JP2523612B2 - 光デイスク製造方法 - Google Patents
光デイスク製造方法Info
- Publication number
- JP2523612B2 JP2523612B2 JP62083229A JP8322987A JP2523612B2 JP 2523612 B2 JP2523612 B2 JP 2523612B2 JP 62083229 A JP62083229 A JP 62083229A JP 8322987 A JP8322987 A JP 8322987A JP 2523612 B2 JP2523612 B2 JP 2523612B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- groove
- area
- photoresist
- recording
- Prior art date
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ディスクの製造方法に関する。
従来の技術 第２図は従来の光ディスクの一部を表す図である。平
面上に信号ピットが形成され、１はディスク基材、２は
信号ピット、３はレーザー入射方向である。これはNTSC
信号のビデオディスクとして市販されている。第３図で
このディスクの製造方法を説明する。ガラス盤４の表面
を研磨し（第３図ａ）、フォトレジスト５を塗布する
（第３図ｂ）。レーザー６を強度変調して信号を記録し
（第３図ｃ）、現像すればマスター盤ができる（第３図
ｄ）。このマスター盤からスタンパを作り、複製すれば
ビデオディスクは大量に作れる。しかし、将来の用途を
考えれば、光ディスクはより高密度化が望まれ、Ｖ溝を
用いた高密度化の方法が提案されている（特開昭57−10
5828）。それは、Ｖ溝を従来のビデオディスクのトラッ
クピッチと同程度のピッチで形成し、Ｖ溝の各斜面に信
号を記録することで、記録密度を倍増するものである。
第４図にそのディスクの一部を示す。この図で７はＶ溝
斜面である。このディスクの作り方を考える（第５
図）。銅盤８をダイヤモンド針９でカッティングして
（第５図ａ）Ｖ溝を形成する。フォトレジスト５を塗布
して（第５図ｂ）、レーザー６を強度変調して斜面７上
に信号を記録する（第５図ｃ）。現像すれば第５図ｄの
ようになる。これをマスター盤にして複製しても、第４
図のようなディスクは得られず、クロストークが大きく
品質の良い信号を再生できない。第６図ａのようにイオ
ンビーム10を照射して、残ったフォトレジストを除け
ば、第６図ｂのようなマスター盤ができ、信号品質の良
い高密度ビデオディスクが作れる。
面上に信号ピットが形成され、１はディスク基材、２は
信号ピット、３はレーザー入射方向である。これはNTSC
信号のビデオディスクとして市販されている。第３図で
このディスクの製造方法を説明する。ガラス盤４の表面
を研磨し（第３図ａ）、フォトレジスト５を塗布する
（第３図ｂ）。レーザー６を強度変調して信号を記録し
（第３図ｃ）、現像すればマスター盤ができる（第３図
ｄ）。このマスター盤からスタンパを作り、複製すれば
ビデオディスクは大量に作れる。しかし、将来の用途を
考えれば、光ディスクはより高密度化が望まれ、Ｖ溝を
用いた高密度化の方法が提案されている（特開昭57−10
5828）。それは、Ｖ溝を従来のビデオディスクのトラッ
クピッチと同程度のピッチで形成し、Ｖ溝の各斜面に信
号を記録することで、記録密度を倍増するものである。
第４図にそのディスクの一部を示す。この図で７はＶ溝
斜面である。このディスクの作り方を考える（第５
図）。銅盤８をダイヤモンド針９でカッティングして
（第５図ａ）Ｖ溝を形成する。フォトレジスト５を塗布
して（第５図ｂ）、レーザー６を強度変調して斜面７上
に信号を記録する（第５図ｃ）。現像すれば第５図ｄの
ようになる。これをマスター盤にして複製しても、第４
図のようなディスクは得られず、クロストークが大きく
品質の良い信号を再生できない。第６図ａのようにイオ
ンビーム10を照射して、残ったフォトレジストを除け
ば、第６図ｂのようなマスター盤ができ、信号品質の良
い高密度ビデオディスクが作れる。
発明が解決しようとする問題点 第５図ａでＶ溝をカッティングする時、ダイヤモンド
針を銅盤表面から２〜３μｍ切り込む。従って、切り始
め、または、切り終わりの境界では第７図のようにな
り、これは、第８図のディスクの溝形成部11の最内周1
2、または、最外周13に相当する。フォトレジストを塗
