JPS6131860B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6131860B2
JPS6131860B2 JP53134270A JP13427078A JPS6131860B2 JP S6131860 B2 JPS6131860 B2 JP S6131860B2 JP 53134270 A JP53134270 A JP 53134270A JP 13427078 A JP13427078 A JP 13427078A JP S6131860 B2 JPS6131860 B2 JP S6131860B2
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JP
Japan
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photosensitive
compound
layer
laser beam
photosensitive layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP53134270A
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English (en)
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JPS5560944A (en
Inventor
Yonosuke Takahashi
Hiromichi Tachikawa
Fumiaki Shinozaki
Tomoaki Ikeda
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP13427078A priority Critical patent/JPS5560944A/ja
Publication of JPS5560944A publication Critical patent/JPS5560944A/ja
Priority to US06/548,132 priority patent/US4544627A/en
Publication of JPS6131860B2 publication Critical patent/JPS6131860B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ光線による画像形成方法に関す
るものである。 周知のようにo−キノンジアジド化合物は感光
性物質であり、感光性印刷版、フオトエツチング
用レジスト、投影原図等に用いる感光性複写層の
感光性成分として知られているが、o−キノンジ
アジド化合物は活性光線の照射によりジアゾ基が
分解し、カルボキシル基含有の化合物を生じると
されており、従つてこのようなo−キノンジアジ
ド化合物を含有する複写層を露光後、アルカリ性
現像剤で現像すると、露光部分が支持体より除去
されて非露光部分が画像となる、所謂ポジーポジ
型の画像形成が行なわれる。 従来から行われていたこの方法では、原稿を密
着もしくは投影露光して焼き付ける写真製版技術
が用いられていた。印刷版製造法を例にとり、そ
の写真製版用原稿作製法を説明すると活性組版か
ら得た清刷りを製版カメラにより、リスフイルム
に撮影し、これを現像定着するか、清刷りを走査
して電送し、受信も同様に走査して、フアクシミ
リフイルム上に露光し、現像、定着する、いわゆ
るフアクシミリ方式か、さらに手動写植機または
電算写植機等の文字発生装置により、写植用フイ
ルムに露光し、現像、定着するか、写植用印画紙
に露光し、現像、定着し、これを原稿とし、さら
に製版カメラ、フアクシミリ装置により、それぞ
れのフイルムに露光し、現像、定着するという煩
雑な処理を施さねばならなかつた。 このように従来の製版方法においては、製版工
程に先立つてこれとは別個に上述の手段により製
版用透明原稿を作成することを必要としていた。 一方、近年のフアクシミリ電送やコンピユータ
ーの発達に伴ない、それらの出力信号を大量に高
速処理する要求が強くなつてきており、その方法
として、それらの出力信号で変調されたレーザー
ビームにより例えば印刷版に焼き付ける等の方法
が提案されている。 このように従来の写真製版用原稿を用いず、記
録情報を有するレーザ光線により画像記録する方
法として、特開昭50−102401号公報には、公知の
PS平版の感光層に直接アルミニウム、銅等のレ
ーザー記録層を真空蒸着するか、あるいはポリカ
ーボネイトフイルムに亜鉛等を真空蒸着したマス
クを接着するかしてレーザー記録層としての金属
層を形成し、この金属層にレーザー光を照射して
該層を選択的に除去して透明原稿を作成し、ただ
ちに製版工程のための露光を行なうことができる
という方法が示されている。しかしながら、かか
る方法においては次の如き致命的な欠点がある。
すなわち、その第1は該発明が実施例で記載して
いるように従来公知のPS平版の感光層上に直接
金属層を真空蒸着していることであり、このよう
な方法によれば、印刷版の感光層が、真空蒸着の
際の蒸発現から発する光および熱により変質する
恐れがあり、実用に供することができる量産は不
可能に近いことである。その第2は該発明がラミ
ネートマスクを使用した例として実施例に述べら
