JP2001335828A - 真空・減圧処理装置のダスト捕集方法 - Google Patents
真空・減圧処理装置のダスト捕集方法Info
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- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空・減圧処理設備の真空脱ガス処理中に発
生する排ガス中に含まれるダストを湿式で安価に効率よ
く集塵する。 【解決手段】 真空槽内を真空にするために蒸気エゼク
ターを設置し、エゼクターの下流に蒸気を凝縮するコン
デンサーを有する真空・減圧処理装置の排ガス中のダス
ト捕集方法において、真空槽内のガスを排出する経路に
設置された蒸気凝縮冷却用のコンデンサー１０Ａ内およ
び／または前記コンデンサー近傍の入側配管内にスプレ
ーノズル１、２を少なくとも１本設置し、該スプレーノ
ズル１、２からスプレーノズル１本あたり注水量が２〜
１２Ｌ／ｍ3、かつ全スプレーノズルからの総流量３０
〜２５００ｔ／ｈの水を噴射させ、排ガスの進行方向に
対して垂直方向全面を覆う水膜を多層で形成させて排出
ガス中のダストを捕集することを特徴とする、真空・減
圧処理装置のダスト捕集方法。
生する排ガス中に含まれるダストを湿式で安価に効率よ
く集塵する。 【解決手段】 真空槽内を真空にするために蒸気エゼク
ターを設置し、エゼクターの下流に蒸気を凝縮するコン
デンサーを有する真空・減圧処理装置の排ガス中のダス
ト捕集方法において、真空槽内のガスを排出する経路に
設置された蒸気凝縮冷却用のコンデンサー１０Ａ内およ
び／または前記コンデンサー近傍の入側配管内にスプレ
ーノズル１、２を少なくとも１本設置し、該スプレーノ
ズル１、２からスプレーノズル１本あたり注水量が２〜
１２Ｌ／ｍ3、かつ全スプレーノズルからの総流量３０
〜２５００ｔ／ｈの水を噴射させ、排ガスの進行方向に
対して垂直方向全面を覆う水膜を多層で形成させて排出
ガス中のダストを捕集することを特徴とする、真空・減
圧処理装置のダスト捕集方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶鋼、溶融金属を
真空減圧下で精錬する金属精錬用真空・減圧処理装置の
ダスト捕集方法に関するものである。
真空減圧下で精錬する金属精錬用真空・減圧処理装置の
ダスト捕集方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】溶鋼の清浄化や成分調整等の目的で真空
・減圧精錬が実施されるが、この過程で一般的に採用さ
れるＤＨ法やＲＨ法に基づく真空・減圧精錬プロセスで
は、かなりの高真空度（１Ｔｏｒｒ以下程度）が要求さ
れるため、真空・減圧精錬プロセスに接続する真空排気
設備としても、それに対応する規模のものが必要とされ
る。図２に一般的な脱ガスプロセスにおける真空排気系
統の構成例を示す。
・減圧精錬が実施されるが、この過程で一般的に採用さ
れるＤＨ法やＲＨ法に基づく真空・減圧精錬プロセスで
は、かなりの高真空度（１Ｔｏｒｒ以下程度）が要求さ
れるため、真空・減圧精錬プロセスに接続する真空排気
設備としても、それに対応する規模のものが必要とされ
る。図２に一般的な脱ガスプロセスにおける真空排気系
統の構成例を示す。
【０００３】図２において、溶鋼精錬容器に接続する脱
ガス槽６の排気ダクトの下流側には、ダストを捕集する
ダストセパレーター７、多段のブースター８Ａ、８Ｂ、
８Ｃ、多段のエゼクター９Ａ、９Ｂ、９Ｃを順次設置し
て構成した真空排気設備が設けられている。炉内発生ガ
