JPS586940B2 - 閉ル−プ形フィルム清浄装置 - Google Patents
閉ル−プ形フィルム清浄装置Info
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- JPS586940B2 JPS586940B2 JP55045791A JP4579180A JPS586940B2 JP S586940 B2 JPS586940 B2 JP S586940B2 JP 55045791 A JP55045791 A JP 55045791A JP 4579180 A JP4579180 A JP 4579180A JP S586940 B2 JPS586940 B2 JP S586940B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/502—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of tape carriers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C11/06—Smoothing; Renovating; Roughening; Matting; Cleaning; Lubricating; Flame-retardant treatments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D15/00—Apparatus for treating processed material
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フイルムまたは同様な細条材料の超音波清浄
のため溶剤を使用し、フイルム清浄に匝用した溶剤を再
生して再び使用できるようにするフイルム清浄装置に関
するものである。
のため溶剤を使用し、フイルム清浄に匝用した溶剤を再
生して再び使用できるようにするフイルム清浄装置に関
するものである。
種々の材料の洗浄のため液状媒体において高エネルギー
音波を関用することはフイルム清浄その他の産業におい
て周知である。
音波を関用することはフイルム清浄その他の産業におい
て周知である。
フイルム清浄産業では清浄すべきフイルムに音波を伝え
るために使用する液状媒体は清浄溶剤自体である。
るために使用する液状媒体は清浄溶剤自体である。
かかる超音波清浄媒体をフイルム産業で使用する場合、
克服するのが最も難かしい問題は、溶剤浴から取出した
フイルムの表面に付着している如何なる清浄溶剤をも除
去するということである。
克服するのが最も難かしい問題は、溶剤浴から取出した
フイルムの表面に付着している如何なる清浄溶剤をも除
去するということである。
かかる不所望な溶剤を除去する一つの方法では適当に構
成配置した空気ノズルによりフイルムの両面に高圧空気
を吹付けフイルム表面上での空気の作用により過剰な溶
剤および汚染物質を非蒸発方式で剥離、除去するように
する。
成配置した空気ノズルによりフイルムの両面に高圧空気
を吹付けフイルム表面上での空気の作用により過剰な溶
剤および汚染物質を非蒸発方式で剥離、除去するように
する。
フイルム上でのかかる空気の作用により、ノズルを囲み
かつノズルの直ぐ近くの領域において溶剤のミストが発
生する。
かつノズルの直ぐ近くの領域において溶剤のミストが発
生する。
フイルム清浄産業において吏用される溶剤は、そのミス
トを長期間にわたり多量に吸入した場合人間にとって危
険をもたらすような性質のものである。
トを長期間にわたり多量に吸入した場合人間にとって危
険をもたらすような性質のものである。
かかるミストに対処するために現在朗用されているすべ
ての方法は、フイルム清浄装置のオペレータの吸入する
大気からかかるミストを除去するようにしているが、最
終的にはかかるミストが他の箇所で大気中に堆積または
沈降する事態を招来している。
ての方法は、フイルム清浄装置のオペレータの吸入する
大気からかかるミストを除去するようにしているが、最
終的にはかかるミストが他の箇所で大気中に堆積または
沈降する事態を招来している。
またフイルムを清浄にするために使用した溶剤を再生す
る方法もフイルム清浄産業において既知である。
る方法もフイルム清浄産業において既知である。
現用されているかかる方法のすべてにおいて、汚染され
た溶剤をフイルム清浄装置から除去し、これを別個の溶
剤再生装置へ移送するようにしている。