れている方法のように、上記第1の欠点を避ける
ためにポリカーボネートフイルムに亜鉛を真空蒸
着したマスクを感光層に接着したものであるが、
この点では第1の場合に比らべ実用的に有効であ
るけれども、上記マスクはポリカーボネイトフイ
ルム側と印刷版材料の感光層とを接着して設けら
れており、透明原稿として作用する金属層と印刷
版材料の感光層とが密着せず、従つて印刷版への
露光がフイルムの厚みを介して行なわれてしま
い、解像力の低下を生じてしまうことである。 更に第3の欠点は記録層としてアルミニウム、
銅、亜鉛の単独層を用いており、かかる層にレー
ザで書き込みを行なうためには多大のエネルギー
を必要とするもので全く実用的に利用することは
不可能であることである。 上記の欠点を除去するために、印刷版の感光層
自体に、アルゴンイオンレーザー光のような可視
光線に感光性を持たせる方法が例えば特願昭53−
59593号明細書に記載されている。即ち、エチレ
ン性不飽和二重結合を少くとも1個有する付加重
合可能な化合物とアルゴンレーザー光を吸収し得
るメロシアニン色素を光重合開始剤の一部として
組み合せることによりレーザー光感応性を持たせ
た系である。この方法によれば、上記特開昭50−
102401号公報に示された方法に比べて、層構成及
び製版工程が単純となり、一歩進んだ技術と言え
る。しかし、上記方法の大きな欠点として、増感
剤(光重合開始剤)自体がアルゴンレーザー光の
ような可視光に感応するため、黄色光下では所謂
かぶりを生じてしまう。そのため赤色光下で取り
扱わねばならず、作業性の点で大きな欠点を有す
る。更に上記のような光重合反応を利用した系で
は、空気中酸素により光重合速度が著しく阻害さ
れるので、安定した画質を得るために、 (1) 感光層の上に空気遮断層を設けるか、または (2) 露光前に窒素ガス中でコンデイシヨニングす
る等の処理をしなければならない。 (2)の処理は著しく作業が煩雑であり、また(1)の
方法では層構成が複雑になる等の欠点を有する。 本発明者らは、上記欠点を除去する目的で数多
くの有機感光材料について、レーザー光に感応さ
せるための方法を検討した結果、通常の室内黄色
照明光下では実質的に感応せず、レーザー光のよ
うな高エネルギー軸射線のみに感応して、前述し
たo−キノンジアジド化合物の光分解生成物の現
像液に対する溶解速度を、レーザー光非照射部分
の溶解速度よりも小さく、もしくは大きくする化
合物を感光層中に含有させることにより、上記目
的を達成できることを見出したのである。更に驚
くべきことに、同一の感光材料を用いて、単にレ
ーザー光強度を変えるのみで、レーザー光照射部
分が現像液に対して溶解して除去されるタイプ
(ポジテイブ・ワーキング)と、レーザー光非照
射部分が溶解して除去されるタイプ(ネガテイ
ブ・ワーキング)の二つのタイプの画像が得られ
ることを発見したものである。 本発明の目的は通常の室内黄色照明光下では実
質的に感応しない、レーザー感応記録方法を提供
することである。 本発明の他の目的は、同一の画像形成材料を用
いてレーザービームの強度を変えるのみで同一の
現像液を用いて現像することによりポジテイブ・
ワーキングおよびネガテイブ・ワーキングの画像
を記録する方法を提供することにある。 本発明は支持体上にo−キノンジアジド化合物
を主成分とし、かつ第二成分として該化合物に対
して活性な光線(波長λ)による露光の後、レ
ーザ光線(波長λ)を照射すると、その部分の
現像液に対する溶解速度を変化させることができ
る化合物としてアミン、アミン以外の窒素含有環
状化合物、水酸基を有する芳香族炭化水素、芳香
族カルボニル化合物または染料を含む感光層が設
けられた画像形成材料の該感光層に上記の活性光
線(波長λ)を一様に露光し、しかる後画像状
にレーザ光線(波長λ)を照射し、次いで現像
処理を施すことを特徴とする画像形成方法であ
る。 o−キノンジアジド化合物の活性光線露光によ
りアルカリ現像液可溶状態となつた部分が、レー
ザー光照射により何故に溶解性を変えるのか、ま
たその現象に対する第二成分の作用機構について
はいまだ明らかではない。しかし、特開昭50−
108002号公報明細書に、o−キノンジアジド化合
物に第二成分として二級または三級アミンを加え
た感光材料に、画像露光、100℃10分程度の加
熱、全面露光、現像の各処理を施すことにより、
ネガテイブ・ワーキングの画像が得られることが
示されている。このことから敢えて本発明中の第
二成分とレーザー光照射の役割を考察するに、レ
ーザー光による高密度エネルギーが感光層内で一
部熱エネルギーに変換し、第二成分がo−キノシ
ジアジド化合物の光分解生成物のアルカリ性現像
液に対する溶解性を変化させるのを促進している
ためと推定される。 本発明に用いる支持体としては、著しい寸法変
化をおこさない平面状の物質や他の形状の物質が
ある。平面状の物質の例としては、ガラス、酸化
珪素、セラミツクス、紙、金属、例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、マグネシウム、銅、鉄、クロム、
ニツケル、銀、金、白金、パラジウム、アルミニ
ウムを主成分とする合金、亜鉛を主成分とする合
金、マグネシウムを主成分とする合金、銅−亜鉛
合金、鉄−ニツケル−クロム合金、銅を主成分と