ス（排ガス）はこの真空排気設備で吸引されることにな
り、そのため炉内は要求される高真空度（１Ｔｏｒｒ以
下）領域に保たれる。
ガス槽６の排気ダクトの下流側には、ダストを捕集する
ダストセパレーター７、多段のブースター８Ａ、８Ｂ、
８Ｃ、多段のエゼクター９Ａ、９Ｂ、９Ｃを順次設置し
て構成した真空排気設備が設けられている。炉内発生ガ
ス（排ガス）はこの真空排気設備で吸引されることにな
り、そのため炉内は要求される高真空度（１Ｔｏｒｒ以
下）領域に保たれる。
【０００４】真空・減圧処理装置による真空精錬を実施
する場合、真空精錬処理として脱ガス部の真空度が５０
Ｔｏｒｒ程度での処理（軽処理）と１０Ｔｏｒｒ以下が
必要な処理（本処理）があり、必要な真空度に応じて、
使用するブースター、エゼクター、コンデンサーを選択
する。上記本処理を実施する場合は、ブースター８Ａ、
８Ｂ、８Ｃおよびエゼクター９Ａに駆動用蒸気を流し、
コンデンサー１０Ａ、１０Ｂで冷却凝縮する。一方、上
記軽処理を実施する場合は、エゼクター９Ａ、９Ｂ、９
Ｃに駆動用蒸気を流し、コンデンサー１０Ｂ、１０Ｃ、
１０Ｄで冷却凝縮する。実際の操業においては本処理と
軽処理はランダムに実施する。
する場合、真空精錬処理として脱ガス部の真空度が５０
Ｔｏｒｒ程度での処理（軽処理）と１０Ｔｏｒｒ以下が
必要な処理（本処理）があり、必要な真空度に応じて、
使用するブースター、エゼクター、コンデンサーを選択
する。上記本処理を実施する場合は、ブースター８Ａ、
８Ｂ、８Ｃおよびエゼクター９Ａに駆動用蒸気を流し、
コンデンサー１０Ａ、１０Ｂで冷却凝縮する。一方、上
記軽処理を実施する場合は、エゼクター９Ａ、９Ｂ、９
Ｃに駆動用蒸気を流し、コンデンサー１０Ｂ、１０Ｃ、
１０Ｄで冷却凝縮する。実際の操業においては本処理と
軽処理はランダムに実施する。
【０００５】本処理においては、ダストセパレーター７
を通過してきたダストはブースター８Ａ、８Ｂ、８Ｃを
通り、コンデンサー１０Ａに入る。図３にコンデンサー
１０Ａの内部構造を示す。図３に示すように、コンデン
サー１０Ａでは蒸気の冷却凝縮用にコンデンサー上部の
注水孔１２から水を滴下して、コンデンサー内に設置さ
れた冷却用水と蒸気を効率よく接触させるためのトレイ
１１Ａ、１１Ｂを介して排水孔１３へ流しており、この
水によってある程度ダストが捕集される。この際の凝縮
冷却用水の流量は１５００〜２０００ｔ／ｈと多いもの
の、凝縮冷却用水とダストはトレイ１１Ａ、１１Ｂおよ
び排水孔１３へ落下する時に接触するだけである。従っ
て、コンデンサー内を通るすべての排ガスが冷却凝縮用
水に接触するわけではないので、完全なダスト捕集は困
難である。
を通過してきたダストはブースター８Ａ、８Ｂ、８Ｃを
通り、コンデンサー１０Ａに入る。図３にコンデンサー
１０Ａの内部構造を示す。図３に示すように、コンデン
サー１０Ａでは蒸気の冷却凝縮用にコンデンサー上部の
注水孔１２から水を滴下して、コンデンサー内に設置さ
れた冷却用水と蒸気を効率よく接触させるためのトレイ
１１Ａ、１１Ｂを介して排水孔１３へ流しており、この
水によってある程度ダストが捕集される。この際の凝縮
冷却用水の流量は１５００〜２０００ｔ／ｈと多いもの
の、凝縮冷却用水とダストはトレイ１１Ａ、１１Ｂおよ
び排水孔１３へ落下する時に接触するだけである。従っ
て、コンデンサー内を通るすべての排ガスが冷却凝縮用
水に接触するわけではないので、完全なダスト捕集は困
難である。
【０００６】軽処理の場合は、コンデンサー１０Ａには
水を流していないため、コンデンサー１０Ａにおけるダ
スト捕集効果はない。また、コンデンサー１０Ａ内は凝