た溶剤をフイルム清浄装置から除去し、これを別個の溶
剤再生装置へ移送するようにしている。
別個の溶剤清浄装置により浄化した後溶剤は再びフイル
ム清浄装置へ返送される。
ム清浄装置へ返送される。
従ってフイルムの清浄動作および溶剤の浄化動作に対し
2個の装置を必要とし、2個の装置の間での溶剤の移送
を手動操作で行わなければならないことがしばしばある
。
2個の装置を必要とし、2個の装置の間での溶剤の移送
を手動操作で行わなければならないことがしばしばある
。
本発明の目的は、フイルム清浄動作および溶剤再生動作
の両方を単一装置で可能ならしめる閉ループ形フイルム
清浄装置を提供するにある。
の両方を単一装置で可能ならしめる閉ループ形フイルム
清浄装置を提供するにある。
本発明の他の目的は、溶剤蒸気の周囲大気中への散逸を
最小にするフイルム清浄装置を提供するにある。
最小にするフイルム清浄装置を提供するにある。
本発明では、汚染されたフイルムその他類似の細条材料
をリール機構により溶剤浴を介して移動させる。
をリール機構により溶剤浴を介して移動させる。
溶剤浴に浸漬されている間フイルムには高エネルギー音
波を作用させてフイルム表面からほぼすべての汚染物を
除去する。
波を作用させてフイルム表面からほぼすべての汚染物を
除去する。
溶剤浴から引出された際少量の溶剤がフイルムの表面に
付着しており、これを除去する必要がある。
付着しており、これを除去する必要がある。
そこでフィルムをその表面に溶剤を高圧で吹付ける1対
のスプレイノズルの間を通過させ、多量の不所望溶剤を
除去する。
のスプレイノズルの間を通過させ、多量の不所望溶剤を
除去する。
最後にフイルム上の溶剤の痕跡(トレース)を除去する
ためフイルムをその表面に空気を吹付けるよう構成配置
した2個の空気ノズルの間を通過させ、フイルムの表面
から残存する溶を非蒸発方式で剥離するようにする。
ためフイルムをその表面に空気を吹付けるよう構成配置
した2個の空気ノズルの間を通過させ、フイルムの表面
から残存する溶を非蒸発方式で剥離するようにする。
フイルム上に対する空気ノズルの作用によりノズルの直
ぐ近くであってノズルを囲む領域において溶剤のミスト
が発生する。
ぐ近くであってノズルを囲む領域において溶剤のミスト
が発生する。
複数の冷却巻管を空気ノズルの近くに配置し、ノズルの
作用によって発生した溶剤のミストを凝縮し、凝縮した
溶剤を冷却巻管の下に醒置した樋部に集める。
作用によって発生した溶剤のミストを凝縮し、凝縮した
溶剤を冷却巻管の下に醒置した樋部に集める。
次いで、実際上溶剤ミストを含まない空気を、ノズルに
供給する圧縮空気を発生する空気圧縮機へ返送する。
供給する圧縮空気を発生する空気圧縮機へ返送する。
その際空気はまず第2冷却装置を通過させて、空気圧縮
機、従って空気ノズルへ返送させる溶剤ミストの量を最
小ならしめる。
機、従って空気ノズルへ返送させる溶剤ミストの量を最
小ならしめる。
かくして閉ループ形圧縮系が構成され、これによればフ
イルム清浄装置の周囲大気中への危険な溶剤ミストの散
逸が最小になる。
イルム清浄装置の周囲大気中への危険な溶剤ミストの散
逸が最小になる。
清浄動作モードに当り溶剤は常に凝縮されかつ浄化装置
を通過する。
を通過する。
フイルム清浄モードでの団用期間の後、溶剤浴中の溶剤
および冷却巻管から集められた溶剤は汚染されており、
浄化または交換する必要がある。
および冷却巻管から集められた溶剤は汚染されており、
浄化または交換する必要がある。
本発明の第2の動作モードでは清浄タンクおよび収集樋
部から溶剤を排出し、これを蒸溜タンクへ移送し、ここ
で溶剤を蒸発点まで加熱する。
部から溶剤を排出し、これを蒸溜タンクへ移送し、ここ
で溶剤を蒸発点まで加熱する。
次いで溶剤ミストをフイルム清浄動作モードにおいて関
用した上記冷却巻管へ移送し、ここで溶剤ミストを凝縮
し再び収集される。
用した上記冷却巻管へ移送し、ここで溶剤ミストを凝縮
し再び収集される。
次いで凝縮された溶剤を水分離器、乾燥器、および溶剤
のpH値を調整する化学的調整段から成る3段形溶剤浄
化装置へ移送し、溶剤は動作サイクルに当り若干酸性に
なる可能性がある。
のpH値を調整する化学的調整段から成る3段形溶剤浄
化装置へ移送し、溶剤は動作サイクルに当り若干酸性に
なる可能性がある。
次いで浄化された溶剤をフイルム清浄動作モードでの再
朗用のため溶剤タンクへ返送するっ 図面につき本発明を説明する。
朗用のため溶剤タンクへ返送するっ 図面につき本発明を説明する。
