JPS589394A - 薄型回路基板の製法 - Google Patents

薄型回路基板の製法

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JPS589394A
JPS589394A JP56107425A JP10742581A JPS589394A JP S589394 A JPS589394 A JP S589394A JP 56107425 A JP56107425 A JP 56107425A JP 10742581 A JP10742581 A JP 10742581A JP S589394 A JPS589394 A JP S589394A
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JP
Japan
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circuit board
wiring
resistor
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polyimide
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JP56107425A
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昭一 村本
田中 信義
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリイミドフレキシブル基板を用いて成る薄
型の回路基板の製法に係わる。
ポリイミドフィルムは表面が化学的に安定な為に他の有
機高分子材料(例えばエポキシ樹脂)と相溶性が無く、
密着力に欠ける。従ってポリイミドフィルムに印刷法で
配線パターン、抵抗体等を形成することは困難であった
従来、ボリイきドフレキシブル基板を用いた回路基板は
、例えば第1図A−Dに示すようにポリイミドフレキシ
ブル基板(1)の−面に接着剤(2)付きの鋼箔(3)
を貼着し、この銅箔(3)を選択エツチングして所定パ
ターンの配線(4)を形成し、しかる後例えばチップ抵
抗体(5)を半田(6)を介して所要の配線(4)間に
実装して製造していた。このように従来はチップマウン
ト方式を採用しているためにコスト高となると共に薄型
の回路基板が得にくかった。
本発明は、上述の点に鑑みポリイミドフィルムに対しで
印刷法で配線、抵抗体、あるいは多層配線の際の絶縁体
等の形成を可能にし、回路基板の薄蔽化を促進仁得るよ
うKした薄型回路基板の製法を提供する獣のである。
以下、実施例を参照して本発明を説明する。
第2図A−Cは本発明の一実施例を示す。本例において
は、先ずポリイミドフレキシブル基板+13上に前述の
第1図A−Cと同様の工程を経て接着剤(2)付き鋼箔
(3)による所定パターンの配! 141を形成する。
次に、所要の配線゛(4)間の抵抗体を配すべき位置に
ポリイミド変成接着剤層αυを印刷形成し、この接着剤
層aυを150C,15〜30分の熱処理によつ ′て
半硬化せしめ、しかる後接着剤層αυ及び両配線(4)
に跨るようにポリマーレジン抵抗ペースト(基材は例え
ばエポキシ樹脂)を印刷し、焼成して抵抗体a3を形成
する。焼成は150 Ce 8〜10時間あるいは17
0C〜180 C,2〜3時間とするを可とする。ポリ
イミド変成接着剤とエポキシ樹脂との密着性は良好であ
り、従って接着剤層αυと抵抗体αりとは良好に接着さ
れる。
この製法によれば、従来のチップマウント方式による厚
さtl ”w* 1.0鶴(第111D参照)に比べて
膜厚t2が0.05〜0.1閣の薄型の抵抗回路基板a
3が得られる。
籐3−ム〜Dの実施例は配線パターン及び抵抗体を共に
印刷法で形成した場合である。本例においては、ポリイ
ミドフレキシブル基板(1)上にボリイきド変成接着剤
層aυを塗布形成して半硬化(150C915〜30分
の処理)させる。この場合、接着剤層αυは基板(1)
が単一基板であればスクリーン印刷で形成し、基板+I
Jがロールフィルム状であればロールコーダーで形成し
得る。次に接着剤層UD上K例えばAg、Cu、Niあ
るいはA2等を混入してなるポリマー系導体ペースト(
基材は例えばエポキシ樹半硬化(150C,15〜30
分の処理)させる。次IC/ml!の配線間の接着剤層
αυ上にポリマーレジ/抵抗ペーストを印刷し、しかる
後止例と同様に焼成して抵抗体a3及び所定パターンの
配線[41を形成し目的の薄型の抵抗回路基板αシを得
る。この回路幕板α9の製法によれば、配I!Q41が
選択エツチングで形成されず抵抗体(lzと共に印刷法
で形成されるので、省資源、無公害な製造プロセスであ
り、一方配線a4及び抵抗体azとポリイミドフレキシ
ブル基板(υとはポリインド変成接着剤層αυを介して
密着され実用に耐え得るものであり、従って一層容易に
且つ安価111111化された抵抗回路基板の製造が可
能になる。
第4図及び第5図の実施例は夫々薄型の多層回路基板の
製造に適用した場合である。
即ち第4図A−Bは抵抗体及び配線を多層構造とした場
合である。本例は、ポリイミドフレキシブル基板(1)
の−面にポリイミド変成接着層αυを塗布し半硬化(1
50C,15〜30分の処理)させ、次に所定パターン
にポリマー系導体ペーストα易を印刷し、之を半硬化(
150tZ’、15〜30分の処理)させる。次に所要
の配−関の接着剤層αD上に両配線に跨る如くポリマー
レジン抵抗ペーストを印刷し焼成して抵抗体(13及び
配線α尋を形成する。
次に、ポリマー系の絶縁体一層〔eを印刷形成し、半硬
化させ、以後は多層の数に応じて184図C〜Bの工程
を繰り返し、このとき2層目からの配線Iは接着剤層値
υを介さずKallz絶縁体層ae上に印刷し、そして
最後に焼成する。斯くして目的の多層回路基板を得る。
j1511A〜Dは配線のみ多層構造とした場合である
。本例は、上告と同様にポリイミドフレキシブル基板(
1)の−面にポリイきド変成接着剤層Iを塗布して半硬
化させ、次にポリマー系導体ペーストa41を所定の配
線パターンをもって印刷して半硬化させ、さらにポリマ
ー系の絶縁体層(161を例えばスルホール舖を有する
ようなパターンで印刷形成して半硬化させ、以後多層の
数に応じて第5図C〜Dの工程を繰り返し図示せざるも
最上層の所要の配線a4間に抵抗体Q3を印刷形成し、
最後に絶縁体層u61及び配線Q41を焼成して目的の
多層回路基板を得る。
上記第4図及び第5図の製法によれは、ポリイミドフレ
キシブル基板(1)に接着剤層α2を形成することによ
り、ポリマ系の導体(配線)、抵抗体。
絶縁体が印刷形成でき、フレキシブル基板を用いた多層
回路基板の製造が可能となる。特に抵抗体。
配線が印刷で作れるので、多層回路基板が安価に得られ
る。
この様に上述の本発明によれば、ポリイミドフィルムに
対して従来困難であった印刷法による配線、抵抗体、絶
縁体等の形成が可能となるものであり、フレキシブル基
板を用いた単層又は多層回路基板のより薄型化及び小型
化が促進される実益を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図A、Dは従来の回路基板の製法例を示す工程図、
1g2図A−C,第3図A−D、第4図A〜B及び第5
図A〜Dは夫々本発明による薄型回路基板の製法の実施
例を示す工程図である。 +1)はポリイミドフレキシブル基板、aυはポリイミ
ド変成接着剤層、azは抵抗体、■は配線、QE9は絶
縁体である。 第1図 第2N    第3図 第4図    第5tm 1 普

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ボリイきドフレキシブル基板に接着剤層を形成し、該接
    着剤層上にポリマーの導体、抵抗体、絶縁体等を印刷形
    成して成ることを特徴とする薄型回路基板の製法。
JP56107425A 1981-07-09 1981-07-09 薄型回路基板の製法 Granted JPS589394A (ja)

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JPS6355796B2 JPS6355796B2 (ja) 1988-11-04

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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