縮冷却用の水分が残留しているため、コンデンサー１０
Ａを通過するダストは含水し、含水したダストはコンデ
ンサー１０Ａ直後のエゼクター９Ａに付着しやすい。エ
ゼクター９Ａにダストが付着すると、エゼクターの設計
通りの真空度を得られなくなる。
水を流していないため、コンデンサー１０Ａにおけるダ
スト捕集効果はない。また、コンデンサー１０Ａ内は凝
縮冷却用の水分が残留しているため、コンデンサー１０
Ａを通過するダストは含水し、含水したダストはコンデ
ンサー１０Ａ直後のエゼクター９Ａに付着しやすい。エ
ゼクター９Ａにダストが付着すると、エゼクターの設計
通りの真空度を得られなくなる。
【０００７】コンデンサー１０Ａの水を常時流していれ
ば、ある程度のダスト捕集効率は得られるが、水とダス
トの接触面積が低いため、コンデンサーの凝縮冷却用の
水を使用することにより完全にダストを捕集することは
困難である。
ば、ある程度のダスト捕集効率は得られるが、水とダス
トの接触面積が低いため、コンデンサーの凝縮冷却用の
水を使用することにより完全にダストを捕集することは
困難である。
【０００８】従来のダストセパレーターでのダスト捕集
では捕集効率が６０％程度と低いため、これ以上のダス
ト捕集効率を得るため、例えば、特開平８−３６２７号
公報、特開平８−２８３８２７号公報に開示されている
ように上記ダストセパレーターの直下にバグフィルター
等の乾式集塵設備を設置したものがある。図４に乾式集
塵設備としてバグフィルターを設置した設備の真空排気
系統の構成を示す。
では捕集効率が６０％程度と低いため、これ以上のダス
ト捕集効率を得るため、例えば、特開平８−３６２７号
公報、特開平８−２８３８２７号公報に開示されている
ように上記ダストセパレーターの直下にバグフィルター
等の乾式集塵設備を設置したものがある。図４に乾式集
塵設備としてバグフィルターを設置した設備の真空排気
系統の構成を示す。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記のようにダスト捕
集効率を上げるために、乾式集塵装置として図４に示す
ようなバグフィルター１７を用いた場合は、バグフィル
ター１７内の濾布の耐熱性から排ガスを１００℃程度ま
で冷却しなければならず、ダストセパレーター１５とバ
グフィルター１７の間に大型のガスクーラー１６を設置
する必要があり、設備が高価となる。
集効率を上げるために、乾式集塵装置として図４に示す
ようなバグフィルター１７を用いた場合は、バグフィル
ター１７内の濾布の耐熱性から排ガスを１００℃程度ま
で冷却しなければならず、ダストセパレーター１５とバ
グフィルター１７の間に大型のガスクーラー１６を設置
する必要があり、設備が高価となる。
【００１０】本発明は、上記のような実状に鑑みてなさ
れたもので、安価でかつ真空度の悪化を伴わない真空脱
ガス処理装置の排ガス中のダスト捕集を行う方法を提供
するものである。
れたもので、安価でかつ真空度の悪化を伴わない真空脱
ガス処理装置の排ガス中のダスト捕集を行う方法を提供
するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空槽内を真
空にするために蒸気エゼクターを設置し、エゼクターの
下流に蒸気を凝縮するコンデンサーを有する真空・減圧
処理装置の排ガス中のダスト捕集方法において、真空槽
内のガスを排出する経路に設置された蒸気凝縮冷却用の
コンデンサー内および／または前記コンデンサー近傍の
入側配管内にスプレーノズルを少なくとも１本設置し、
該スプレーノズルからスプレーノズル１本あたり注水量
が２〜１２Ｌ／ｍ3、かつ全スプレーノズルからの総流