本発明のフイルム清浄動作および溶剤再生モードでの動
作を第1図に示す。
作を第1図に示す。
第2図にはフイルム清浄装置においてフイルム清浄モー
ドの動作に関連する部分だけを示し、図中第1図と同じ
要素は同じ番号で示す。
ドの動作に関連する部分だけを示し、図中第1図と同じ
要素は同じ番号で示す。
第2図において、フイルム10または同様な細条材料は
駆動ローラ13によりフイルム10に伝達される運動を
介して供給リール11から送出される。
駆動ローラ13によりフイルム10に伝達される運動を
介して供給リール11から送出される。
フイルム10はタンク14へ移動し、このタンクに収納
した溶剤15に浸漬される。
した溶剤15に浸漬される。
フイルム10はタンク14内で溶剤の液面下に配置した
ローラ16の周りを走行し、次いで走行方向を逆にして
上方への移動を継続して駆動ローラ13に到達する。
ローラ16の周りを走行し、次いで走行方向を逆にして
上方への移動を継続して駆動ローラ13に到達する。
次いでフイルム10は張カアーム90を通過し、巻取リ
ール91に巻装される。
ール91に巻装される。
溶剤15は1,1,1−トリクロロエチレンまたは他の
適当な清浄溶剤とすることができる。
適当な清浄溶剤とすることができる。
フイルム清浄モードでの作動に当シ、タンク14に取付
けた多数のトランスジューサ17により、タンク14内
の溶剤15に超音波エネルギーが供給され、これにより
フイルム10の表面から汚染物質を除去する手段が構成
される。
けた多数のトランスジューサ17により、タンク14内
の溶剤15に超音波エネルギーが供給され、これにより
フイルム10の表面から汚染物質を除去する手段が構成
される。
トランスジューサ17は25KHzの如き清浄を行うの
に好適な周波数で作動させることができる。
に好適な周波数で作動させることができる。
トランスジューサ17は並列に接続し、その個数は第2
図に示す如く8個とするか、または所望の清浄を行うの
に必要な任意の数とすることができる。
図に示す如く8個とするか、または所望の清浄を行うの
に必要な任意の数とすることができる。
第2図ではトランスジューサ17に対する電気結線は超
音波発振器18に対するもの以外図示してない。
音波発振器18に対するもの以外図示してない。
溶剤15から引出される際溶剤の薄層がフイルム100
表面に付着し、これを除去する必要がある。
表面に付着し、これを除去する必要がある。
フイルム10はタンク14内で溶剤15の液面の僅か上
方に配置した高圧スプレイノズル25および26の間を
通過する。
方に配置した高圧スプレイノズル25および26の間を
通過する。
スプレイノズル25および26はポンプ22を介しタン
ク14の底部の出口部21からタンク14の溶剤を吸引
する。
ク14の底部の出口部21からタンク14の溶剤を吸引
する。
更にボンプ22は溶剤15をタンク14から流体フィル
タ23を介しスプレイノズル25および26へ転送する
。
タ23を介しスプレイノズル25および26へ転送する
。
弁24を用いてノズル25および26において所望のス
プレイノズル圧力を維持するようにする。
プレイノズル圧力を維持するようにする。
過剰な溶剤は入口部27を介してタンク14へ返送する
。
。
スプレイノズル25および26の動作によりフイルム1
00表面から相当な量の溶剤が除去されるが、この表面
上には依然として溶剤の薄層が残存し、これを除去する
必要がある。
00表面から相当な量の溶剤が除去されるが、この表面
上には依然として溶剤の薄層が残存し、これを除去する
必要がある。
フイルム10の表面から溶剤のすべての痕跡を除去する
ためフイルム10を2個の空気ノズル41および42の
間を通過させ、これら空気ノズルはフイルム10の表面
に高速空気流を吹付ける。
ためフイルム10を2個の空気ノズル41および42の
間を通過させ、これら空気ノズルはフイルム10の表面
に高速空気流を吹付ける。
ノズル41および42から吹出す空気量をノズル41お
よび42の互に対向する実際上平行な表面上に配置した
複数の小さい空気噴出口によシ分布させるようにする。
よび42の互に対向する実際上平行な表面上に配置した
複数の小さい空気噴出口によシ分布させるようにする。
ノズル41および42の噴出口配置表面を適切に近接配
置してフイルム10の厚さより若干幅の広い狭い間隙が
介在するようにする。
置してフイルム10の厚さより若干幅の広い狭い間隙が
介在するようにする。
例えば重ね継ぎ部の如き厚さの厚いフイルム部分がこの
