カルシウム（
ＣａＯ）等を用いることができる。
研摩剤を塗布するが、研摩剤としてはダイヤモンド微粉
末のほか、酸化セリウム（Ｃ”０２ ） を酸化硅素（
５ｔｏ２ ） 、酸化鉄（ＦｅＯｒＦ・２０ｉ ） ｅ
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）酸化アルミニウム（Ａｈ
Ｏｓ ） ＊タングステンカーバイド（ｗｃ）、窒化硅
素（８’ｓＮａ ） ｐ酸化ハフニウム（Ｉ（ｆ０２）
、酸化マグネシウム（ＭｇＯ） ＃酸化カルシウム（
ＣａＯ）等を用いることができる。
これらＯ研摩剤は、多価アルコール（例えばプロピルア
ルコール）などに溶かし超音波攪拌器などで充分に混濁
してから、針研摩用ディスク上に羽毛などによりて沈積
させる。
ルコール）などに溶かし超音波攪拌器などで充分に混濁
してから、針研摩用ディスク上に羽毛などによりて沈積
させる。
これらの研摩剤を用いて電極針を研摩する場合、研摩工
程の進行に伴い、研摩剤の粉径を小さくすると効果的で
ある６例えば研摩剤とじてダイヤモンド微粉末を用いる
場合、初期研摩（荒摺シ）には０．５μ以下Ｏ粒径のも
のを使用し、中摺り、仕上げ工程と移行するに従って、
徐々に粒径を小さくシ、仕上げ工程では０．１μ以下の
ものを用いるようにする。
程の進行に伴い、研摩剤の粉径を小さくすると効果的で
ある６例えば研摩剤とじてダイヤモンド微粉末を用いる
場合、初期研摩（荒摺シ）には０．５μ以下Ｏ粒径のも
のを使用し、中摺り、仕上げ工程と移行するに従って、
徐々に粒径を小さくシ、仕上げ工程では０．１μ以下の
ものを用いるようにする。
発明の効果
このように、この発明によれば一枚の原盤からスタンノ
４を経て大量に複製される針研摩用ディスクを用いて電
極針の先端を所定形状に研摩するため、電極針の量産性
を着しく高めることができ、結果的に電極針の製造コス
トの大幅な低減全図ることが可能となる。
４を経て大量に複製される針研摩用ディスクを用いて電
極針の先端を所定形状に研摩するため、電極針の量産性
を着しく高めることができ、結果的に電極針の製造コス
トの大幅な低減全図ることが可能となる。
この発明は前記実施例に限定されるものではなく、例え
ば原盤の作製！四セスはガラス板等の基板上にＳｔおよ
び５１０２を蒸着またはスパッタリングを行なって形成
した薄膜に、クロムなどの金属のマスクを形成してツレ
オンガス中でイオンミリン〆によシ溝を形成するか、ダ
イヤモンド、す７アイヤなどからなる加工針で溝を機械
的に加工してもよい。
ば原盤の作製！四セスはガラス板等の基板上にＳｔおよ
び５１０２を蒸着またはスパッタリングを行なって形成
した薄膜に、クロムなどの金属のマスクを形成してツレ
オンガス中でイオンミリン〆によシ溝を形成するか、ダ
イヤモンド、す７アイヤなどからなる加工針で溝を機械
的に加工してもよい。
また、原盤からマスタ盤、マザー盤を経ずに、直接スタ
ンノを作製してもよい。
ンノを作製してもよい。
さらに、この発明に係る研摩方法は、トラ。
キング用案内溝を有する静電容量式情報ディスクの再生
用電極針先端の研摩（キール加工）９のみならず、案内
溝を有しない静電容量式情報ディスクの再生用電極針そ
の他の電極針の先端の研摩にも用いることが可能である
。
用電極針先端の研摩（キール加工）９のみならず、案内
溝を有しない静電容量式情報ディスクの再生用電極針そ
の他の電極針の先端の研摩にも用いることが可能である
。
第１図は案内溝付き静電容量式情報ディスクの再生に用
いられる電極針の先端形状を示す図、第２図は上記電極
針の先端をキール状に加工する方法を説明するための図
、第３図はこの発明の一実施例における針研摩用ディス
クの製造工程図、第４図および第５図は電極針の研摩工
程を示す図である。 １・−針研摩用ディスク、２・・・金属膜、２１・・・
針研摩用ディスク、ｘｉ−・溝、３１・・・基盤、１２
−反射層、Ｊ！−・・フォトレジスト層、３４・−・エ
ネルギービーム、３ｊ・−溝、３６−・・マスタ５ｈｓ
ｙ・・・マザー盤、３８−スタン／母、３９・・・溝、
４０，４１．５１−針研摩用ディスク、４１ｉ、５４・
・・電極針。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 ｌｌ 彦１１１１ 第２図 （Ｃ 第４図 第５図 第１頁の続き ０発 明 者 三瓶秀雄 川崎市幸区小向東芝町１番地東 京芝浦電気株式会社総合研究所 内
いられる電極針の先端形状を示す図、第２図は上記電極
針の先端をキール状に加工する方法を説明するための図
、第３図はこの発明の一実施例における針研摩用ディス
クの製造工程図、第４図および第５図は電極針の研摩工
程を示す図である。 １・−針研摩用ディスク、２・・・金属膜、２１・・・
針研摩用ディスク、ｘｉ−・溝、３１・・・基盤、１２
−反射層、Ｊ！−・・フォトレジスト層、３４・−・エ
ネルギービーム、３ｊ・−溝、３６−・・マスタ５ｈｓ
ｙ・・・マザー盤、３８−スタン／母、３９・・・溝、
４０，４１．５１−針研摩用ディスク、４１ｉ、５４・
・・電極針。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 ｌｌ 彦１１１１ 第２図 （Ｃ 第４図 第５図 第１頁の続き ０発 明 者 三瓶秀雄 川崎市幸区小向東芝町１番地東 京芝浦電気株式会社総合研究所 内
Claims (1)
- ＊ｍに溝を有する原盤を作製する工程と、この原盤を用
いてメッキ法によりスタツフ等を作製する工程と、この
メタン／譬を用いて表面に溝を有し膚機高分子材料を主
成分とする針研摩用ディスクを作製する工程と、この針
研摩用ディスク表面の溝に沿って電極針を相対的に移動
させて電極針の先端を所定形状に研摩する工程とを具備
