JPS61252546A - 感光性レジストインク，それを用いたｐｓ板の製造方法およびそのｐｓ板の蝕刻方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は基板上にスクリーン印刷することの可能な感光
性レジストインク、該インクをスクリーン印刷により基
板表面に塗布してＰＳ板を製造する方法、およびこのＰ
Ｓ板を用いた蝕刻方法に関する。

（従来の技術） 金属板、金属ラミネート板などの基板表面にレジスト画
像を形成したのち、腐食液を用いて蝕刻するケミカルエ
ツチングの手法は、配線用プリント基板をはじめ、各種
電子部品９時計の部品などの精密部品の調製に利用され
ている。腐食される金属には銅、銅合金、鉄、鉄合金、
クロム−ニッケル鋼、コバルト−ニッケル鋼などがある
。

基板のこれら金属表面にレジスト画像を形成するには、
（１）レジストインクを用いてスクリーン印刷により基
板表面に画像を形成する方法；または（２）基板表面に
感光剤の層を形成し、得られたＰＳ板に所望のパターン
を有するポジもしくはネガフィルムを載置し、露光処理
に供してのち現像して画像を得る方法がある。（１）の
スクリーン印刷によりレジスト画像を基板上に直接形成
する方法は。

操作が簡単であるため生産性が高い。しかし、スクリー
ン印刷にはテトロンやステンレスの紗が用いられるため
、印刷された画像にスクリーンメツシュ跡が残る。紗の
メツシュを小さくしてもスクリーンメツシュ跡は避けら
れない。そのため、微細なエツチング画線を得るのが難
しい。他方、（２）のＰＳ板上の感光層は解像力が高く
、微細かつ精緻なエツチング画線が得られる。このよう
°なＰＳ板は次のような方法により得られる： （ウェブ状のＰＳ板の感光剤塗布法） ■グラビア塗工法、ナイフコーター法、ロールコータ−
法およびバーコーター法：これらは、いずれも、基板表
面にコーターを用いて塗工する方法であり、ロール状と
した長尺（ウェブ状）の基板表面に感光剤を塗布するの
に適している。しかし、これら方法を実施するための装
置は大型であるうえに、除埃設備が必要である。そのた
め１枚葉のＰＳ板を製造する方法としては、不適当であ
る。

■ディッピング法：この方法は、基板を感光液に浸漬し
て感光層を形成する方法である。基板の両面に感光層を
形成するのに適している。特に。

ウェブ状の基板を連続的に感光液に浸漬・乾燥するのに
好適である。しかし２枚葉の基板の場合には乾燥中に感
光液のたれが生じ、感光層の厚みが不均一になる欠点が
ある。このような感光層は解像力にもバラツキを生じる
。

（枚葉のＰＳ板の感光剤塗布法） ■スピンナー塗工法二基板をスピンナーにとりつけ９回
転させなから感光液を回転の中心に滴下すると感光液が
遠心力により外側に広がるため基板上にコーティングさ
れる。均一な厚みを有し。

薄く１表面の平滑な感光層が得られる。このような感光
層は解像力に優れる。しかし、基板を１枚ずつスピンナ
ーに取りつける必要があるため、大量のＰＳ板を短時間
で得ることが難しい、遠心力を利用して感光液を塗布す
るため、感光液の１／２が飛散して無駄になる欠点もあ
る。

■ドライフィルムを用いる方法：あらかじめポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどの表面に感光
液をコーターで塗布しておく。このような感光層を有す
るフィルムはドライフィルムと呼ばれ１例えば、デュポ
ン社から発売されている。このドライフィルムの感光層
を熱転写により基板表面に転写する。ユーザー側では熱
転写という操作を行うだけで均一な感光層を有するＰＳ
板が得られる。しかし、ドライフィルムが高価であると
いう欠点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記従来の欠点を′解決するものであり。

その目的とするところは、解像力の高゛い枚葉のＰＳ板
を製造するための感光性レジストインクを提供すること
にある。本発明の他の目的は、このようなＰＳ板を効率
よ（かつ安価に製造する方法を提供することにある。本
発明の他の目的は、上記価れたＰＳ板を用いた蝕刻方法
を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明は感光性を有するレジストインクを調製し、これ
を基板表面にスクリーン印刷の手法を用いてベタ刷り塗
工すれば、効果的に枚葉のＰＳ板が製造されうるとの発
明者の知見にもとづいて完成された。そえゆえ１本発明
の感光性レジストインクは、感光剤および該感光剤の共
存下で露光により現像液可溶性もしくは不溶性となる樹
脂を含むフォトレジストまたは感光性樹脂を含むフォト
レジスト、および体質顔料を含有しており、該インクは
スクリーン印刷され得、そのことにより上記目的が達成
される。