間隙に入る場合には、図示しない手段によりこの間隙を
大きくすることができる。
間隙に入る場合には、図示しない手段によりこの間隙を
大きくすることができる。
ノズル41および42から吹出す高速空気流は空気圧縮
機40によって発生させる。
機40によって発生させる。
空気ノズル41および42から吹出される高速空気の作
用はフイルム10の表面から溶剤のすべての痕跡を非蒸
発態様で剥離し、ノズル41および42の局限された領
域内に溶剤のミストを発生させることである。
用はフイルム10の表面から溶剤のすべての痕跡を非蒸
発態様で剥離し、ノズル41および42の局限された領
域内に溶剤のミストを発生させることである。
とのミストによりフイルム10の表面上に溶剤が再度堆
積するのを防止するため阻板43および44をスプレイ
ノズル41および42に取付けかつノズル41および4
2の直接上方に向けて配設する。
積するのを防止するため阻板43および44をスプレイ
ノズル41および42に取付けかつノズル41および4
2の直接上方に向けて配設する。
フイルム10はタンク14から阻板43および44の間
を通過し、その際空気ノズル41および42を囲む溶剤
のミストと接触することがなく、巻取りール91に巻装
される。
を通過し、その際空気ノズル41および42を囲む溶剤
のミストと接触することがなく、巻取りール91に巻装
される。
フイルム10の端部が到来した場合、フイルム引張アー
ム90により装置を自動的に停止させる。
ム90により装置を自動的に停止させる。
効果的な清浄特性を有し従って本発明の如きフイルム清
浄装置で吏用するのに好適な多くの溶剤は人間が長期間
にわたり多量に吸入した場合著しく危険であるから、空
気ノズル41および42からの空気の作用によって発生
する溶剤のミストを調節して、大気中への散逸を最小に
することが所望される。
浄装置で吏用するのに好適な多くの溶剤は人間が長期間
にわたり多量に吸入した場合著しく危険であるから、空
気ノズル41および42からの空気の作用によって発生
する溶剤のミストを調節して、大気中への散逸を最小に
することが所望される。
アキュムレータ46、冷凍圧縮機47、乾燥機48、膨
脹弁49、圧力調節器50およびセンサ51から成る普
通の冷凍装置を関用してコンデンシング巻管45を作動
させる。
脹弁49、圧力調節器50およびセンサ51から成る普
通の冷凍装置を関用してコンデンシング巻管45を作動
させる。
巻管45はタンク14内で空気ノズル41および42を
囲むよう配置する。
囲むよう配置する。
第2図では4個の巻管45を示したが、所要に応じこの
数を増減することができる。
数を増減することができる。
コンデンシング巻管45は、空気ノズル41および42
の空気の作用によシ溶剤のミストが発生する領域を囲む
。
の空気の作用によシ溶剤のミストが発生する領域を囲む
。
溶剤のミストは巻管45上に凝縮し、タンク14内で巻
管45の下に配置した樋部60へ滴下し、ここに集めら
れる。
管45の下に配置した樋部60へ滴下し、ここに集めら
れる。
空気ノズル41および42から吹出され、巻管45の凝
縮作用に起因して実際上溶剤ミストを含まない空気は出
口部52および53を介しタンク14から吸出される。
縮作用に起因して実際上溶剤ミストを含まない空気は出
口部52および53を介しタンク14から吸出される。
空気中に依然として残存するおそれのある漂遊溶剤ミス
トは第2冷却室54によって除去する。
トは第2冷却室54によって除去する。
次いで空気は空気圧縮機40へ戻り、再度循環して空気
ノズル41および42を介し再度導入される。
ノズル41および42を介し再度導入される。
従って完全な閉ループ圧縮機系が形成され、周囲大気中
へ散逸する溶剤ミストの量は実際上最小になる。
へ散逸する溶剤ミストの量は実際上最小になる。
従ってかかるミストを吸入する危険性は著しく小さくな
り、人間はフイルム清浄装置の囲りの直ぐ近くの領域で
作業することができ、その際溶剤ミストによる悪影響を
受けることがない。
り、人間はフイルム清浄装置の囲りの直ぐ近くの領域で
作業することができ、その際溶剤ミストによる悪影響を
受けることがない。
第1図に示すように、溶剤15の表面上に配置したフロ
ート30により溶剤15の液面をタンク14内で一定に
維持するようにする。
ート30により溶剤15の液面をタンク14内で一定に
維持するようにする。
フロート30により、溶剤収納容器32からの流路に連
結した電磁弁を作動させる。
結した電磁弁を作動させる。
