JPS5883843A - 金属画像形成材料 - Google Patents

金属画像形成材料

Info

Publication number
JPS5883843A
JPS5883843A JP56181748A JP18174881A JPS5883843A JP S5883843 A JPS5883843 A JP S5883843A JP 56181748 A JP56181748 A JP 56181748A JP 18174881 A JP18174881 A JP 18174881A JP S5883843 A JPS5883843 A JP S5883843A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
layer
photosensitive resin
image
resin layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56181748A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0145897B2 (ja
Inventor
Nobumasa Sasa
信正 左々
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP56181748A priority Critical patent/JPS5883843A/ja
Priority to US06/439,427 priority patent/US4455364A/en
Priority to GB08232192A priority patent/GB2113152B/en
Priority to DE19823241980 priority patent/DE3241980A1/de
Publication of JPS5883843A publication Critical patent/JPS5883843A/ja
Priority to GB8428641A priority patent/GB2156088B/en
Priority to GB08428642A priority patent/GB2155861A/en
Publication of JPH0145897B2 publication Critical patent/JPH0145897B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本抛、―は、金属画像を形成させるための材料に−シ、
轡にハイコントラストの画像形成能を有し、ラインワー
ク、網点用に適したー属−m*或材料に−する。
金属−像形成材料ICおいて杜、−欽に金属薄層(蒸着
層やラミネート箔層など)を用いた場合の欠点として、
レジストが浸されないS*の弱いエツチング液ではエツ
チングされに(いことが挙けられる。そのため1通常エ
ツチング時間が長くかかり、したがってレジスジとして
は耐蝕性の極めて強いものを用いなければならず、しか
も鮮鋭な画像が得にくく、さらに@i侭のエッヂの乱れ
を生ずる欠点が与られる。
一方、これを改良する手段として411111fi6−
9736号公報に1アルis−クムと蒸着可能な有機物
質とが混在する蒸着層が開示されている。しかし、ここ
に開示された有機物質は、レジストを浸さない1ill
l!の弱い現像液を用いたのでは、いまだ十分短かいエ
ツチング時間でエツチングすることができず実用的でな
い。
そこで、本発明の目的は、金属薄層を短時間にエツチン
グするための強力なエツチング液を使用するまでもなく
、短時間に金属薄層をエツチングすることが可能であり
、しかも鮮鋭な画像を得ることができる金属画像形成材
−を提供するにある。
本実−の上記目的は、−支持体上に感光性樹脂層が設け
られており、かつ鋏支持体と該感光性樹脂層との間に金
属と下記金属キレート化剤の群から選ばれた少くとも1
種の化金物とがs1!する蒸着層一般atられているこ
とを畳懺とする金属画像形成材料によって達成される。
〔金属キレート化剤〕
天然アミノ酸およびペプチド類、オI?し酸類、−合リ
ン酸類、ニトレカルギン駿類、サリチルアルデヒド類、
β−ジケトン類、フェノール誘導体類、ナフタレン霞導
体類、オ中ジアゾ色素llおよびアントラキノン誘導体
類。
以下、本発明にりいて詳達する。
本実@に係る金属画像形成材料の層構成′の^体例とし
【は、支持体上に金属と蒸着筒部な金属中レート化剤と
が混在する蒸着層(以下金属−金属キレート他剤混在蒸
着層と記する)が設けられ、その上に感光性樹脂層が設
けられてなるものであるが、上記構成に他の付加鉤榔成
要素をもたせた態様、妃とえば支持体と会員−命属命し
−)化ma在菖着層または金属−金属キレート化剤渦在
蒸着層と感光性樹脂層との間など支持体上に設けられ工
いる各種の層の間に、下引層ヤ中間層が敗けられた態様