する合金、金属化合物、例えば酸化アルミニウ
ム、酸化錫(SnO2)、酸化インジウム(In2O3)、
ポリマー、例えば、再生セルロース、セルロース
ニトラート、セルロースジアセタート、セルロー
ストリアセタート、セルロースアセタートブチラ
ート、セルロースアセタートプロピオナート、ポ
リスチレン、ポリエチレンテレフタラート、ポリ
エチレンイソフタラート、ビスフエノールAのポ
リカルボナート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ナイロン(6−ナイロン、6・6−ナイロ
ン、6・10−ナイロン等)、ポリ塩化ビニル−塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合物、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合物、ポリアクリロニトリル、ポリア
クリル酸メチル、ポリメタアクリル酸メチルをあ
げることができる。また、上述の物質の薄板を2
つ以上堅固に積層したもの、例えば、サーメツ
ト、鉄−アルミニウム積層板、鉄−銅−アルミニ
ウム積層板、鉄−クロム−銅積層板、表面にポリ
エチレンをコーテイングした紙、表面にセルロー
ストリアセタートをコーテイングした紙、表面を
陽極酸化して表面に酸化アルミニウム層を形成さ
せたアルミニウム板、公知の方法で表面に酸化ク
ロム層を形成させたクロム板、酸化錫の層を表面
に設けたガラス板、酸化インジウムの層を表面に
設けた酸化珪素の板を支持体として用いることも
できる。 これらの支持体は感光性画像形成材料の目的に
応じて透明なもの不透明なものの選択をする。透
明な場合にも無色透明なものだけでなく、「J.
SMPTE」誌、第67巻第296頁(1958年)などに
記載されているように染料や顔料を添加して着色
透明にしたものを用いることができる。不透明支
持体の場合にも紙や金属のごとく本来不透明なも
のの他に、透明な材料に染料や酸化チタン等の顔
料を加えたもの、特公昭47−19068号に記載され
ている方法で表面処理したプラスチツクフイルム
およびカーボンブラツク等を加えて完全に遮光性
とした紙、プラスチツクフイルム等を用いること
もできる。また表面に砂目立て、電解エツチン
グ、陽極酸化、化学エツチング等の処理により微
細な凹陥を設けた支持体、および表面をコロナ放
電、紫外線照射、火〓処理等の予備処理した支持
体を用いることもできる。さらにまたガラス繊
維、炭素繊維、ボロン繊維、種々の金属繊維、金
属ウイスカー等の補強剤を混入して強度を増大さ
せたプラスチツク支持体を用いることもできる。 支持体はその表面に必要に応じて結合を容易に
する為に必要な他の塗布層或いはハレーシヨン防
止層、紫外線吸収層、可視光線吸収層を設けても
良い。 次に感光層について説明する。感光層はo−キ
ノンジアジド化合物を主成分とする感光性樹脂組
成物からなる。感光性樹脂組成物中にはo−キノ
ンジアジド化合物の他に、この化合物の活性光線
全面露光後のレーザー光線照射部分の現像液に対
する溶解速度を、レーザー光非照射部分の溶解速
度に比べて小さく、または大きくし得る化合物を
第二成分および必要に応じてバインダーが含有さ
れる。ここで第二成分としては、アミン、アミン
以外の窒素含有環状化合物、水酸基を有する芳香
族炭化水素、芳香族カルボニル化合物または各種
染料が用いられる。またこれら第二成分は、二種
以上組合せても用いることができる。 本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物
とは少なくとも1つのo−キノンジアジド基を有
する化合物で活性光照射によりアルカリ溶液に対
する溶解性を増すものであり種々の構造の化合物
が知られており、例えばJ.KOSAR著「Light−
Sensitive Systems」John Wiley&Sons、
Inc・,(1985年発行)に詳細に記されている。特
に種々のヒドロキシル化合物とo−ベンゾあるい
はo−ナフトキノンジアジドのスルホン酸エステ
ルが好適である。代表的なものを例示すれば、
2・2′−ジヒドロキシ−ジフエニル−ビス−〔ナ
フトキノン−1・2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル〕、2・2′・4・4′−テトラヒドロキシ
ジフエニルーテトラ〔ナフトキノン−1・2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル〕、2・3・4
−トリオキシベンゾフエノン−ビス−〔ナフトキ
ノン−1・2−ジアジド−5−スルホン酸エステ
ル〕などがあり、特に特公昭43−28403号公報に
記載されているアセトンとピロガロールの縮重合
により得られるポリヒドロキシフエニルとナフト
キノン−1・2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルが有利に使用できる。 第二成分のアミンとしては、モノステアリルア
ミンのような脂肪族一級アミン、アニリン等の芳
香族一級アミンの他に第二アミン又は第三アミン
を用いることができる。その例としてはジアルキ
ルアミン、トリアルキルアミン、ヒドロキシアル
キル基を有する第二アミン又は第三アミン(以
下、ヒドロキシアルキルアミンという。)、ジアル