容器32内の圧力は空気ポンプ33によって維持され、
従ってフロート30により電磁弁31を作動させて容器
32からの流路を開いた場合、空気ポンプ33からの圧
力により溶剤は電磁弁31および入口部34を介してタ
ンク14に供給される。
従ってフロート30により電磁弁31を作動させて容器
32からの流路を開いた場合、空気ポンプ33からの圧
力により溶剤は電磁弁31および入口部34を介してタ
ンク14に供給される。
タンク14内の溶剤15の液面が所望の液面に達した場
合、フロート30により電磁弁31の作動を終了させ、
容器32からの溶剤の供給を停止させる。
合、フロート30により電磁弁31の作動を終了させ、
容器32からの溶剤の供給を停止させる。
フイルム清浄モードにおける動作期間の後、タンク14
における溶剤15および樋部60に集められた溶剤は汚
染された状態にあり、浄化するかまたは交換する必要が
ある。
における溶剤15および樋部60に集められた溶剤は汚
染された状態にあり、浄化するかまたは交換する必要が
ある。
本発明のフイルム清浄装置は第2モードの溶剤再生モー
ドで作動して溶剤を浄化しこれをタンク14へ返送する
ことができる。
ドで作動して溶剤を浄化しこれをタンク14へ返送する
ことができる。
溶剤再生モードで作動させることが所望される場合には
、弁62を開放し、タンク14における溶剤15を重力
を介し出口部61から蒸溜タンク63へ流入させる。
、弁62を開放し、タンク14における溶剤15を重力
を介し出口部61から蒸溜タンク63へ流入させる。
次いで蒸溜タンク63における溶剤64をタンク63に
取付けた加熱素子65により沸騰温度まで加熱する。
取付けた加熱素子65により沸騰温度まで加熱する。
フイルム清浄工業において吏用されるタイプの溶剤の沸
点は一般に水の沸点より低い。
点は一般に水の沸点より低い。
特に1,1,1−トリクロルエタンの沸点は72.0℃
である。
である。
従って加熱された場合溶剤は蒸発し、一方蒸溜タンク6
3における水の大部分は液体状に留る。
3における水の大部分は液体状に留る。
溶剤のミストは出口部71および72を介して蒸溜タン
ク63から流出し、タンク14における冷却巻管45を
囲む領域へ移送され、入口部73および74を介してタ
ンク14内に流入する。
ク63から流出し、タンク14における冷却巻管45を
囲む領域へ移送され、入口部73および74を介してタ
ンク14内に流入する。
タンク63内のフロート68に感知弁67を適切に結合
し、実際上すべての溶剤64が蒸発し浄溜タンク63か
ら流出した場合、感知弁67を作動させて、加熱素子6
5に電力を供給する電源66を遮断するようにする。
し、実際上すべての溶剤64が蒸発し浄溜タンク63か
ら流出した場合、感知弁67を作動させて、加熱素子6
5に電力を供給する電源66を遮断するようにする。
次いでタンク63に残存する水その他の汚染物質は弁6
9を開放してタンク63から出口部92を介して除去す
ることができる。
9を開放してタンク63から出口部92を介して除去す
ることができる。
汚染物質および水は重力によりドレン70へ流出させる
ことができる。
ことができる。
一方、フイルム清浄動作モードにつき前述した冷凍装置
により依然作動ざせているコンデンシング巻管45を囲
む溶剤ミストは巻管45によって冷却され、樋部60に
集められる。
により依然作動ざせているコンデンシング巻管45を囲
む溶剤ミストは巻管45によって冷却され、樋部60に
集められる。
この凝縮された溶剤ミストぱ、フイルム清浄動作モード
に当り樋部60に集められた溶剤と共に重力によりタン
ク14から出口部75を介し溶剤浄化装置76へ流動す
る。
に当り樋部60に集められた溶剤と共に重力によりタン
ク14から出口部75を介し溶剤浄化装置76へ流動す
る。
溶剤浄化装置76は3段構造とし、溶剤はこの3段構造
をすべて重力によって流れるようにする。
をすべて重力によって流れるようにする。
第1段77ぱ水分離器で構成し、この水分離器はフイル
ム清浄動作モードに当り流入する溶剤のうち樋部60に
集めた溶剤部分に存在する水分を更に除去する。
ム清浄動作モードに当り流入する溶剤のうち樋部60に
集めた溶剤部分に存在する水分を更に除去する。
蒸溜クンク63において蒸溜された溶剤からは実際上既
にすべての水分が分離されている筈であるが、第1段の
水分離器77により更にすべての水分の根跡を除去する
。
にすべての水分が分離されている筈であるが、第1段の
水分離器77により更にすべての水分の根跡を除去する