布しても、それらの境界ではフォトレジストの表面性は
よくなく（第９図）、信号品質も保証できない。
針を銅盤表面から２〜３μｍ切り込む。従って、切り始
め、または、切り終わりの境界では第７図のようにな
り、これは、第８図のディスクの溝形成部11の最内周1
2、または、最外周13に相当する。フォトレジストを塗
布しても、それらの境界ではフォトレジストの表面性は
よくなく（第９図）、信号品質も保証できない。
問題点を解決するための手段 Ｖ溝をカッティングした銅盤にフォトレジストを塗布
してレーザーで信号を記録する際、Ｖ溝形成領域の最外
周、および、最内周の境界には信号を記録しない。
してレーザーで信号を記録する際、Ｖ溝形成領域の最外
周、および、最内周の境界には信号を記録しない。
作用 Ｖ溝形成領域の最外周、および、最内周の境界には信
号を記録しないことで、信号記録は常にフォトレジスト
の表面性の良い領域で行われる。
号を記録しないことで、信号記録は常にフォトレジスト
の表面性の良い領域で行われる。
実施例 高品位TVのMUSE信号を、隣合うＶ溝に2chに分けて記
録する場合を考える。1ch当たりFM信号で６〜8MHz、帯
域4MHzを必要とする。半径55mmから145mmの記録領域で
線速度約10m/secのCLVで回転させれば、片面１時間のハ
イビジョン・ビデオディスクを実現できる。
録する場合を考える。1ch当たりFM信号で６〜8MHz、帯
域4MHzを必要とする。半径55mmから145mmの記録領域で
線速度約10m/secのCLVで回転させれば、片面１時間のハ
イビジョン・ビデオディスクを実現できる。
第５図の銅盤としてアルミ盤に銅メッキしたものを用
いる。尖端が約162度のダイヤモンド針で、その銅盤の
表面から２〜３μｍ切り込んでＶ溝を形成してゆく。銅
盤を回転させて１回転のダイヤ針の送りを1.67μｍとす
る。Ｖ溝のピッチは同じように1.67μｍになり、深さは
0.13μｍとなる。フォトレジスト（AZ1350）をシンナー
で体積比20％位に薄めて、銅盤上に回転数400rpmで塗布
する。フォトレジストはＶ溝表面には沿わず、表面張力
のために第５図ｂのようなほぼ平面となる。しかし、Ｖ
溝の切り始め、または、切り終わりは２〜３μｍの段差
がついてしまい、フォトレジストの塗布表面は表面性が
数100μｍにわたって乱れる（第９図）。そこに、レー
ザーで信号を記録しても信号品質は劣る。そこで、Ｖ溝
は半径55mmより内周から145mmより外周までカッティン
グしておき、レーザーで信号を記録するのは半径55mmか
ら145mmとすれば、信号機録されるのはフォトレジスト
の表面性の良い領域に限られる。第１図にその様子を示
す。11はＶ溝形成部、12,13はその境界部である。Arレ
ーザーで信号を記録するのは、Ｖ溝形成部より狭い14〜
15の範囲である。12と13また、14と15の間隔を1mm以上
とすれば十分である。その後は第６図の過程を経る事
で、ハイビジョン・ビデオディスクを大量に供給できる
ようになる。
いる。尖端が約162度のダイヤモンド針で、その銅盤の
表面から２〜３μｍ切り込んでＶ溝を形成してゆく。銅
盤を回転させて１回転のダイヤ針の送りを1.67μｍとす
る。Ｖ溝のピッチは同じように1.67μｍになり、深さは
0.13μｍとなる。フォトレジスト（AZ1350）をシンナー
で体積比20％位に薄めて、銅盤上に回転数400rpmで塗布
する。フォトレジストはＶ溝表面には沿わず、表面張力
のために第５図ｂのようなほぼ平面となる。しかし、Ｖ
溝の切り始め、または、切り終わりは２〜３μｍの段差
がついてしまい、フォトレジストの塗布表面は表面性が
数100μｍにわたって乱れる（第９図）。そこに、レー
ザーで信号を記録しても信号品質は劣る。そこで、Ｖ溝
は半径55mmより内周から145mmより外周までカッティン
グしておき、レーザーで信号を記録するのは半径55mmか
ら145mmとすれば、信号機録されるのはフォトレジスト
の表面性の良い領域に限られる。第１図にその様子を示
す。11はＶ溝形成部、12,13はその境界部である。Arレ
ーザーで信号を記録するのは、Ｖ溝形成部より狭い14〜
15の範囲である。12と13また、14と15の間隔を1mm以上
とすれば十分である。その後は第６図の過程を経る事
で、ハイビジョン・ビデオディスクを大量に供給できる
ようになる。
フォトレジストを塗布する原盤に銅盤を用いるとして
説明してきたが、第５図ａの銅盤８から作られたスタン
パにフォトレジストを塗布してもよい。そのスタンパの
材料にNiなどが用いられる。