本発明のＰＳ板の製造方法は、（１）感光剤および該感
光剤の共存下で露光により現像液可溶性もしくは不溶性
となる樹脂を含むフォトレジストまたは感光性樹脂を含
むフォトレジスト、および体質顔料を含有する感光性レ
ジストインクを得る工程；および（２）該インクを少な
くとも一方の表面が金属である基板上にスクリーン印刷
により塗布する工程；を含有し、そのことにより上記目
的が達成される。

さらに１本発明のＰＳ板の蝕刻方法は、（１）感光剤お
よび該感光剤の共存下で露光により現像液可溶性もしく
は不溶性となる樹脂を含むフォトレジストまたは感光性
樹脂を含むフォトレジスト、および体質顔料を含有する
感光性レジストインクを得る工程口２）該インクを少な
くとも一方の表面が金属である基板上にスクリーン印刷
により塗布しＰＳ板（ｐｒｅ−ｓｅｓｉｔｉｚｅｄ　ｐ
ｌａｔｅ　）を得る工程；（３）上記工程で得られたＰ
Ｓ板表面に所望のパターンを有するポジもしくはネガフ
ィルムを載置して光照射する工程；（４）光照射後のＰ
Ｓ板を現像液で現像しレジスト画像を形成する工程；お
よび（５）該レジスト画像の形成されたＰＳ板をエツチ
ング処理する工程；を包含し、そのことにより上記目的
が達成される。

本発明の感光性レジストインクに用いられるフォトレジ
ストとしては９通常のポジティブ作用レジストまたはネ
ガティブ作用レジストが用いられる。ポジティブ作用レ
ジストは、露光前には現像液に不溶であるが、露光によ
って化学変化を受は該現像液に可溶となる。ネガティブ
作用レジストは、逆に露光によって現像液に不溶となる
性質を有する。いずれのフォトレジストもエツチング液
に対して充分な耐食性を有し、かつ、エツチング操作後
には容易に剥離できるものが用いられる。

ポジティブ作用レジストに含有される感光剤には１例え
ば、ジアゾ化合物に分類されるＯ−キノンジアト化合物
がある。このような化合物は９通常、アルカリ可溶性樹
脂とエステルを形成している。このような樹脂には２例
えば、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、クレゾール樹脂
、ポリ−ｐ　−ヒドロキシスチレン°、スチレンーマレ
イン酸共重合性樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂などが
ある。

上記樹脂とエステル結合した化合物としては１例えば、
２・３・４−トリオキシベンゾフェノン−ビス−〔ナフ
トキノン−１・２〜ジアジド〕−５・５−スルホン酸エ
ステル、ナフトキノン−１・２−ジアジド−５−スルホ
ン酸ノボラックエステルがある。これらは、そのままで
ポジティブ作用レジストとして利用され得、さらに必要
に応じて上記アルカリ可溶性樹脂が添加きれる。

上記既知のポジティブ作用レジストのほかにも。

本発明者が開発した新規なポジティブ作用レジストが好
適に利用される。このフォトレジストに含まれるレジス
ト樹脂としては、置換フェノール類とアルデヒド類との
重縮合樹脂（１）および／または置換ｐ−ヒドロキシス
チレン重合体（Ｕ）がある。

（ここで、Ｒ８およびＲ２は炭素原子数１〜１０の炭化
水素基または水素原子を表す。ｎは整数である。） （以下余白） ０Ｈ （ここで、Ｒ１は水素原子、炭素原子数１〜１０のアル
キル基またはハロゲンである。

ｎは整数である。） ポジティブ作用レジストに含まれる感光剤としては、下
記式で示される芳香族ジアゾニウムテトラフルオロボレ
ート（■）、芳香族ジアゾニウムヘキサフルオロホスフ
ェート（ｒＶ）および芳香族ジアゾニウム置換スルホネ
ート（Ｖ）の少なくとも一種がある。

（ここで、　Ｒ４およびＲ２は水素原子、炭素原子数１
〜１０のアルキル基またはアルコキシ基；Ｒ４は炭素原
子数１〜１０の置換アミノ基９モルホリノ基、フェニル
基、置換フェニル基、ピロリジノ基またはトリルメルカ
プト基である。） Ｉ （ここでｒ　Ｒ？およびＲ３は水素原子、炭素原子数１
〜１０のアルキル基またはアルコキシ基ｉＲ９は炭素原
子数１〜１０の置換アミノ基１モルホリノ基、フェニル
基、置換フェニル基、ピロリジノ基またはトリルメルカ
プト基である。） （以下余白） Ｉ６ （ここで＋ＲＩ。およびＲ１１は水素原子、炭素原子数
１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基；Ｒ＋ｚは炭
素原子数１〜１０の置換アミノ基、モノホリノ基、フェ
ニル基。