量３０〜２５００ｔ／ｈの水を噴射させ、排ガスの進行
方向に対して垂直方向全面を覆う水膜を多層で形成させ
て排出ガス中のダストを捕集することを特徴とする、真
空・減圧処理装置のダスト捕集方法である。
空にするために蒸気エゼクターを設置し、エゼクターの
下流に蒸気を凝縮するコンデンサーを有する真空・減圧
処理装置の排ガス中のダスト捕集方法において、真空槽
内のガスを排出する経路に設置された蒸気凝縮冷却用の
コンデンサー内および／または前記コンデンサー近傍の
入側配管内にスプレーノズルを少なくとも１本設置し、
該スプレーノズルからスプレーノズル１本あたり注水量
が２〜１２Ｌ／ｍ3、かつ全スプレーノズルからの総流
量３０〜２５００ｔ／ｈの水を噴射させ、排ガスの進行
方向に対して垂直方向全面を覆う水膜を多層で形成させ
て排出ガス中のダストを捕集することを特徴とする、真
空・減圧処理装置のダスト捕集方法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】真空排気系の能力を十分に発揮さ
せるには、排ガス中のダストを捕集し、エゼクターへの
ダスト付着を防止することが重要である。ダスト捕集効
率をあげるためには乾式集塵装置を用いる方法がある
が、乾式集塵装置で排ガスが圧損を受け、真空度が悪化
する可能性がある。従って、本発明者らは圧損を受けに
くい湿式での捕集であれば安価でかつ真空度の悪化を伴
わずに真空脱ガス処理装置の排ガス中のダスト捕集を行
うことが可能と考え、湿式による方法を採用することに
した。
せるには、排ガス中のダストを捕集し、エゼクターへの
ダスト付着を防止することが重要である。ダスト捕集効
率をあげるためには乾式集塵装置を用いる方法がある
が、乾式集塵装置で排ガスが圧損を受け、真空度が悪化
する可能性がある。従って、本発明者らは圧損を受けに
くい湿式での捕集であれば安価でかつ真空度の悪化を伴
わずに真空脱ガス処理装置の排ガス中のダスト捕集を行
うことが可能と考え、湿式による方法を採用することに
した。
【００１３】前述のように図２と図３のコンデンサー１
０Ａ内の水とダストが接触することによりダスト捕集機
能が発揮されるが、コンデンサー１０Ａ内の凝縮冷却用
の水では完全にダスト捕集できない。従って効率よくダ
ストを捕集するには、水とダストの接触面積を増やすこ
とが重要であり、真空槽からの排ガスが必ず水と接触す
るようにする事が望ましいと考えた。そこで本発明で
は、図１に示すようにコンデンサー入側配管内および／
またはコンデンサー内にスプレーノズル１、２を設置
し、スプレーノズル１、２から散水により水膜を形成し
て、水とダストを完全に接触させる捕集方法とした。
０Ａ内の水とダストが接触することによりダスト捕集機
能が発揮されるが、コンデンサー１０Ａ内の凝縮冷却用
の水では完全にダスト捕集できない。従って効率よくダ
ストを捕集するには、水とダストの接触面積を増やすこ
とが重要であり、真空槽からの排ガスが必ず水と接触す
るようにする事が望ましいと考えた。そこで本発明で
は、図１に示すようにコンデンサー入側配管内および／
またはコンデンサー内にスプレーノズル１、２を設置
し、スプレーノズル１、２から散水により水膜を形成し
て、水とダストを完全に接触させる捕集方法とした。
【００１４】図１に示すように、スプレーノズル１、２
からの散水により効率よく集塵するためには、ダストが
水膜に接触する回数を増やすことが重要であるので、ス
プレーノズル１、２からの散水により多層にかつ相互に
干渉しないように水膜を形成させ、さらに、排ガスの経
路全体を覆うように水膜を形成させる。スプレーは設置