。
集められ除去された水は水分離器77から出口部80を
介しドレン93へ排出され、このドレン93はドレン7
0に接続することができる。
介しドレン93へ排出され、このドレン93はドレン7
0に接続することができる。
空気抜き弁81を開放することにより溶剤を第1段77
の出口部94から重力により溶剤清浄装置76の第2段
78の入口部95へ流入させることができる。
の出口部94から重力により溶剤清浄装置76の第2段
78の入口部95へ流入させることができる。
なお図示の便宜上第1図において溶剤浄化装置76の各
段の入口部および出口部の配置は、この浄化装置76に
おいて重力による溶剤の流れを効果的に生ぜしめるため
の実際の配置を必ずしも示してはいないことは勿論であ
る。
段の入口部および出口部の配置は、この浄化装置76に
おいて重力による溶剤の流れを効果的に生ぜしめるため
の実際の配置を必ずしも示してはいないことは勿論であ
る。
溶剤浄化装置76の第2段78は特殊な樹脂を収納した
乾燥器であり、かかる特殊な樹脂としては例えばダウ・
ケミカル社製の商品名“DowexAHCRW2−H”
が好適であるがこれに限定されるものでないこと勿論で
、上記特殊な樹脂は第2段78に収納する前に乾燥して
おく。
乾燥器であり、かかる特殊な樹脂としては例えばダウ・
ケミカル社製の商品名“DowexAHCRW2−H”
が好適であるがこれに限定されるものでないこと勿論で
、上記特殊な樹脂は第2段78に収納する前に乾燥して
おく。
その場合溶剤は重力により第2段78の出口部85から
溶剤浄化装置76の段3段79の入口部96へ流入する
。
溶剤浄化装置76の段3段79の入口部96へ流入する
。
フイルム清浄装置の両方の動作モードに当り溶剤15は
使用に従って若干酸を生成する。
使用に従って若干酸を生成する。
溶剤浄化装置76の第3段79は溶剤に対し炭酸カルシ
ウムの如き“化学的修正作用”を施す。
ウムの如き“化学的修正作用”を施す。
これにフより溶剤のpH値を好適なpH値である約7に
戻す。
戻す。
次いで溶剤は出口部87を介し第3段79から排出され
、重力によりタンク14の人口部88へ返送される。
、重力によりタンク14の人口部88へ返送される。
従って浄化された溶剤は再びタンク14内に堆積され、
フイルム清浄動作モードに1おいて再び使用することが
できる。
フイルム清浄動作モードに1おいて再び使用することが
できる。
溶剤浄化装置76の各段には、第1段77の83、第2
段78の84、第3段79の86で示す如く通気口を設
け、これら通気口を共通通気管82に接続し、この共通
通気管により、ガスによって発生する如何なる圧力をも
逃がし得るようにし、また溶剤浄化装置76のいずれの
段においても発生するおそれのあるサイフォン現象を防
止するようにする。
段78の84、第3段79の86で示す如く通気口を設
け、これら通気口を共通通気管82に接続し、この共通
通気管により、ガスによって発生する如何なる圧力をも
逃がし得るようにし、また溶剤浄化装置76のいずれの
段においても発生するおそれのあるサイフォン現象を防
止するようにする。
第1図は本発明のフイルム清浄装置の実施例を示す略線
図、第2図はその要部を詳細に示す略線図である。 10・・・・・・フイルム、11・・・・・・供給リー
ル、13・・・・・・駆動ローラ、14・・・・・・タ
ンク、15・・・・・・溶剤、16・・・・・・ローラ
、17・・・・・・トランスジューサ、18・・・・・
・超音波発振器、21・・・・・・出口部、22・・・
・・・ポンプ、23・・・・・・流体フィルタ、24・
・・・・・弁、25,26・・・・・・高圧スプレイノ
ズル、27人口部、30・・・・・・フロート、31・
・・−・・電磁弁、32・・・・・・溶剤収納容器、3
3・・・・・・空気ポンプ、34・・・・・・入口部、
40・・・・・・空気圧縮機、41.42・・・・・・
空気ノズル、43,44・・・・・・阻板、45・・・
・・・コンデンシング巻管、46・・・・・・アキュム
レーク、47・・・・・・冷凍圧縮機、48・・・・・
・乾燥機、49・・・・・・膨脹弁、:50圧力調節器
、51・・・・・・センサ、52,53・・・・・・出
口部、54・・・・・・第2冷却室、60・・・・・・
樋部、61・・・・・・出口部、62−・・・・・弁、
63・・・・・・蒸溜タンク、64・・・・・・溶剤、
65・・・・・・加熱素子、66・・・・・・電源、6
7・・・・・・感知弁、68・・・・・・フロート、6