置換フェニル基、ピロリジノ基またはトリルメルカプト
基；Ｒ１，は炭素数１〜ｌＯのアルキル基、アルケニル
基、フェニル基、置換フェニル基またはナフチル基であ
る。） （ＩＩＩ）式で示される化合物には２例えば、　　ｐ　
−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムテトラ
フルオロボレート、４−モルホリノ−２・５−ジブトキ
シベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート、４−
　（４’−メトキシ）−ベンゾイルアミノ−２・５−ジ
ェトキシベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート
、４−モルホリノ−２・５−ジェトキシベンゼンジアゾ
ニウムテトラフルオロボレート、４−モルホリノ−２・
５−ジイソプロポキシベンゼンジアゾニウムテトラフル
オロボレー）、ｐ−Ｎ−Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジ
アゾニウムテトラフルオロボレート、４−モルホリノベ
ンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート、４−ピロ
リジノ−３−メチルベンゼンジアゾニウムテトラフルオ
ロボレート、　　４−　（ｐ−トリルメルカプト）−２
・５−ジェトキシベンゼンジアゾニウムテトラフルオロ
ボレート、１−（ジフェニルアミノ）−４−ベンゼンジ
アゾニウムテトラフルオロボレート、ジアニシジンテト
ラゾニウムテトラフルオロボレートがある。（ＩＶ）式
で示される化合物としては上記（Ｉ［［）式で示される
化合物のＢＦ、がＰＦ、となったもの（例えば。

ｐ　−Ｎ　−Ｎ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウム
へキサフルオロフォスフェート）が挙げられる。

（Ｖ）式で示される化合物としては２例えば、ｐ−Ｎ−
Ｎ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムベンゼンスル
ホネート、４−モルホリノ−２・５−ジブトキシベンゼ
ンジアゾニウムｐ’　　−）ルエンスルホネート、４−
モルホリノ−２・５−ジイソプロポキシベンゼンジアゾ
ニウム−１−ナフタレンスルホネートおよび４−ピロリ
ジノ−３−メチルベンゼンジアゾニウム−ｐ−スチレン
スルホネートがある。。

上記ジアゾニウム塩（ＩＩＩ）〜（Ｖ）はレジスト樹脂
（１）（ｎ）１００重量部に対して２〜３０重量部の割
合でフォトレジスト中に含有される。このようなフォト
レジストは既知の０−キノンジアジド化合物に比べて感
度が高く、かつ安価に得られるのでポジティブ作用レジ
ストとして好適に利用されうる。・ 他方、ネガティブ作用レジストも既知のレジスト組成物
が利用されうる。ネガティブ作用レジストは現像液の種
類により三種類に大別される。現像液としては、アルカ
リ水溶液、有機溶剤または水が利用される。

現像液としてアルカリ水溶液を用いる場合には。

感光剤としては芳香族アジド化合物が好適に用いられる
。このような化合物としては１例えば、４・４”　−ジ
アジドスチルベン−２・２゛　−ジスルホン酸アニリド
、４−アジド−１−フェニルアミノベンゼン−２−スル
ホン酸アニリドがある。レジスト樹脂としては、アルカ
リ可溶性ノボラック樹脂、クレゾール樹脂、ポリ−ｐ−
ヒドロキシスチレン、スチレン−マレインＭ共を合［ｄ
ｌＬ　ｌ：１ジン変性マレイン酸樹脂などがある。

現像液として有機溶剤を用いる場合には、感光剤として
芳香族アジドを、レジスト樹゛脂として環化ゴムを含有
する環化ゴム系フォトレジストなどが利用されうる。フ
ォトレジストとして樹脂自体が感光性を有する桂皮酸エ
ステル樹脂も好適に利用されうる。

現像液として水（消泡のために、水に対して５〜５０−
ｔ％の割合でアルコール類を添加してもよい）を用いる
場合には、感光剤としては重クロム酸塩。

ジアゾ化合物、テトラゾニウム塩、芳香族アジド化合物
などが用いられる０重クロム酸塩としては重クロム酸カ
リウム、重クロム酸アンモニウムなどが用いられる。ジ
アゾ化合物には９例えば、ジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム塩ホルマリン縮合樹脂、ジメチルアニリン−４
−ジアゾニウム塩ホルマリン縮合樹脂、２・５−ジメト
キシフェニルモルホリン−４−ジアゾニウム塩ホルマリ
ン縮合樹脂がある。テトラゾニウム塩としては１例えば
、３・３−ジメトキシジフェニル−４・４”−ビスジア
ゾニウムクロリド塩化亜鉛複塩、３・３′　−ジエチル
ジフェニル−４・４′　−ビスジアゾニウムクロリド塩
化亜鉛複塩がある。芳香族アジド化合物としては、６−
アジド−２−（４°　−アジドスチリル）ベンズイミダ
ゾール、４・４゛−アジドスチルベン−２・２”　−ジ
スルホンアミドなどが挙げられる。レジスト樹脂として
はポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール。