キルアミノ芳香族炭化水素、環状ポリアミンをあ
げることができる。ジアルキルアミンの具体例と
しては、ジアミルアミン、ジヘプチルアミン、ジ
デシルアミンをあげることができる。トリアルキ
ルアミンの具体例としてはトリブチルアミン、ト
リアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリイソ
アミルアミンをあげることができる。ヒドロキシ
アルキルアミンの具体例としてはジエタノールア
ミン、N−メチルエタノールアミン、N−メチル
ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、ト
リエタノールアミンをあげることができる。ジア
ルキルアミノ芳香族炭化水素の具体例としてはジ
エチルアニリン、ジプロピルアニリンをあげるこ
とができる。環状ポリアミンの具体例としてはヘ
キサメチレンテトラミンをあげることができる。 本発明に用いられる第二成分として、更に下記
一般式()で表わされる環状5員環化合物であ
り、具体的には表1の如き化合物が例として示さ
れる。 (但し、式中Xは=S、=O、=Se、
【式】=N−Rcなる有機原子団、Ra、 Rb、Rc、Yはカルボン酸基を含まない有機原子
団を表わす。)
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 本発明に用いられる第二成分としては、上記一
般式()で示される複素環状化合物以外にもピ
リジン、トリアジン、キノリン、イミダゾール、
インドリン、オキサゾリン、チアゾリン等の窒素
含有複素環状基を有する化合物も同様に有効であ
る。これらの窒素含有複素環状基を有する化合物
の中で、下記の一般式()で示されるスピロピ
ラン化合物は特に好適に用いられる。 式中、XはS、O、Se、Te、C(CH32を表
わし、YおよびZはそれぞれC又はNを表わし、
R1は置換あるいは無置換の炭素原子数1〜4の
アルキル基を表わし、R2、R3、R4、R5はそれぞ
れ水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、ア
ルコキシル基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン原
子、ニトリル基、ホルミル基、水酸基、アルコキ
シカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基の
いずれか、あるいはR2とR3およびR4とR5は互に
一端が結合して環状をなす−C=C−C=C−を
表わす。 上記の一般式()によつて表わされる化合物
は、多くのものが知られているが、これらの化合
物についてはたとえばGlenn H.Brawn著「Photo
−chromism」(Wiley−Interscience社、New
York、1971年発行)第45頁〜第294頁に記載され
ている。代表的な化合物には次のようなものがあ
る。 水酸基を有する芳香族炭化水素としては、エス
テル化あるいはエーテル化可能な水酸基を1個以
上有する芳香族炭化水素を用いることができる。
水酸基を有する芳香族炭化水素の例としては、水
酸基を有するベンゼン環を有する樹脂およびヒド
ロキシベンゼン化合物をあげることができる。水
酸基を有するベンゼン環を有する樹脂の具体例と
しては、フエノールホルムアルデヒドノボラツク
樹脂、クレゾールホルムアルデヒドノボラツク樹
脂をあげることができる。ヒドロキシベンゼン化
合物の具体例としては、ピロガロール、フロログ
ルシノール、2・2−ビス(4−ヒドロキシフエ
ニル)プロパンをあげることができる。 1−ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダゾ
リンの具体例としては、アルキル基が炭素原子数
が7から17までのアルキル基である化合物および
それらの混合物をあげることができる。 本発明の第2成分として用いられるカルボニル
基含有化合物としては、ベンゾイン、トルオイ
ン、アニソイン、フロインなどのアシロイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
インsec−ブチルエーテル、トルオインメチルエ
ーテルなどのアシロイン誘導体、ベンゾフエノ
ン、フエニルトリルケトン、2−クロロベンゾフ
エノン、2−クロロアセトフエノン、ベンジル、
2・2′−ジメチルベンジル、ミヒラーケトン等の
アリールケトン類、フルオレノン、フエニルβ−
ナフチルケトン、アントロン、ベンゾアントロ
ン、10・10′−ビアントロンなどの環を形成する
炭素原子にオキソ酸素原子が結合している芳香族
ケトン類、アントラキノン、1−ヒドロキシアン
トラキノン、1−メチルアントラキノン、2−メ
チルアントラキノン、2−エテルアントラキノ
ン、1−クロロアントラキノン、1−ブロモアン
トラキノン、2−クロロアントラキノン、フエナ
ントラキノン、1−メチルフエナントラキノン、
4−エチルフエナントラキノン、2−クロロフエ
ナントラキノン、3−ブロモフエナントラキノ
ン、2・7−ジ−t−ブチルフエナントラキノ
ン、ベンゾアントラキノン等縮合型キノン類等を
例示することができる。 本発明の第2成分として用いられる染料として
は、非常に広範囲の化合物が有効である。具体的
には、ダイレクトフアストイエローR(C.