9・・・・・・弁、70・・・・・・ドレン、71,7
2・・・・・・出口部、73,74・・・・・・入口部
、75・・・・・・出口部、76・・・・・・溶剤浄化
装置、77・・・・・・第1段、78・・・・・・第2
段、79・・・・・・第3段、80・・・・・・出口部
、81・・・・・・空気抜き弁、82・・・・・・共通
通気管、83.84・・・・・・通気口、85・・・・
・・出口部、86・・・・・・通気孔、87・・・・・
・出口部、88・・・・・・入口部、90・・・・・・
張力アーム、91・・・・・・巻取リール、92・・・
・・・出口部、93・・・・・・ドレン、94・・・・
・・出口部、95,96・・・・・・入口部。
図、第2図はその要部を詳細に示す略線図である。 10・・・・・・フイルム、11・・・・・・供給リー
ル、13・・・・・・駆動ローラ、14・・・・・・タ
ンク、15・・・・・・溶剤、16・・・・・・ローラ
、17・・・・・・トランスジューサ、18・・・・・
・超音波発振器、21・・・・・・出口部、22・・・
・・・ポンプ、23・・・・・・流体フィルタ、24・
・・・・・弁、25,26・・・・・・高圧スプレイノ
ズル、27人口部、30・・・・・・フロート、31・
・・−・・電磁弁、32・・・・・・溶剤収納容器、3
3・・・・・・空気ポンプ、34・・・・・・入口部、
40・・・・・・空気圧縮機、41.42・・・・・・
空気ノズル、43,44・・・・・・阻板、45・・・
・・・コンデンシング巻管、46・・・・・・アキュム
レーク、47・・・・・・冷凍圧縮機、48・・・・・
・乾燥機、49・・・・・・膨脹弁、:50圧力調節器
、51・・・・・・センサ、52,53・・・・・・出
口部、54・・・・・・第2冷却室、60・・・・・・
樋部、61・・・・・・出口部、62−・・・・・弁、
63・・・・・・蒸溜タンク、64・・・・・・溶剤、
65・・・・・・加熱素子、66・・・・・・電源、6
7・・・・・・感知弁、68・・・・・・フロート、6
9・・・・・・弁、70・・・・・・ドレン、71,7
2・・・・・・出口部、73,74・・・・・・入口部
、75・・・・・・出口部、76・・・・・・溶剤浄化
装置、77・・・・・・第1段、78・・・・・・第2
段、79・・・・・・第3段、80・・・・・・出口部
、81・・・・・・空気抜き弁、82・・・・・・共通
通気管、83.84・・・・・・通気口、85・・・・
・・出口部、86・・・・・・通気孔、87・・・・・
・出口部、88・・・・・・入口部、90・・・・・・
張力アーム、91・・・・・・巻取リール、92・・・
・・・出口部、93・・・・・・ドレン、94・・・・
・・出口部、95,96・・・・・・入口部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 フイルムの清浄動作を閉ループ方式で行うため、空
気圧縮機;フイルム清浄溶剤を収納したフイルム清浄タ
ンク;前記フイルム清浄タンクに結合した複数の超音波
トランスジューサ;一連のフイルムを前記フイルム清浄
タンク内へ移動してフイルム表面を前記フイルム清浄溶
剤と接触させる装置;前記フイルム清浄タンク内で前記
フイルム清浄溶剤の上方に配置した1対の溶剤スプレイ
ノズルを備え、前記フイルムが前記スプレイノズルの間
を通過する際前記フイルムに清浄溶剤を吹付けて前記フ
イルムの洗滌を行い;空気圧縮機に接続され移動フイル
ムにつき前記溶剤タンクの下流側でフイルム通路の極く
近くに配置する1対の空気ノズルを備え、前記フイルム
が前記空気ノズルの間を通過する際前記空気ノズルから
高圧空気を吹付けることにより前記フイルムの表面から
溶剤を剥離し;冷凍装置に接続した複数の凝縮巻管を移
動フイルムにつき前記空気ノズルの下流側に配置し、前
記溶剤剥離に付随して発生した溶剤ミストを前記巻管に
より凝縮し、前記巻管の下に配置した収集装置を備え、
前記凝縮した溶剤が前記巻管から滴下する際前記収集装
置により前記凝縮した溶剤を収集し;前記フイルム清浄
タンクおよび前記巻管の周りの局部的領域を実際上密封
して溶剤ミストの周囲大気中への散逸を最小にする装置
;前記空気ノズルから噴射された空気を前記圧縮機へ返
送して閉ループ状空気転送路を形成する装置;および前
記収集装置から前記溶剤を除去し該溶剤を溶剤返送装置
へ供給する装置を備えたことを特徴とする閉ループ形フ
イルム清浄装置。 2 前記フイルム清浄タンクからの前記溶剤を溶剤蒸溜
タンクへ移送する装置:前記溶剤蒸溜タンクにおける前
記溶剤の温度を溶剤沸点丑で上げることにより前記溶剤