カゼイン、ニカワ、ポリビニルピロリドン、卵白。

アルブミンなどが挙げられる。

フォトレジスト中の感光剤とレジスト樹脂との割合は、
上記いずれのフォトレジスト（ポジティブ作用レジスト
およびネガティブ作用レジスト）においてもレジスト樹
脂１００重量部に対して感光剤が５〜５０重量部である
。アルカリ性水溶液で現像されうるフォトレジストの場
合はレジスト樹脂１００重量部に対して感光剤が、好ま
しくは、１０〜３０重量部の割合で含有される。水で現
像されうるフォトレジストの場合は感光剤が、好ましく
は５〜１５重量部の割合で含有される。感光剤の量が過
少であると露光による光分解もしくは光硬化が充分に起
こらず、そのため現像が困難になる。過剰であると感光
剤自体のもつ色が紫外線をさえぎるため、かえって感度
が低くなり長時間の露光を必要とする。

上記フォトレジストに加えて９本発明の感光性レジスト
インクには９体質顔料が含有される。体質顔料とは有機
物もしくは無機物の微細粉末で。

インクに適当な粘度、流動性およびチキソトロピー性を
付与する目的で添加される。このような体質顔料として
は、露光後の現像性や像の再現性に悪影響を与えず、か
つ現像液やエツチングの際に用いる腐食液に対して耐蝕
性のある物質が用いられる。そのような体質顔料として
は、沈降性硫酸バリウム、タルク、シリカ、カオリン、
有機ベントナイト、ベンゾグアナミン樹脂などが挙げら
れる。有機ベントナイトとはケイ酸アルミニウムを有機
物でコーティングしたものである。上記体質顔料はイン
ク中に樹脂固形分１００重量部に対して２０〜３００重
量部の割合で、好ましくは、６０〜２００重量部の割合
で含有される。体質顔料の量が過少であるとインクの粘
度が低くなるため、スクリーン印刷が困難になる。逆に
、過剰であってもインクの粘度が高くなりすぎるため、
スクリーン印刷が困難になる。

感光性レジストインクに含有される溶剤としては、樹脂
と感光剤とを溶解することが可能で、かつスクリーン印
刷時やレジスト乾燥時に適度に揮発しうる中〜高沸点の
有機溶°剤が用いられる。このような溶剤としては、ブ
チルセルソルブ、セルソルブアセテート、カルビトニル
などが好適に用いられる。溶剤の量は樹脂、感光剤２体
質顔料および溶剤の種類や量によって異なるが９通常、
樹脂固形分１００重量部に対して５０〜１５０重量部の
割合である。溶剤の量が過少であっても過剰であっても
インクの適度な流動性が得られない。

本発明の感光性レジストインクは２次のようにして、調
製される二上記溶剤に、まず、上記フォトレジスト（感
光剤およびレジスト樹脂）を溶解し樹脂溶液（ビヒクル
）を調製する。これに体質顔料、必要に応じて２着色顔
料や染料を加えてニーグーで混練し、三本ロールなどを
用いて顔料を充分に分散させる。上記着色顔料や染料は
レジスト画像を見やすくする目的で添加される。さらに
。

可塑剤、消泡剤などの助剤が添加されうる。

このようにして得られた感光性レジストインクは２通常
のスクリーン印刷の手法により基板の金属表面に塗布さ
れ、ＰＳ板が調製される。基板の種類は、目的に応じて
異なるが２例えば、プリント配線基板を得る場合には、
エポキシ樹脂やフェノール樹脂板表面にｗ４箔がコーテ
ィングされた基板が用いられる。

得られたＰＳ板に蝕刻を施すには、まず、所望のパター
ンを有するポジもしくはネガフィルムを載置し、光照射
（通常、紫外線照射）を行う。光照射によりレジスト中
に含有される感光剤が化学変化をおこす。例えば、光分
解性感光剤である０−キノンジアジド化合物は開環して
カルボン酸を生じ、アルカリ可溶性となる。そのため、
レジストが現像液であるアルカリ水溶液に溶解可能とな
る。また、芳香族アジド化合物は、アジド基が分解して
レジスト樹脂からの水素の引抜き反応が行われる。その
ため分子量が太き（なり、現像液に不溶となる。このよ
うに、光照射により特定の溶剤に対して可溶もしくは不
溶となるため、現像によりレジスト画像を得ることがで
きる。レジスト画像の形成された基板は９次いで、腐食
液を用いてエツチング処理に供される。水で現像されう
るフォトレジスト（水系レジスト）を用いるときには、
この水系レジストの耐蝕性を高めるために。