する個数が多く、かつ１つのスプレーが形成する水膜が
多いほどダスト捕集には有効であるが、捕集したダスト
を速やかに系外に排出するためにコンデンサー内および
／またはコンデンサー近傍の入側配管内に配置する。水
膜層同志が干渉しない位置に設置することが望ましい。
からの散水により効率よく集塵するためには、ダストが
水膜に接触する回数を増やすことが重要であるので、ス
プレーノズル１、２からの散水により多層にかつ相互に
干渉しないように水膜を形成させ、さらに、排ガスの経
路全体を覆うように水膜を形成させる。スプレーは設置
する個数が多く、かつ１つのスプレーが形成する水膜が
多いほどダスト捕集には有効であるが、捕集したダスト
を速やかに系外に排出するためにコンデンサー内および
／またはコンデンサー近傍の入側配管内に配置する。水
膜層同志が干渉しない位置に設置することが望ましい。
【００１５】さらに、スプレーからの散水量は真空中で
も水膜ができ、かつスプレーから出る水が大きな水滴に
ならないことが必要である。また、真空中でガスの流れ
に逆らって水膜を形成させるには、ある程度の流量を確
保する必要がある。流量を多くしすぎると、水の飽和蒸
気圧のため真空度の悪化を引き起こす。真空・減圧槽か
らの排ガスの流速は最高では音速（３４０ｍ／ｓ）にな
るので、排ガス流速に打ち勝ち水膜を形成するには、排
ガスの流速、排ガス中のダスト濃度、ダストの有する運
動エネルギーから計算すると、３０ｔ／ｈの流量が必要
である。また、大量の水を流すと水蒸気圧が飽和し、真
空度が悪化する可能性があるため、大量の水は流せな
い。排水機能を向上させるような設備を設置すれば大量
の水を流すことも可能となるが、本発明では安価にダス
ト捕集効率を上げることを目的としているので、一般的
な真空・減圧装置に用いられているコンデンサーの排水
能力から考えると、すべてのノズルからの総流量は２５
００ｔ／ｈ以下とする。
も水膜ができ、かつスプレーから出る水が大きな水滴に
ならないことが必要である。また、真空中でガスの流れ
に逆らって水膜を形成させるには、ある程度の流量を確
保する必要がある。流量を多くしすぎると、水の飽和蒸
気圧のため真空度の悪化を引き起こす。真空・減圧槽か
らの排ガスの流速は最高では音速（３４０ｍ／ｓ）にな
るので、排ガス流速に打ち勝ち水膜を形成するには、排
ガスの流速、排ガス中のダスト濃度、ダストの有する運
動エネルギーから計算すると、３０ｔ／ｈの流量が必要
である。また、大量の水を流すと水蒸気圧が飽和し、真
空度が悪化する可能性があるため、大量の水は流せな
い。排水機能を向上させるような設備を設置すれば大量
の水を流すことも可能となるが、本発明では安価にダス
ト捕集効率を上げることを目的としているので、一般的
な真空・減圧装置に用いられているコンデンサーの排水
能力から考えると、すべてのノズルからの総流量は２５
００ｔ／ｈ以下とする。
【００１６】次に注水量（単位体積中に散水される水
量）についても、ダスト捕集との関連があると考え、最
適条件について検討を行った。
量）についても、ダスト捕集との関連があると考え、最
適条件について検討を行った。
【００１７】図５に、コンデンサー内およびコンデンサ
ー入側配管内にスプレーノズルを設置し、総流量２００
ｔ／ｈの水を流した際のダスト捕集効率と注水量の関係
を示す。図５に示すように、水の流量が十分足りていて
も注水量が低い場合にはダストと水が完全に接触してお
らずダスト捕集効率が悪く、一方、注水量が多くなりす
ぎると、水膜を形成する１つの水滴が大きくなり、ダス
ト捕集効率が悪化することから、安定して操業可能な集
塵効率９５％以上に確保するためには注水量を２〜１２