蒸溜タンクにおける前記溶剤を蒸発させる装置;前記溶
剤蒸溜タンクから前記巻管の周りの限られた領域へ前記
溶剤ミストを転送する装置を備え、前記巻管により前記
溶剤ミストを凝縮し、該凝縮した溶剤を前記巻管の下に
配置した前記収集装置によって収集し:溶剤浄化装置;
凝縮した溶剤を前記溶剤浄化装置へ転送する装置:およ
び前記溶剤をして前記溶剤浄化装置を通過させた後前記
溶剤を前記フイルム清浄タンクへ返送する装置を備えた
特許請求の範囲第1項記載のフイルム清浄装置。 3 前記各ノズルは前記フイルム表面に実際上平行で互
に対向する平坦表面を有し、前記平坦表面には、前記フ
イルム表面に高圧空気を吹付けるため複数の小さい空気
噴出孔を配設する特許請求の範囲第1項記載のフイルム
清浄装置。 4 前記1対のノズルの各ノズルの上にそれぞれ阻板を
配設し即ち1対の阻板を配設し、フイルムをして前記1
対の阻板の間を移動させて前記溶剤ミストが前記フイル
ム上に再度凝縮するのを防止する特許請求の範囲第1項
記載のフイルム清浄装置。 5 前記巻管上を通過した後前記空気圧縮機へ返送する
以前に、前記空気ノズルから噴射した前記空気をして第
2の冷却装置を通過させて溶剤ミストを更に凝縮し、前
記空気から前記溶剤ミストを除去する特許請求の範囲第
1項記載のフイルム清浄装置。 6 前配フイルム清浄タンク内の溶剤の表面上に配置し
たフロートにより前記フイルム清浄タンク内の溶剤液面
を一定に維持し、前記フロートは電磁弁を作動させて溶
剤容器からの溶剤の流入口を開放できるようにし、前記
溶剤容器における前記溶剤に空気ポンプにより圧力を加
えて前記フイルム清浄タンクへ流入できるようにする特
許請求の範囲第1項記載のフイルム清浄装置。 7 前記溶剤蒸溜タンクにフロートを配設し、該フロー
トにより弁を作動させて、前記溶剤蒸溜タンクにおける
前記溶剤の温度を上げる前記装置に電力を供給する電源
を遮断する特許請求の範囲第2項記載のフイルム清浄装
置。 8 前記溶剤蒸溜タンクに弁を配設し、該弁を開放する
ことにより前記溶剤蒸溜タンクの内容物をドレンヘ流出
できるようにする特許請求の範囲第2項記載のフイルム
清浄装置。 9 前記溶剤浄化装置を水分離段、乾燥段およびpH値
修正段で構成する特許請求の範囲第2項記載のフイルム
清浄装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/033,729 US4244078A (en) | 1979-04-26 | 1979-04-26 | Method and apparatus for cleaning film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55144242A JPS55144242A (en) | 1980-11-11 |
JPS586940B2 true JPS586940B2 (ja) | 1983-02-07 |
Family
ID=21872114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55045791A Expired JPS586940B2 (ja) | 1979-04-26 | 1980-04-09 | 閉ル−プ形フィルム清浄装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4244078A (ja) |
JP (1) | JPS586940B2 (ja) |
CA (1) | CA1129756A (ja) |
DE (1) | DE2941708C2 (ja) |
GB (1) | GB2047426B (ja) |
Families Citing this family (21)
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- 1979-10-08 GB GB7934858A patent/GB2047426B/en not_active Expired
- 1979-10-15 DE DE2941708A patent/DE2941708C2/de not_active Expired
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GB2047426B (en) | 1983-09-28 |
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