必要に応じて、あらかじめ硬膜処理およびバーニング操
作を行う。このようにして、基板表面に所望のレリーフ
が形成される。

（作用） 本発明によれば、このように、スクリーン印刷に適した
感光性レジストインクが得られる。このようなインクは
、簡単な手段により、基板の金属表面に容易にスクリー
ン印刷され得る。枚葉のＰＳ板が、それゆえ、短時間の
うちに簡単かつ安価に得られる。スピンナーにより感光
液を塗布するときのように、感光液が飛散して無駄にな
ることがない。得られたＰＳ板のインク層（感光層）は
均一の厚みを有し、解像力にも優れる。フォトレジスト
の種類を適宜選択することにより、ポジ用もしくはネガ
用のＰＳ板が得られる。露光によりレジスト画像が形成
されたＰＳ板を腐食液を用いて蝕刻すると所望のレリー
フが基板表面に形成されうる。このような方法により８
例えば、プリント配線用の基板が容易に得られる。特に
１両面に感光層を形成した金属板をＰＳ板とし、これに
表裏同一のレジスト画像を対称に形成して蝕刻すると、
容易に貫通孔を得ることができる。これを利用してリー
ドフレームを製作して、ＩＣチップをはめ込みその端子
を基板上のプリント配線に接続して所望の電子部品を得
ることができる。

（実施例） 以下に本発明を実施例につき説明する。

実施■上 ポジティブ作用レジストインクの組成（１）ニレジスト
樹脂　　ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン（レジンＭ；丸
善石油社製） ３０重量部 感光剤　　　　ナフトキノン−１・２−ジアジド−５−
スルホン酸ノボラック エステル　　　　　１０重量部 溶剤　　　　　ブチルセルソルブ　６０重量部体質顔料
　　　沈降性硫酸バリウム （堺化学社製）４０重量部 ミクロエース （商品名；日本タルク社製） ２０重量部 着色顔料　　　銅フタロシアニン０．５重量部′（Ａ）
ＰＳ板の調製：上記レジスト樹脂および感光剤を溶剤に
溶解させた。これに体質顔料と着色顔料とを加えてニー
グーで混練し、三本ロールで分散を行い感光性レジスト
インクを得た。このインクに溶剤をさらに１０重量部加
えて所定の粘度に希釈した。これを厚さ３５μｍの基板
（銅箔プリント基板）に３００メツシユのテトロン製ス
クリーンを用いてスクリーン印刷により全面に塗布した
。

これをオーブンに入れ、９０℃で３０分間乾燥しＰＳ板
を得た。感光層の厚みは７μｍであった。

（Ｂ）レジスト画像の形成および蝕刻：　（Ａ）項で得
られたＰＳ板にパターンを載置し、紫外線露光を行った
。紫外線露光は、コダック社のフォトグラフィック　ス
テップ　タブレットＮｏ、２　　（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐ
ｈｉｃ　５ｔｅｐ　ｔａｂｌｅｔ　Ｎｏ、２　）のステ
ップ感度が４段となるように行った。露光後のＰＳ板を
１．５％リン酸三ナトリウム水溶液を用いて２５℃にて
１分間現像を行い、レジスト画像を得た。その結果、４
０μｍの画像が再現できた。これを４２　’　Ｂ４の塩
化第二鉄水溶液に５０℃で２分間浸漬して蝕刻を行いレ
リーフ像を得た。その結果、５０μｍの線幅が再現でき
た。基板上に残ったレジストインクは２％水酸化ナトリ
ウム溶液を用いて剥離した。

このようにしてプリント配線板が得られた。

１施■１ ポジティブ作用レジストインクの組成（２）ニレジスト
樹脂　置換フェノールとアルデヒドとの重縮合樹脂（ス
ミライトレジ ンＰＲ−５１７６７；住友デュレズ社 製）３０重量部 感光剤　　　　ｐ　−Ｎ　−Ｎ−ジエチルアミノベンゼ
ンジアゾニウムフルオロボ レート　　　　　　　３重量部 溶剤　　　　　　メチルカルピトール　６０重量部体質
顔料　　　沈降性硫酸バリウム （堺化学社製）５０重量部 有機ベントナイト （ニスベン”；豊順洋行社製） ２重量部 染料　　　　　オイルブルー（オリエント化学社製）０
．５重量部 （Ａ）ＰＳ板の調製二上記組成物を用いて実施例１　　
（Ａ）項と同様の方法でＰＳ板を得た。

（Ｂ）レジスト画像の形成および蝕刻：本実施例（Ａ）
項で得られたＰＳ板を用い、実施例１　（Ｂ）項と同様
の方法でレジスト画像を得た。ただし現像液としてはフ
ジＰＳ用現像液ＤＰ−４（商品名）の７倍希釈液を用い
た。現像の結果５０μｍの画像が再現できた。実施例１
　（Ｂ）項と同様の方法で蝕刻を行いレリーフ像を得た
ところ７０μｍの線幅が再現できた。基板上のレジスト
インクは２％水酸化ナトリウム溶液を用いて剥離した。