、さらに感光性、樹脂層上にたとえば保護層が設けられ
た態様などがあり1本発明の金属画像形成材料社きわめ
て多種多様な態様の層構成とすることかで龜るものであ
る。
本発明の金属−金属キレート他剤混在蒸着層に用いられ
る金属は、従来全知のエツチング鶏環液によってエツチ
ングされ得る金属であり、腋金属としてはたとえば特開
昭50−139720号公報に記載されているアル1ニ
クムを主体とする金属中特開l!!48−65927号
、同4B−65928号、同50−2925号及び岡5
0−14161号の各金1報に記載されているごときテ
ルル、゛彎すプテン、ポルニウム、;バルト、亜鉛、銅
、ニッケル省鉄、錫、バナジウム、ゲルマ二、ウム、鎖
及び頷工マルジ冒ンなどへ挙げることができる。
本発明に用いられる金属キレート化剤としては前記のも
のがある。それらの金属中レート化剤として必要な秦件
は、少なくとも常温で一体で真童蒸着が可能な性質を有
することである。融点、昇4**などは可能な211り
低いことが好ましいが。
その物質の蒸着前あるいは蒸着後の安電性のよいものが
好ましい。
本@@Kmける金属中レート化剤は、前述の過り、天然
アミノ酸およびペプチド類、オ命シ酸諷、縮合リン酸類
、ニド−カルボン酸類、サリチルアルデヒド類、II−
ジケトン類、フェノール誘導体類、ナフタレン霞導体類
、オ命ジアゾ色aSおよびアントラ1中ノン誘導体類で
あり、これ以外の化金物は1本発明の前記目的を達成で
亀ないために本発明からは除外される。
以下に1本発明の金属キレート化剤の^体釣代表例を拳
けるが、これらによって本g&@が一電されるものでは
ない。
天然71ノ酸およびペプチド類としては、アラ二/、ダ
リシン、グルタミン酸、ブーリン及びそれらの塩、オ命
シ酸−として杜、タエン酸、■石鹸及びそれらの塩、縮
合リン酸類としては、ピ一つ リン酸、トリリン酸、ニド−カルボン酸−としては、二
)p酢酸、o−二)−安息香酸及びそれらの塩、サリチ
ルアルデヒド類としては、サリチルアルデヒド、5−ス
ルホサリチルフルデにド及びそれらの塩、β−ジケトン
鋼としてれ、7セチルアセトン、ツーイルアセトン、フ
ェノール鐸導体類としては8−オキシキノリン、オルト
オ中シキノリン、2.4−ジオキシ今ノリン% 5−エ
ト−キノリン、5−ニトロ−2−71ノフエノール、4
−二)−一2−7ミノフエノール及びそれらの塩、ナフ
タレン−導体として紘2,3−ジLドーキシナフタレン
−6−スルホン酸、1−アミノ−2−す7タレンー4−
スルホン酸、1−ニトーリー2−ヒトーキシナフタレン
−3,6−りスルホン酸、1゜2−ナフト命1ノンー4
−スルホン駿及びそれらの塩、アントラキノン誘導体と
しては7リザリン、アリザリンレッド8、アリザリンブ
ルー8%アリザリン 8、アリザリンボルドー、7ンFラキノンーαースルホ
ン酸、7ントラ命ノン−!ースルホン酸、77F9會ノ
ン−1,s−ジスルホン駿、7ンシラキノンー1.8−
ジスルホン酸、アントラキノン−亀6−シスルホジ°駿
′%7ントラ中ノ′ンー龜7−ジスルホン酸、及びそれ
らの塩、オ命ジアゾ色素類としてはエリオタームグラフ
/T、エリオタームブラックム轡がある。
上記金属キレート化剤は単m″t%あるいは適轟な組み
金せで本偉−に用いられる。
本殆−の金属ms形成材料紘上遮の金属と、金属キレー
ト化剤とが支持体上に真!11111饋によりて温在層
が形成されたものであるが、この真!1着機はいわゆる
同時蒸着と称せられる方決を用いればよい、すな゛わち
蒸着すぺ龜金属と金属キレート化剤とをそれぞれ真s1
m着装置の別個の菖IIIIkl装置し、それぞれの、
1g1m*置くよってそれぞれ蒸殆温直kまモ加熱して
お亀、それらの原発源から蒸着すべき位at配置された
支持体に同時Km発をおこなえば・よい、場合によって
は*@以上の蒸発物質を岡−蒸畿源から3111発させ
てもよい、い′ずれの場合で4蒸着された層紘金属と金
属今し−)化剤とが同時に蒸着されるので、金属と金属
キレート化剤とが混合した状態で形成される。この混合
の割合および層厚は目的に応じて任意に選ぶことができ
る。混合の割合は金属と金属キレート化剤とをそれぞれ
単独に蒸着して層を形成した場合の層厚比に換算すると
、金属キレート化剤の比率紘金属に対して0.−41〜
5倍の範囲がよく、特に0.1〜2倍が好ましい、また
本発明の金属l11g1形成材料においてはfI&在層
の厚さは一般に20nmから3000mmlljlで゛
あるが、蒸着物質の光学的性質やその他の物理的あるい
は化学的性質によっであるいは金属−II勢成材料の用
途に応じて、適幽に層厚を決めることかで龜る。
上記のとと自問時蒸着法により形成された金属−一属キ
レー、F化剤混在蒸着層の構造は明らかで鉱ない、金属
と金属キV−)化剤とが互に反応して別の化合物を生成
する。単に均一な分子状分散である、粒状の混合物受あ
る。一方嬰他方の母体中に粒状に分散している、な?!