I.29025)(C.I.は「Colour Index」第3版(The
Society of Dyers and Colourists、Bradford、
EnglandおよびThe American Association of
Textile Chemists and Colourists、Research
Triangle Park、USA、1971年発行)のColour
Index Constition Numberを表わす。)、ダイレク
トフアストイエローGC(C.I.29000)、スミライ
トスプライエローBCconc(C.I.19555)、クリサ
ミンG(C.I.22010)、ダイレクトフアストイエロ
ー5GL(C.I.25300)、ベンゾカプロールイエロー
GRL(C.I.29020)、ダイレクトフアストオレンジ
S(C.I.29150)、ネオザパンレツトGE(C.
I.12715)、ザボンフアストレツドGE(C.
I.12716)、バリフアストブラツク#3804(C.
I.12195)、アリザリンイエローR(C.I.14030)な
どのジアゾ染料、オイルレツド#330(C.
I.60505)、オイルバイオレツト#730(C.
I.60725)、オイルバイオレツト#732(C.
I.61705)、オレオゾールブルーG(C.I.61525)、
スミプラストグリーンG(C.I.61565)、ニホンス
レンイエローGCN(C.I.67300)、ニホンスレンバ
イオレツトD/P(C.I.68700)などのアントラ
キノン染料、アシドバイオレツト5B(C.
I.42640)、パテントピユアブルーVX(C.
I.42045)、パテントブルーAF(C.I.42080)、ラク
トーブリリアントブルーFCF(C.I.42090)、ブリ
リアントアシドブルーR(C.I.42645)、ソラーシ
アニン6Bconc(C.I.42660)、オリエントソリユー
ブルブル−OBB(C.I.42780)、スミトモブリリア
ントブルー5G(C.I.42120)、アシドブリリアント
ミリンググリーンB(C.I.42100)、アイゼンオー
ラミンO−125(C.I.41000)、パラマゼンタベー
ス(C.I.42500)、アイゼンメチルバイオレツト
BBスペシヤル(C.I.42535)、アイゼンクリスタ
ルバイオレツトパワー(C.I.42555)、マゼンタ
(C.I.42510)、アイゼンベーシツクシアニン6GH
(C.I.42025)、ピリモシアニンBXconc(C.
I.42140)、アイゼンビクトリアピユアブルーBOH
(C.I.42595)、ローズアニリン(C.I.662)、アイゼ
ンビクトリアブルーBH(C.I.44045)、アイゼン
ダイアモンドグリーン(C.I.42040)、マラカイト
グリーン(C.I.42000)、ミツイクロームブリリア
ントレツドRX(C.I.43565)、フエノールレツド
(α−ヒドロキシ−α・α−ビス(4−ヒドロキ
シフエニル)−o−トルエンスルホン酸のγ−ス
ルトン)、アイゼンローダミンBH(C.I.45170)、
ローダミン6GCP(C.I.45160)、スミクロミンブ
リリアントレツドB(C.I.45305)、ローズベンガ
ル(C.I.45440)、エオシンY(C.I.45380)、フル
オレセイン(C.I.45350)、アクリジンオレンジ
(C.I.46005)などのカルボニウム染料、サクラニ
ンOK70(C.I.50240)、アイゼンカチロングレイ
BLH(C.I.11825)、アイゼンベーシツクピユアブ
ルー5GH(C.I.51005)、メチレンブルーFZ(C.
I.52015)、ニユーメチレンブルーNSconc(C.