大血廻主 アルカリ水溶液の現像液を用いるネガティブ作用レジス
トインクの組成ニ レジスト樹脂　メタクレゾールホルムアルデヒド−ノボ
ランク樹脂　３０重量部 感光剤　　　　４・４゛　−アジドスチルベン−２・２
゛　−ジスルホン酸アニリ ド　　　　　　　　　１０重量部 溶剤　　　　　セルソルブアセテート ８０重量部 体質顔料　　　沈降性硫酸バリウム （堺化学社製）４０重量部 ミクロエース（日本タルク社製） ２０重量部 ニスベン（豊順洋行社製） ２重量部 染料　　　　　オイルブルー６０３（オリエント化学社
製）０．５重量部 （Ａ）ＰＳ板の調製：上記組成物を用いて実施例１　（
Ａ）項と同様の方法でＰＳ板を得た。

（Ｂ）レジスト画像の形成および蝕刻：本実施例（Ａ）
項で得られたＰＳ板を用い、実施例１　（Ｂ）項の方法
に準じて行った。ただし、ポジパターンの代わりにネガ
パターンを用い、リン酸三ナトリウム水溶液の濃度を５
％、水酸化ナトリウム水溶液の濃度を５％とした。レジ
スト画像は５０μ−の画像が再現でき、レリーフ像は６
０μｍの線幅が再現できた。このようにしてプリント配
線板が得られた。

ス】ｌ」１ 有機溶剤の現像液を用いるネガティブ作用レジストイン
クの組成： 感光性樹脂　　桂皮酸ビニル樹脂　　３０重量部増感剤
　　　　５−ニトロアゼナフテン２重量部 溶剤　　　　　セルソルブアセテート ４０重量部 シクロへキサノン　　２０重量部 体質顔料　　　カオリンＡＳＰ−１７０（上屋カオリン
社製）３０重量部 ミクロエース（日本タルク社製） ２０重量部 染料　　　　　老イルブルー６０３（オリエント化学社
製）０．５重量部 （Ａ）感光性樹脂の調製：ポリビニルアルコール４４ｇ
を１１のピリジンに分散させ５０℃にて桂皮酸クロリド
１７０ｇを攪拌しながら徐々に加えた。

４時間攪拌した後、アセトンを加えて希釈し濾過した。

これを水に注ぎ析出した沈澱を濾過し、水洗・乾燥して
桂皮酸ビニル樹脂（感光樹脂）を得た。この樹脂を上記
組成物に用いた。

（Ｂ）ＰＳ板の調製二上記感光性樹癲、増感剤および染
料を溶剤に溶解させた。これに体質顔料を加えてニーダ
−で混練し、三本ロールで分散を行い感光性レジストイ
ンクを得た。このインクを厚さ３５μｍのＷＩ箔プリン
ト基板に３００メツシユのスクリーンを用いて、スクリ
ーン印刷により全面に塗布した。これをオーブンに入れ
、　９０℃で３０分間乾燥しＰＳ板を得た。感光層の厚
みは７μｍであった。

（Ｃ）レジスト画像の形成および蝕刻：本実施例（Ｂ）
項で得られたＰＳ板を用いて実施例１　（Ｂ）項に準じ
て行った。ただし、ポジパターンの代わりにネガパター
ンを用い、現像液にはトリクロルエチレンを、レジスト
剥離液にはパークレンとセロソルブアセテートとの混合
溶剤を用いた。

レジスト画像は７０μｍの画像が再現でき、レリーフ像
は８０μｍの線幅が再現できた。

去旌拠盈 水系ネガティブ作用レジストインクの組成（１）　ニレ
ジスト樹脂　２０％ポリビニルアルコール水溶液　　　
　　　　　２００重量部 感光剤　　　　ジフェニルアミン−４−ジアゾニウムホ
ルマリン縮合樹脂 １０重量部 溶剤　　　　　ブチルセルソルブ　　１０重量部体質顔
料　　　カオリンＡＳＰ−１７０６０重量部ケイ酸アル
ミニウム（ベンゲル； 豊順洋行社製）　　　　３重量部 着色顔料　　　銅フタロシアニン　０．５重量部（Ａ）
ＰＳ板の調製：上記組成物をニーダ−で混練し、三本ロ
ールで分散を行い感光性レジストインクを得た。これを
用いて実施例１　（Ａ）項の方法に準じてＰＳ板を得た
。