種々の構造が考えられるが、本1ik@IIcおい【は
、いずれの構造であるに姥よ、所望の光学−直及び後述
する腐蝕性、接着性等が満足すぺ116件を持つならは
構造は制@されるものではな−い、なお、本@@Kmい
て蒸着と線、通常の抵抗1lIII&方式の真空蒸着法
atちろん、電子ビーム加熱蒸着法、スパッタリング法
イオンプレーティンダ法等を含むものである。
寧発−において、前述の金属−金属中レート化銅srs
着層を設けるための支持体は、その上に直接あるいは間
接(他の層を介して)K設けられる圃曽潜成層としての
金属−金属キレート化剤渦在蒸着層を保持するもので島
りて、それを用いて構成される本脅−の金属−an威材
輯の用途を考慮して舎種の形態のものとすることがで會
る。そして、板状、シーF状また紘フィルム病上いりた
形態のものか好適であり、七の用途によりて逓−なもの
、半透−なものあ111〜1線不逓−なものとすること
かで魯る。そして支持体は金属−命属中し−)化剤ar
m着層を腐蝕させるエツチングilK侵されず、かつエ
ツチングによりその上に軟1すられている層が剥離した
り剥離し墨(なまたりするような層に対する接着力が劣
化してしまうものであってはならない。
支持体の素材としては、従来公知の多くのものが用いら
れ、たとえば陶磁器、無定形ガラス、結晶性ガラス、金
属1合金、プラスチック及びこれらの複合材料などを挙
げることかで龜る。これらの素材は不透明なもの中透明
なものもあるが、必ll!によっては透明なものに着色
剤中不透明化剤を加えて牛透明化あるいは不透明化させ
ることかで龜る。
前述のごとくして、支持体上に金属−金属中レート化剤
渦在蒸着層を設けたのち、その上KIkmされる感光性
樹脂層は1g1来会知の種、々のレジスト形成用感光性
樹脂を利用して形成で自る。この感光性樹脂は輻射線(
近紫外線または可視光)の照射を受けると短時間の5ち
にその分子構造が化学的に変死し、それに伜なり1cl
I*に対する*m性また紘粘着性といった物理的性質が
変化するそツマ−、プレポリマー、及びポリマーなどの
化合物及び組成物をすべて包含する。(なお、「感光性
樹脂」の概念中に上記のこと禽モノマー中プレポリマー
が會まれるこi紘轟徴界においては常識であるψそして
上記の感光性樹jlaその現像の態様からIlm(II
剤)″による**臘と剥離層のものに大別され、さらに
それぞれポジディプワーキング履と卑ガティプシーキン
グIIIK分額されることができ、さらに化学変化の内
容から、輻射線の照射を費けると金属イオンを介して架
橋反応をするもの中、それ自体が二量化する光架橋渥感
光性樹脂:S射線の照射な費けると、共に存在する光分
解性物質が分解し、その分静物を介して架橋反応をする
もの、及び輻射−の照射を*亀すると重合を開始するも
のに分類されることができ、これらは本実−の金属画儂
形成材料を調製するために用いられる。これらの感光性
樹脂層それぞれ公知の多くのものがあるが、感光−性レ
シスト展を形成し得る今後−発される感光性樹脂もその
区分を問わず全知のものの場合と食(同様にして本発明
の金属−II形威材料に適用され鳴ることは貫5までも
ない。
感光性樹脂の実−?値層上町らは、化学炭化の内容から
の分類よりは七の**の態様からの分類K1111して
、用いられる感光性樹脂を与ることがよい。jlK説明
すると、漕剤溶湊瓢の層をつくる感光性樹脂の場合、ポ
ジティブワニキング臘は例えば0−Φノンジアジド1l
IIKみられるように光照射により分解してカルボキシ
基な有する五員穣化合−を生成してアルカリIIK可*
mとなり、アルカリwLKよる現像によって露光部分の
IIIIir層が除去され、未露光部分の感光性樹脂層
が所望の画線部を形成して残留するように作用する臘で
あり、一方、ネガティプシー會ングーはシンナ毫イル基
こジアゾニウム基等で代表される光架橋、およびアクリ
ルア1ド、アクリル酸エステルで代表される光重合に見
られるように光照射により、分子の巨大化や網目構造の
形成によって不接化する4のであって、適轟な現像液を
用いるととによって、感光性樹脂層の未露光部分をWI
IX牽し、不溶化した露光部分が所望の画一部を形成し
て残留するように作用する臘である1 本発明に用いられる感光性樹1の例は、IIJIaシた
轡−@5a−syss’寺会報に記蛎のものIIIIが
あり、それらの特性の1置を考慮して適宜選択すること
がで自る。
これらの感光性樹脂層、通當紘倫の成分と組合せられて
親戚物として筐体またall1体のものと4っているが
、液体のもの社あらかじめ調製し:Cおいた支持体上に
設けられている金属−命属命し−ト化剤I&在蒸着層ま
たは諌層上に設げられた中間補助層の上に塗布し、乾燥