I.52030)、ベーシツクブルーGO(C.I.52025)な
どのキノンイミン染料、アストラゾンピンクFG
(C.I.48015)などのメチン染料、オイルブルー
#15(C.I.74350)などの銅フタロシアニン染料
などがある。これら以外の染料についても助色団
として、アミノ基、アルキル置換アミノ基、水酸
基を有する染料を用いることができる。 上述した第二成分のうち、染料以外の化合物は
それ単独でも勿論有効であるが、レーザー光感応
性を高める上でレーザー光吸収効率の高い染料に
更に染料以外の他の第二成分を1種以上組み合せ
て使用することが特に有効である。 第二成分の使用量は、o−キノンジアジド化合
物1重量部に対して、水酸基を有する芳香族炭化
水素又はシエラツクの場には約0.005重量部から
約10重量部、好ましくは約0.01重量部から約3重
量部の範囲であり、これら以外の化合物を用いる
場合には同じく約0.005重量部から約1重量部好
ましくは約0.01重量部から約0.3重量部の範囲で
ある。 本発明の方法に用いられる感光性樹脂組成物に
は上記成分のほかに各種添加物を加えることがで
きる。たとえば画像を明瞭化させるためフタロシ
アンブルーのような顔料を加えることができる。
また画像強度を高めるためあるいはバインダーと
して前記成分と均一に混和しうる樹脂、たとえば
スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−
アクリル酸共重合体メタクリル酸−メタクリル酸
メチル共重合体などを加えることもできる。これ
らの技術に関しては、従来当業者によく知られて
いることなので、更に詳細な説明は省略する。 上記の如き組成からなる感光性樹脂組成物は、
支持体の上に適用される。感光性樹脂組成物は必
要に応じて溶媒を用いて感光性樹脂組成物溶液に
して支持体に適用することができる。溶媒として
は感光性樹脂組成物の写真特性を損わない公知の
溶媒のうちから適宜に選択して用いることができ
る。感光性樹脂組成物又はその溶液を支持体に適
用する方法は公知の方法から適宜に選択して実施
することができる。代表的な適用方法としては塗
布方法をあげることができ、当業者は公知の方法
に従つて容易に実施することができる。 上述の如くして形成された画像記録材料は、o
−キノンジアジド化合物の活性光線(通常は波長
約290nm乃至500nmの光線)で通常の方法により
全面一様露光される。活性光線の光源として水銀
灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、タングステ
ン灯、螢光灯、太陽光等を使用することができ
る。 オルソキノンジアジド化合物の活性光線により
全面一様露光された感光材料は次ぎに画像信号に
よつて変調されたレーザービームによつて走査露
光される。 本発明に用いられる画像記録用のレーザーとし
ては人の目に見えない赤外や紫外光を発するレー
ザーでは取扱い上の問題があるので、可視光レー
ザーが望ましいことは自明のことである。可視光
レーザーではヘリウム・ネオンレーザー、アルゴ
ンやクリプトンなどのイオンレーザー、ヘリウ
ム・カドミウムレーザーなどがあげられる。これ
らのレーザーの中で、安定性が良く且つ比較的高
出力のビームが得られるアルゴン・イオンレーザ
ーが特に好適である。これら以外にも可視域以外
の光を出すレーザー、例えばYAGレーザーも使
用される。 現在市販されているアルゴンイオンレーザーは
可視ラインのトータル出力で約3W、4W、6W、
9W、16W、24Wのものがあり、本発明の方法に
使用するものは3〜4Wクラスのもので充分であ
る。すなわち、光学系で損失を50%程度見込まな
ければならないので、記録材料面に到達するエネ
ルギーは大略半分に低下するが、このビームを例
えば新聞フアクシミリ受信機で必要とされるビー
ム径42μ〜70μまでレンズ系で絞ることによつ
て、現在常用されている12m/sec〜22m/secの走
査速度で画像を記録することが可能である。 アルゴンイオンレーザーを画像信号によつて変
調するには、レーザー装置の外側で光変調を行な
う、いわゆる外部変調法が有利であり、その機能
によつて分類すれば、電気光学光変調、音響光学
光変調および磁気光学光変調の三種類に分類され
る。このうち一般的に応用され実用的と考えられ
ているのは前二者であるが、コントラスト比が大
きくとれること、温度変化に対する影響をほとん
ど受けないこと、変調素子や駆動回路が小型で、
電力もあまり消費しないことなどの利点の多い、
音響光学光変調法によるものが優れている。 このように処理された画像形成材料は、次に現
像処理が行われる。 現像処理に用いられる現像液は従来o−キノン