することを特徴とする電極針の研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19225581A JPS5894103A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電極針の研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19225581A JPS5894103A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電極針の研摩方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5894103A true JPS5894103A (ja) | 1983-06-04 |
Family
ID=16288238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19225581A Pending JPS5894103A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 電極針の研摩方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5894103A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4566224A (en) * | 1984-10-24 | 1986-01-28 | Rca Corporation | Lapping apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53120418A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-20 | Rca Corp | Record disc stylus and making method thereof |
| JPS56119904A (en) * | 1980-02-04 | 1981-09-19 | Rca Corp | Method of copying vortex line groove pattern |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP19225581A patent/JPS5894103A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53120418A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-20 | Rca Corp | Record disc stylus and making method thereof |
| JPS56119904A (en) * | 1980-02-04 | 1981-09-19 | Rca Corp | Method of copying vortex line groove pattern |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4566224A (en) * | 1984-10-24 | 1986-01-28 | Rca Corporation | Lapping apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009199637A (ja) | パターン化磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS5894103A (ja) | 電極針の研摩方法 | |
| US20040008446A1 (en) | Surface planarization processes for the fabrication of magnetic heads and semiconductor devices | |
| US4802160A (en) | Optical disk substrate | |
| JPS583291B2 (ja) | 浮動ヘツドスライダ | |
| JPS61202324A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6040528A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPH03127327A (ja) | 磁気デイスクとその製造法及び磁気デイスク装置 | |
| JPS6244371A (ja) | バニツシユヘツドの構造 | |
| JPS5894101A (ja) | 針研摩用デイスクとその製造方法 | |
| JPS6038720A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPS5894104A (ja) | 針研摩用デイスクの製造方法 | |
| JPS58139343A (ja) | 針研摩用デイスク | |
| JPS6028059B2 (ja) | 静電容量値の変化検出型再生素子の再生針 | |
| JPH0816980B2 (ja) | 磁気デイスク基板およびその製造方法 | |
| JPS5924963A (ja) | 情報信号再生用針の研摩基材 | |
| JP2533324B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5846770B2 (ja) | 静電容量値の変化検出型再生素子の再生針の製作方法 | |
| JPH0352646B2 (ja) | ||
| JPS6144259Y2 (ja) | ||
| JPH03295086A (ja) | 磁気デイスク装置及び磁気記録媒体 | |
| JPS6174154A (ja) | 情報信号再生針の製造方法 | |
| JP2738394B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH03120610A (ja) | 磁気記録デイスク・フアイルにおいてスライダの空気ベアリング表面に保護膜を形成する方法 | |
| JPS5870439A (ja) | 研摩盤 |