せしめ、通常フィルム状に加工し【ある固体のものは同
様に七れらの上に重ね合せ、必要により加熱して圧着す
るのである。また他の形態の固体のものは有楓椿剤KI
N湊して**となし、これを塗布する。これらの感光性
樹脂層の形成方法としては、従来全知のものを同様に適
用すればよい。
本発明の金属画像形成材料には、必IIKより/−レー
ジ冒ン防止層中保■層を設置するなど、写真感光材料に
おいて通常施されているような部層を施しておくことも
で自る。
以上のようKll遣された本発明の金属−1I形虞材料
に画儂を形成させるKは、所望の画會を有するマスクを
原稿として用いて金属m儂形成材料に像露光を行ない、
該材料の感光性樹脂層を上記の画侭に対応して1iii
儂状に潜儂を生ぜしめ、これをyA偉して樹脂層の1滴
部分を溶解して除去し、あるいは現−後剥一可能な部分
を剥離して除去し、それKよって生じたレジストのない
内部が露出した部分からエツチングによりその部分に存
在する金、属−金属中レート化銅混在蒸着層を溶解して
除去し、最後にレジストとして存在する樹脂層を除去し
てもよい。
このIli儂形酸形成方法いて所望の画儂を有するマス
ク原稿を用いて酸霧先行な5には、従来写真処理におい
て通常行なねれているように暗室内に′おいてネガ原稿
またはポジ原稿を通過した光を一倫形成材料の感光層に
照射する。多くの感光性樹脂は特に紫外1aK対して高
い感度を有するので、そ・の−の光源としては超高圧水
銀灯、4七ノンランプ、カーボン7−り灯、あるいはケ
ミカルランプなど紫外線を多量に含むものが連通であり
、I富内の安全灯として紘黄−°灯を使用することがで
自る。
會露光によりて感光性樹脂層K11llが構威され。
この潜像は感光性樹1が溶剤SS*のものの場合。
ポジティブワーキング履では非露光部分の樹脂層は溶剤
に対して不溶性のまま臘存するが、露光部分はll1l
IK対してJ&溶性にな9、一方、ネガティグワーキン
グ履では非露光部分の樹脂層は嬉@に対してS郷する性
質を保持し、露光部分が硯化して不活性になるという樹
脂層の露光部分と非露光部分の溶剤に対する溶解性の差
違によって形成されているものである。ここで接剤とし
ては水、水。
性SS及び有機溶媒を含めている。
一般にポジティブワーキング履の露光部分嬬アルカす回
置性になり、ネガティブワーキング履の露光部分は、水
また紘有機溶剤に不1111になる。
従ってこの潜像を現金するには、潜像の露光部分を非露
光部分にりいてそれヤれ溶解性の有無の暢達を示す溶剤
Vcsewを一触・させる、市販の感光性樹lを用いる
場合は指定の現像値があるので、それを使用すればよい
、するとポジティブシー命ング渥の場合は、非露光部分
に感光性樹脂層が残雪し、ネガティプシーヤング飄の場
合は露光部分KII化した樹脂層が残留して画線部を形
成し、接解された部分の非画綜郁には金属−金属中レー
ト化銅混在蒸着層が露出する。他方、感光性樹脂層を剥
離する腫のものの場合の潜1は、ポジティブクーキング
巌であると非露光部分の樹脂層はその上層として設けら
れている剥離材料に対する接着力よりも支持体上−に設
けられている金属−金属今し−ト化銅拠在蒸着層に対す
る接着力の方が大暑いと〜・う性質を保持し、露光部分
の樹脂層は上記の後者の接着力よりも前者の接着力の方
が大暑いという性質に変化し、ネガティブワーキング巌
であると、非露光部分の樹脂層はそれ自体が有する剥離
材料に対する接着力よりも金属−金属命し−ト化銅混在
蒸着層あるいはそれらの上に設げられた補助層に対する
接着力の方が大暑いという性質を保持し、露光部分の樹
脂層は、上記の後者の接着力よりも前者の接着力′tI
)′方が大暑いという性質KIIE化するという感光性
樹脂層の隣接する層に対。
する鎖着性の差異によって形成されたものである。
従ってこの1IIIIt−現像するKa感感性性樹脂層
上書着させた―−材粁セ感**樹麿層から剥離すればよ
い。゛その剥離後層、金属−金属キレート化銅混在蒸着
層またはそれらの上に設けられた補助層上に感光性樹脂
層がiis状に残存し、これがレジストを構成する。
次いでこの金属iii**威材料を金材料金属キレート
化銅a*菖着層の腐蝕液中にこれを浸漬することkより
露出した金属−金属キレート化銅I&在蒸着層を腐蝕す
ると、その部分の金属−金属キレート化剤混在墓着層は
除去されて支持体が露出するが、一方残留した樹脂層は
この腐蝕に対するレジストになり、その下部の金属−金
属中レー゛ト化銅拠在蒸着層は腐蝕されずkill奮し
、金属−金属キレート化銅混在蒸着層の厚さによって定
まる光学l&度を保有した画一部が形成される。なお、