ジアジド化合物を含む感光層の現像に用いられる
多くの公知の現像液から選択することができる。
すなわちアルカリ性溶液で浸漬あるいは洗滌する
ことによつて容易に現像される。好ましいアルカ
リ性溶液としては荷性ソーダ、荷性カリ、硅酸ソ
ーダ、硅酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸
カリ、炭素ソーダ、炭酸カリ等の無機化合物を含
む水溶液、あるいはエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキサイド等の有機塩基を含
む水溶液が掲げられ、場合によつて有機溶剤、界
面活性剤等を含ませることもできる。 上記の処理を経て得られた画像は非常に数多く
の用途に供される。例えば砂目立てしたアルミニ
ウム基板を支持体として用いれば、現像処理後に
印刷機にかければ良好な印刷物が得られる。ま
た、ポリエステルフイルム等の透明プラスチツク
フイルム状に、染料を含有させた感光層を設けれ
ば、印刷校正用に用いることができる。その他、
フオトマスク、コンピユーター出力信号のレーザ
ー記録、フアクシミリ端末記録材料にも使用でき
る。また、現像処理された感光材料の支持体は、
その目的に応じて各種の加工がなされてもよい。
例えば、ガラス基板上に設けたクロム蒸着膜を支
持体とする場合には、現像処理後第二セリウムイ
オン等を含む公知のエツチング液により、感光層
をエツチングレジストとしてクロム蒸着膜をエツ
チングし、次いでレジストを除去すればハードマ
スクとして使用することができる。更にシリコン
基板を支持体として用いる場合、酸化シリコン皮
膜のエツチングレジストや、リフトオフ工程にも
使用することができる。更にプリント配線基板用
の銅箔基板を用いる場合には、現像処理後にエツ
チングレジスト、あるいはメツキレジストとして
も使用できる。 これら以外にもビデオデイスク作製工程等にも
使用することができ、本発明の方法によつて得ら
れた画像の用途は上述した例に限定されるもので
はない。 次に本発明を実施例により例証するが、本発明
はこれに限定されるものではない。 実施例 1 特公昭43−28403号公報の実施例1に記載され
たアセトンとピロガロールの重縮合により得られ
たポリヒドロキシフエニルの1・2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸エステル1重量部、
フエノール樹脂(住友デユレズ(株)製、商品名PR
−50904、重合度3〜10)2重量部、トリエタノ
ールアミン0.4重量部を、メチルエチルケトン20
重量部とメチルセルソルブアセテート20重量部に
溶解し、0.5μmの孔径を有するフイルターで
過して感光液を作製した。また100μm厚のポリ
エチレンテレフタレートフイルム上にアルミニウ
ムが98.5、鉄が1.5の原子数となるように共蒸着
して厚さ700Aの真空蒸着膜を設けて基板を作製
した。この基板の蒸着膜上に上記感光液を回転塗
布機を用いて乾燥膜厚が1.0μmとなるように塗
布し乾燥して感光板を作製した。 この感光板を2KW超高圧水銀灯(オーク社
製)から55cmの位置で20秒間全面一様露光し、次
いで波長488nmと514.5nmの可視光を放出するア
ルゴンイオンレーザー光ビーム(ビーム径は感光
層の表面で25μm)を感光層の表面で500mWと
なるように調節し、19m/秒で走査した。 次いでこの感光板を水酸化ナトリウム4重量
部、燐酸三ソーダ(12水塩)10重量部、臭素酸カ
リウム10重量部を水1000重量部に溶解した現像液
(31℃)に同時に浸漬し、25秒後に取り出した後
水洗し乾燥したところ、レーザー光照射部分の感
光層及び蒸着層が溶出し、レーザー光非照射部分
の感光層及び蒸着層がポリエステルフイルム状に
残留し、レーザー光走査に対応した画像が得られ
た。画像部における蒸着層の透過光学濃度は3.4
以上あり、フオトマスクに使用する上で良好な性
能を有していた。 実施例 2 実施例1で用いた感光液中のトリエタノールア
ミンに代えて表3に示す化合物a〜eを用いた以
外は実施例1と同様にして乾燥膜厚1.0μmの感
光層を有する感光性フイルムを作製し、実施例1
と全く同様な処理を施したところ、実施例1と同
様にレーザー光照射部分の感光層及び蒸着層が溶
出し、レーザー光非照射部分の感光層及び蒸着層
がポリエステルフイルム上に残留し、レーザー光
走査に対応した画像が得られた。 実施例 3 機械的な方法によつて砂目立てした平版用の
2S材アルミニウム板(アルミニウム99%、マグ
ネシウム0.6%、ケイ素0.4%からなるアルミニウ