（Ｂ）レジスト画像の形成および蝕刻：本実施例（Ａ）
項で得られたＰＳ板にネガパターンを載置し紫外線露光
を行った。紫外線露光は、コダック社のフォトグラフィ
ック　ステップ　タブレットＮｏ、２のステップ感度が
４段となるように行った。露光後のＰＳ板を水を用いて
現像し、レジスト画像を得た。その結果、８０．ｕｎ＋
の画像が再現できた。次に、無水クロム酸の７％水溶液
を調製し。

これに上記レジスト画像が形成されたＰＳ板を２０・秒
間浸漬して硬膜処理を行った。水洗後、オープンに入れ
１３０℃で１０分間バーニング処理を行った。

これを４２　”　ａ＝の塩化第二鉄水溶液に５０℃で２
分間浸漬して蝕刻を行いレリーフ像を得た。その結果。

２００μ鵠の線幅が再現できた。基板上のレジストイン
クは１０％水酸化ナトリウム水溶液に５０℃で１０分間
浸漬して剥離した。このようにしてプリント配線板が得
られた。

叉隻斑旦 水系ネガティブ作用レジストインクの組成（２）ニレジ
スト樹脂　カゼイン　　　　　　２５重量部感光剤　　
　　２０％重クロム酸アンモニウム水溶液　　　　　　
　　２０重量部 溶剤　　　　　ブチルセルソルブ　　１０重量部水　　
　　　　　　　８０重量部 体質顔料　　　カオリンＡＳＰ−１７０３０重量部ミク
ロエース　　　　２０重量部 防腐剤　　　　フェノール　　　　　１重量部着色顔料
　　　銅フタロシアニン　０．５重量部（Ａ）ＰＳ板の
調製二上記レジスト樹脂を溶剤（水）に溶解させ、防腐
剤を加えた。これに体質顔料２着色顔料および溶剤（ブ
チルセルソルブ）を加えてニーグーで混練した後、三本
ロールで分散を行ってインクを得た。これに感光剤を２
０％水溶液として加え、ヘラで練り合わせて感光性レジ
ストインクを得た。これを用いて実施例１　（Ａ）項の
方法に準じてＰＳ板を得た。上記レジスト樹脂であるカ
ゼインは９重クロム酸カリウムと接触した状態で長時間
放置すると化学変化をおこす。

そのため重クロム酸カリウムはＰＳ板の調製時に加えら
れる。

（Ｂ）レジスト画像の形成および蝕刻：本実施例（Ａ）
項で得られたＰＳ板を用いて実施例１　（Ｂ）項に準じ
て行った。ただし、ポジパターンの代わりにネガパター
ンを用い、現像液には水を。