金属−金属今し−ト化銅楓在墓着層の腐蝕液としては従
来全知のアルカリ、酸1.酸化剤本sW1等が用いられ
る。
以上社線光性樹脂を露光現像して耐蝕膜を形成した後に
露出した金属−金属今し−ト化銅i&在蒸着層なさらに
腐蝕する一二段の工場を必要とするブーセスである。
しかし、すでに述ぺたごとく感覚性樹脂の中に線露光後
、例えばアルカリによる現像が可能なものもあり、この
様な感覚性樹脂を利用する場合は露光後の感光性樹脂の
現IIKより耐蝕性パターンを形成すると同時に1金属
−金属今し−ト化銅滉在蒸着層を腐蝕して画像を得る一
段の工@、すなわち一浴の**腐蝕が可能である。
本発明の金属mII形成材料は、金属−金属キレート化
銅1在蒸着層が殻けられているので、初めから所定の光
学l&変を有し、かつ画gII形成に紘優れた解像性を
現出する感光性樹脂層の腐蝕(エツチング)が利用され
るので、得られる画像は高度のコントラストと解像性を
有し、また金武単独層に比較して金属−金属命し−ト化
銅I&在蒸着層の方が社るかに&好な腐蝕性を示す。こ
こで、腐蝕性とは腐蝕に要する時間と腐蝕された部分の
シャ−プネスを意味していビ。
以下、実施例を挙げて本員−を例証するが1本発明の実
施態様はこtらに@定されない。
実施例1 真!2!真着義置内の亙に区画された位置に設電された
2つの蒸発源に、それヤれアル1:&りムとア/トラキ
ノン−2,6−ジスルホン酸とを配置し、真空1111
! 5 X 10−’ Torr のもとで、厚さ10
0JIsnのポリエチレンテレフタレートフィルム(支
持体)上に、膜厚にしてアルjs−ウム600λ、アン
)ツキノン−2,6−ジスルホン酸60.OAの混在蒸
着層を形成した。
この蒸着膜上に下記の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚
が2.0μmとなるよう゛にホワラーIk廖し、Zoo
℃乾燥器中で5分間乾燥した。
このようにして得られた金属画像形成材料の試料な明寓
プリンターUP−6(31#メタルノーライドランプ、
上針化学II)を用い、網点原稿を通して20秒間パタ
ーン露光し、0.INの水酸化ナトリウム水**中に浸
漬したところ、液温25℃、浸漬時間15参において、
未露光部の蒸着層は完全に除去される一方、露出部の金
属層i原稿とは埋完金に明暗が逆転し、エッヂのシャー
プネスが棗好な画像が得られた。
本実施儒によりて得られた画像の光学**は3.0以上
であり、解偉力aioo本/−以上であった。
実施例2 実1例1と同様の方法により7・ルlニウムと4−ニド
p−2−アlノフエノールを、厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルム(支持体)上に、膜厚に
してアル°ミエウム600A、 4−=トa−2−アミ
ノフェノール400ムの混在蒸着層を形成した。
この蒸着膜上KAZ−1850ポジティブツーキング瀝
フォトレジスト(8hlpl@y社製感光液)をホワラ
ーによりて塗布−慟した。
このようにして得た試料を実施例1と同様に露光シ、A
Z−Is’!to″mii**″cm像すると、感光性
樹脂層Kriポジ原稿に対応した画像レジス)が形成さ
れた。
次いで、この試料なOINの水酸化ナトリウム水濤諌中
に浸漬したところ、液温!lit、浸漬時間10験でレ
ジスFのない非膳像部分の蒸着層が腐蝕し除去された。
得られた画像の光学饋直は3.0以上であり、鱗像力は
100本l−以上でありて、画像エッヂのシャープネス
も良好であった。
実施例3 実施例1と同様の方法によりビスマスとクエン酸を、厚
さ1100j1のポリエチレンテレフタレートフィルム
(支持体)上に、膜厚にしてビスマス1500λ、クエ
ン酸?00Xの混在蒸着層を形成した。
この蒸着膜上に実施例2と岡IIK感光性ll1fi1
層を設け、露光、 1lL11L、画像レジスジを形成
した。
次いで、この試料を6j1塩化第雪鉄水1111[K浸
漬したところ、液温25℃、浸漬時間10秒におい【レ
ジストのない非画像部分の蒸着層が腐蝕し#IX膏され
た。得られた画ll4)党学濃直紘3.0以上であり、
湊像力a100本/−以上であって、画像エッヂのシャ
ープネスも良好でありた。
比較f11 実施例1と同様ICシーC,厚さ100#mのポリエチ
レンテレフタレートフィルム(支持体) 上に、のI&
1!−着層を岸威し、感光性樹脂組成物を塗設した金属
−**威材料を得た。
次いで、実施例1と同様に露光し、0.INの水酸化ナ
トリウム水II箪中Kll潰したところ、液温2!s℃
、浸漬時間90秒で画像が得られたが、画像ka量イド
エヤチ現象がみられた。