ム合金板)を40℃に保たれた2重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液中に1分間浸漬して表面を腐食さ
せた。水洗後、硫酸−クロム酸混液に約1分間浸
漬して純アルミニウムの表面を露出した後、30℃
に保たれた20%硫酸溶液中に浸漬し、直流電圧
15V、電流密度3A/dm2の条件で2分間陽極酸化
を行つた。ついで濃度2.0重量%、温度65℃のモ
リブデン酸ナトリウム水溶液に90秒間浸漬し、乾
燥した。 次に、下記の処方の感光液を調液し、上記のア
ルミニウム板上に回転塗布機を用いて感層膜厚
2.5μmとなるように塗布して2枚の感光板A、
Bを作製した。 感光液処方 1・2−ナフトキノンジアジド化合物(実施例1
と同じ化合物) 10重量部 フエノール樹脂(実施例1と同じ化合物)
20重量部 ローズアニリン(C.I.622) 1 〃 メチルエチルケトン 120 〃 メチルセロソルブアセテート 120 〃 実施例1と同様な方法により、上記2枚の感光
板を先ず全面一様露光し、次いで実施例1と同様
な方法によりアルゴンイオンレーザー光を走査し
た(感光面上でのレーザービーム径は100μmで
あり、走査速度は4.5m/sec)。その際感光板Aに
ついては感光面上のビームエネルギーが800m
W、Bについてはビームエネルギーが500mWと
なるように走査した。次に、富士写真フイルム株
式会社製ポジ型PS版用現像液(商品名DP−1)
を、水との容量比が1:6になるように希釈した
液(27℃)に1分間浸漬したところ、感光板Aに
ついてはレーザー光照射部分の感光層がアルミニ
ウム支持体上に残留し、レーザー光非照射部分の
感光層は現像液中に溶解除去され、レーザー光照
射に対応した画像が得られた。一方、感光板Bに
ついては感光板Bとは逆にレーザー光照射部分の
感光層が現像液中に溶解除去され、非照射部分の
感光層が支持体上に残留し、レーザー光照射パタ
ーンに対応した画像が得られた。このようにして
得られた感光板A、Bを更に下記の処方の不感脂
化液で処理した。 不感脂化液処方 アラビアゴム 100重量部 りん酸(85重量%水溶液) 40 〃 重クロム酸アンモニウム 80 〃 o−フエニルレンジアミン 60 〃 水 1000 〃 このようにして処理された感光板A、Bを印刷
版としてオフセツト印刷機により印刷したとこ
ろ、A、B共に感光層上に良好にインキが着肉
し、それらによる印刷物はレーザー光走査に対応
して、印刷紙面上でネガ、ポジ反対のものであつ
た。 実施例 4 実施例1で用いた感光液中のトリエタノールア
ミンに代えてオイルブルー#15(C.I.74350)を
用いる以外は、実施例1と同様にして乾燥膜厚
1.0μmの感光層を有する感光性フイルムを作製
し、実施例1と同様に全面一様露光した。次に、
出力10mWのヘリウム・ネオンレーザーをビーム
径20μmに絞り、該感光面を1cm/秒の速度で走
査露光した。このレーザー走査した感光性フイル
ムを実施例1と全く同様な方法により現像したと
ころ、レーザー光照射部分の感光層及び蒸着層が
ポリエステルフイルム上に残留し、レーザー光非
照射部分の感光層及び蒸着層が現像液中に溶解除
去されて、レーザー光走査パターンに対応した画
像が形成された。 実施例 5 実施例4で用いた感光液中のオイルブルー#15
(C.I.74350)の代わりに、アイゼンビクトリアピ
ユアブルーBOH(C.I.42595)を用いた以外は全
く同様な方法により、感光性フイルムを作製し、
全面一様露光から現像処理まで実施例4と全く同
様の処理を施したところ、レーザー光照射部分の
感光層及び蒸着層がポリエステルフイルム上に残
留し、レーザー光非照射部の感光層及び蒸着層が
現像液中に溶解除去されてレーザー光走査パター
ンに対応した画像が形成された。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 支持体上にo−キノンジアジド化合物を主成
    分とし、かつ該化合物に対して活性な光線(波長
    λ)による露光の後、レーザ光線(波長λ
    を照射すると、その部分の現像液に対する溶解速
    度を変化させることができる化合物としてアミ
    ン、アミン以外の窒素含有環状化合物、水酸基を
    有する芳香族炭化水素、芳香族カルボニル化合物
    または染料を含む感光層が設けられた画像形成材
    料の該感光層に上記の活性光線(波長λ)を一
    様に露光し、しかる後画像状にレーザ光線(波長
    λ)を照射し、次いで現像処理を施すことを特
    徴とする画像形成方法。
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