説明してきたが、第５図ａの銅盤８から作られたスタン
パにフォトレジストを塗布してもよい。そのスタンパの
材料にNiなどが用いられる。
発明の効果 本発明によれば、記録された信号の全域にわたって信
号品質の良好な光ディスクを制御することが可能とな
る。
号品質の良好な光ディスクを制御することが可能とな
る。
第１図は本発明の信号記録領域を示す平面図、第２図は
従来のディスクの一部を示す斜視図、第３図は従来のデ
ィスクの製造方法を説明する断面図、第４図はＶ溝ディ
スクの一部を示す斜視図、第５図はＶ溝ディスクの製造
方法の前半を説明する断面図、第６図はＶ溝ディスクの
製造方法の後半を説明する断面図、第７図はＶ溝形成部
の境界の断面図、第８図はＶ溝形成部を示す平面図、第
９図はＶ溝形成部の境界でのフォトレジストの塗布状態
を示す断面図である。 ２……信号ピット、５……フォトレジスト、６……Arレ
ーザー、７……Ｖ溝斜面、８……銅盤、９……ダイヤモ
ンド針、11……Ｖ溝形成部、12,13……境界部、14〜15
……信号記録部。
従来のディスクの一部を示す斜視図、第３図は従来のデ
ィスクの製造方法を説明する断面図、第４図はＶ溝ディ
スクの一部を示す斜視図、第５図はＶ溝ディスクの製造
方法の前半を説明する断面図、第６図はＶ溝ディスクの
製造方法の後半を説明する断面図、第７図はＶ溝形成部
の境界の断面図、第８図はＶ溝形成部を示す平面図、第
９図はＶ溝形成部の境界でのフォトレジストの塗布状態
を示す断面図である。 ２……信号ピット、５……フォトレジスト、６……Arレ
ーザー、７……Ｖ溝斜面、８……銅盤、９……ダイヤモ
ンド針、11……Ｖ溝形成部、12,13……境界部、14〜15
……信号記録部。
Claims (2)
- 【請求項１】半径方向の断面がＶ字形の溝の斜面上の信
号をレーザー光を絞って再生する光ディスクの製造法で
あって、Ｖ字形溝が形成された金属盤の上にフォトレジ
ストを塗布し、レーザー光を絞って前記Ｖ字形溝の斜面
上に信号を記録する方法において、前記信号を記録する
領域が前記Ｖ字形溝が形成された領域より狭い事を特徴
とする光ディスク製造方法。 - 【請求項２】前記信号を記録する領域の最内周と前記Ｖ
字形溝が形成された領域の最内周との間隔、および、前
記信号を記録する領域の最外周と前記Ｖ字形溝が形成さ
れた領域の最外周との間隔がそれぞれ1mm以上である事
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ディスク製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62083229A JP2523612B2 (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 光デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62083229A JP2523612B2 (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 光デイスク製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63249949A JPS63249949A (ja) | 1988-10-17 |
| JP2523612B2 true JP2523612B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=13796487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62083229A Expired - Lifetime JP2523612B2 (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 光デイスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2523612B2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-03 JP JP62083229A patent/JP2523612B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63249949A (ja) | 1988-10-17 |
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