特許出願人 小雨六オ真工桑株式会社 代聰人・弁理士 I[′0411B (fin−1名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 支持体上に感光性樹脂層が設電すられておりこかつ鋏支
    持体と腋感光性樹脂層との関に、金属、と下記金属中レ
    ート化剤の群から選ばれた少くとも1種の化合物とが濫
    在する蒸着層が設けられていることを特徴とする金属画
    像形成材料。 〔金属中レート化剤〕 天然アミノ駿およびベプチ)′
    ■、オ命シ酸s1纏舎リン酸類、ニド−カルボン酸−、
    サリチルアルデヒド類、/−ジケトン類、フェノール霞
    導体@、ナフタレン−導体類、オ中ジアゾ色素類および
    アントラキノン誘導体−0
JP56181748A 1981-11-14 1981-11-14 金属画像形成材料 Granted JPS5883843A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56181748A JPS5883843A (ja) 1981-11-14 1981-11-14 金属画像形成材料
US06/439,427 US4455364A (en) 1981-11-14 1982-11-05 Process for forming metallic image, composite material for the same
GB08232192A GB2113152B (en) 1981-11-14 1982-11-11 Process for forming metallic image composite material for the same and treating solution for the same(
DE19823241980 DE3241980A1 (de) 1981-11-14 1982-11-12 Verfahren zur erzeugung eines metallischen bildes sowie verbundmaterial und behandlungsloesung dafuer
GB8428641A GB2156088B (en) 1981-11-14 1984-11-13 A composite material for forming metallic images
GB08428642A GB2155861A (en) 1981-11-14 1984-11-13 A treating solution for use in forming metallic images

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56181748A JPS5883843A (ja) 1981-11-14 1981-11-14 金属画像形成材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5883843A true JPS5883843A (ja) 1983-05-19
JPH0145897B2 JPH0145897B2 (ja) 1989-10-05

Family

ID=16106187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56181748A Granted JPS5883843A (ja) 1981-11-14 1981-11-14 金属画像形成材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5883843A (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50139720A (ja) * 1974-04-25 1975-11-08
GB1434894A (en) * 1974-03-01 1976-05-05 Pennwalt Corp Aluminium etching
GB1562586A (en) * 1978-05-12 1980-03-12 Pennwalt Corp Aluminium etching
JPS569736A (en) * 1979-07-04 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive image forming material
GB2067958A (en) * 1980-01-24 1981-08-05 Albright & Wilson Etching composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1434894A (en) * 1974-03-01 1976-05-05 Pennwalt Corp Aluminium etching