レジスト剥離液には５％水酸化ナトリウム水溶液を用い
た。レジスト画像は１００μ−の画像が再現でき、レリ
ーフ像は２００μｍの線幅が再現できた。

このようにしてプリント配線板が得られた。

（発明の効果） 本発明によれば、このように、スクリーン印刷に適した
感光性レジストインクが得られる。このようなインクは
、Ｎ単な手段により、基板の金属表面に容易にスクリー
ン印刷され得る。枚葉のＰＳ板が、それゆえ、短時間の
うちに簡単かつ安価に得られる。スピンナーにより感光
液を塗布するときのように、感光液が飛散して無駄にな
ることがない。得られたＰＳ板のインク層（感光層）は
均一の厚みを有し、解像力にも優れる。このようなＰＳ
板を用いてレジスト画像を形成し蝕刻を行うと、基板上
に所望の形状を有するレリーフが容易に形成される。こ
のようにして、プリント配線基板や各種電子部品をはじ
め時計の針などの精密部品が容易に製造されうる。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（１）感光剤および該感光剤の共存下で露光により
   現像液可溶性もしくは不溶性となる樹脂を含むフォトレ
   ジストまたは感光性樹脂を含むフォトレジスト、および （２）体質顔料、 を含有し、スクリーン印刷されうる感光性レジストイン
   ク。 ２、前記感光剤が光分解もしくは光硬化する有機ジアゾ
   化合物、または光硬化する有機アジド化合物である特許
   請求の範囲第１項に記載の感光性レジストインク。 ３、前記感光剤がｏ−キノンジアジド化合物のアルカリ
   可溶性樹脂エステルである特許請求の範囲第１項または
   第２項に記載の感光性レジストインク。 ４、前記感光剤が芳香族ジアゾニウムテトラフルオロボ
   レート、芳香族ジアゾニウムヘキサフルオロホスフェー
   トおよび芳香族ジアゾニウム置換スルフォネートでなる
   群から選択される少なくとも１種であり、かつ前記樹脂
   が置換フェノール類とアルデヒド類との重縮合樹脂およ
   び／または置換ｐ−ヒドロキシスチレン重合体である特
   許請求の範囲第１項または第２項に記載の感光性レジス
   トインク。 ５、前記感光剤が芳香族アジド化合物である特許請求の
   範囲第１項または第２項に記載の感光性レジストインク
   。 ６、前記感光性樹脂がケイ皮酸エステル樹脂である特許
   請求の範囲第１項に記載の感光性レジストインク。 ７、前記体質顔料が沈降性硫酸バリウム、タルク、シリ
   カ、カオリン、有機ベントナイトおよびベンゾグアナミ
   ン樹脂でなる群から選択される少なくとも１種である特
   許請求の範囲第１項に記載の感光性レジストインク。 ８、（１）感光剤および該感光剤の共存下で露光により
   現像液可溶性もしくは不溶性となる樹脂を含むフォトレ
   ジストまたは感光性樹脂を含むフォトレジスト、および
   体質顔料、を含有する感光性レジストインクを得る工程
   、および、 （２）該インクを少なくとも一方の表面が金属である基
   板上にスクリーン印刷により塗布する工程、 を含有するＰＳ板（ｐｒｅ−ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ　ｐ
   ｌａｔｅ）の製造方法。 ９、前記感光剤が光分解もしくは光硬化する有機ジアゾ
   化合物、または光硬化する有機アジド化合物である特許
   請求の範囲第８項に記載の製造方法。 １０、前記感光剤がｏ−キノンジアジド化合物のアルカ
   リ可溶性樹脂エステルである特許請求の範囲第８項また
   は第９項に記載の製造方法。 １１、前記感光剤が芳香族ジアゾニウムテトラフルオロ
   ボレート、芳香族ジアゾニウムヘキサフルオロホスフェ
   ートおよび芳香族ジアゾニウム置換スルフォネートでな
   る群から選択される少なくとも１種であり、かつ前記樹
   脂が置換フェノール類とアルデヒド類との重縮合樹脂お
   よび／または置換ｐ−ヒドロキシスチレン重合体である
   特許請求の範囲第８項または第９項に記載の製造方法。 １２、前記感光剤が芳香族アジド化合物である特許請求
   の範囲第８項および第９項に記載の製造方法。 １３、前記感光性樹脂がケイ皮酸エステル樹脂である特
   許請求の範囲第８項に記載の製造方法。 １４、前記体質顔料が沈降性硫酸バリウム、タルク、シ
   リカ、カオリン、有機ベントナイトおよびベンゾグアナ
   ミン樹脂でなる群から選択される少なくとも１種である
   特許請求の範囲第８項に記載の製造方法。 １５、（１）感光剤および該感光剤の共存下で露光によ
   り現像液可溶性もしくは不溶性となる樹脂を含むフォト
   レジストまたは感光性樹脂を含むフォトレジスト、およ
   び体質顔料、を含有する感光性レジストインクを得る工
   程、 （２）該インクを少なくとも一方の表面が金属である基
   板上にスクリーン印刷により塗布しＰＳ板（ｐｒｅ−ｓ
   ｅｓｉｔｉｚｅｄ　ｐｌａｔｅ）を得る工程、 （３）上記工程で得られたＰＳ板表面に所望のパターン
   を有するポジもしくはネガフィルムを載置して光照射す
   る工程、 （４）光照射後のＰＳ板を現像液で現像しレジスト画像
   を形成する工程、および （５）該レジスト画像の形成されたＰＳ板をエッチング
   処理する工程。 を包含するＰＳ板の蝕刻方法。 １６、前記感光剤が光分解もしくは光硬化する有機ジア
   ゾ化合物、または光硬化する有機アジド化合物である特
   許請求の範囲第１５項に記載の蝕刻方法。 １７、前記感光剤がｏ−キノンジアジド化合物のアルカ
   リ可溶性樹脂エステルである特許請求の範囲第１５項ま
   たは第１６項に記載の蝕刻方法。 １８、前記感光剤が芳香族ジアゾニウムテトラフルオロ
   ボレート、芳香族ジアゾニウムヘキサフルオロホスフェ
   ートおよび芳香族ジアゾニウム置換スルフォネートでな
   る群から選択される少なくとも１種であり、かつ前記樹
   脂が置換フェノール類とアルデヒド類との重縮合樹脂お
   よび／または置換ｐ−ヒドロキシスチレン重合体である
   特許請求の範囲第１５項または第１６項に記載の蝕刻方
   法。 １９、前記感光剤が芳香族アジド化合物である特許請求
   の範囲第１５項または第１６項に記載の蝕刻方法。 ２０、前記感光性樹脂がケイ皮酸エステル樹脂である特
   許請求の範囲第１５項に記載の蝕刻方法。 ２１、前記体質顔料が沈降性硫酸バリウム、タルク、シ
   リカ、カオリン、有機ベントナイトおよびベンゾグアナ
   ミン樹脂でなる群から選択される少なくとも１種である
   特許請求の範囲第１５項に記載の蝕刻方法。