JPS50139720A (ja) * 1974-04-25 1975-11-08
GB1562586A (en) * 1978-05-12 1980-03-12 Pennwalt Corp Aluminium etching
JPS569736A (en) * 1979-07-04 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive image forming material
GB2067958A (en) * 1980-01-24 1981-08-05 Albright & Wilson Etching composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0145897B2 (ja) 1989-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4506006A (en) Process for preparing relief images in imaged irradiated light-sensitive material having acid-cleavable compound by hot air treatment, overall irradiation and alkaline development
US4455364A (en) Process for forming metallic image, composite material for the same
CA1088799A (en) Metal image-forming material having an interlayer of aluminum/iron alloy
JPS6249614B2 (ja)
JPS6249615B2 (ja)
JPS5821257B2 (ja) キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ
JPS6039641A (ja) ネガチブレリーフコピーの製造方法
JPS6131860B2 (ja)
DE1120273B (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE2202360A1 (de) Lichthaertbares material
SU948301A3 (ru) Светочувствительный материал дл получени изображений
US4581308A (en) Process for preparation of a masking element for forming a multicolor printing plate
US4331479A (en) Process of using light-sensitive o-quinone diazide material to make aluminum oxide nameplate
JPH06273867A (ja) 画像形成材料及びそれを使用する画像形成方法
JPS5883843A (ja) 金属画像形成材料
DE2335072B2 (ja)
EP0161870B1 (en) Highly photosensitive aqueous solvent-developable printing assembly
JPS6136750A (ja) ダイレクト製版材料
JPS61252546A (ja) 感光性レジストインク,それを用いたps板の製造方法およびそのps板の蝕刻方法
US4292393A (en) Photosensitive image forming materials
CN1227637A (zh) 含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物
JP3263219B2 (ja) 水性塗料の画像形成方法
JPS58168597A (ja) 感光感熱記録材料
US5306595A (en) Composition containing naphthoquinone diazide sulfonic acid mixed esters and radiation-sensitive recording material prepared therewith
JPS6124451A (ja) ダイレクト製版材料及びその製版方法