Ｌ／ｍ3にする必要がある。また、スプレーからの散水
は、エゼクターに駆動用蒸気を送り始めるのと同時に実
施すると、水量も節約できかつダスト捕集効率も良い。
ー入側配管内にスプレーノズルを設置し、総流量２００
ｔ／ｈの水を流した際のダスト捕集効率と注水量の関係
を示す。図５に示すように、水の流量が十分足りていて
も注水量が低い場合にはダストと水が完全に接触してお
らずダスト捕集効率が悪く、一方、注水量が多くなりす
ぎると、水膜を形成する１つの水滴が大きくなり、ダス
ト捕集効率が悪化することから、安定して操業可能な集
塵効率９５％以上に確保するためには注水量を２〜１２
Ｌ／ｍ3にする必要がある。また、スプレーからの散水
は、エゼクターに駆動用蒸気を送り始めるのと同時に実
施すると、水量も節約できかつダスト捕集効率も良い。
【００１８】
【実施例】溶鋼の真空精錬設備であるＲＨでの処理を湿
式ダスト捕集設備を用いて実施した。本発明例および比
較例では、ダスト捕集用に、図１、図２に示したように
コンデンサー１０Ａの直前とコンデンサー１０Ａ内部の
２個所にスプレー１、２を設置した。設置したスプレー
１、２はそれぞれ３層の水膜を形成するものとした。一
方、従来例では図３に示したように、コンデンサー１０
Ａ内にダスト捕集用スプレーを用いなかった。
式ダスト捕集設備を用いて実施した。本発明例および比
較例では、ダスト捕集用に、図１、図２に示したように
コンデンサー１０Ａの直前とコンデンサー１０Ａ内部の
２個所にスプレー１、２を設置した。設置したスプレー
１、２はそれぞれ３層の水膜を形成するものとした。一
方、従来例では図３に示したように、コンデンサー１０
Ａ内にダスト捕集用スプレーを用いなかった。
【００１９】真空精錬処理として脱ガス部の真空度５０
Ｔｏｒｒ程度が必要な処理（軽処理）と１０Ｔｏｒｒ以
下が必要な処理（本処理）をランダムに行った。一回の
処理に要する時間は１０〜２５分程度である。軽処理の
際はエゼクター９Ａ、９Ｂ、９Ｃに駆動用蒸気を流し、
コンデンサー１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄで当該蒸気を冷却
凝縮した。本処理の際はブースター８Ａ、８Ｂ、８Ｃ、
エゼクター９Ａに駆動用蒸気を流し、コンデンサー１０
Ａ、１０Ｂで蒸気の冷却凝縮をした。スプレー１、２か
らは表１に示すそれぞれの条件で散水を行った。
Ｔｏｒｒ程度が必要な処理（軽処理）と１０Ｔｏｒｒ以
下が必要な処理（本処理）をランダムに行った。一回の
処理に要する時間は１０〜２５分程度である。軽処理の
際はエゼクター９Ａ、９Ｂ、９Ｃに駆動用蒸気を流し、
コンデンサー１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄで当該蒸気を冷却
凝縮した。本処理の際はブースター８Ａ、８Ｂ、８Ｃ、
エゼクター９Ａに駆動用蒸気を流し、コンデンサー１０
Ａ、１０Ｂで蒸気の冷却凝縮をした。スプレー１、２か
らは表１に示すそれぞれの条件で散水を行った。
【００２０】真空排気設備にダストが付着していない状
態から、真空精錬処理を１００ｃｈ程度行った際の脱ガ
ス槽内の到達真空度を表１に示す。ダストが捕集されて
おり、エゼクター９Ａにダスト付着がない場合は真空度
は目標値に近くなるが、ダスト付着が発生している場合
はエゼクターの能力が設計通り発揮されないため目標値
には届かなった。本発明例では真空度の悪化は見られ
ず、使用後に真空排気設備内を観察するとダストの付着
はほとんど見られなかった。スプレーノズルを設置して
いない従来例では到達真空度は目標真空度に達せず、真
空度の悪化が顕著に現れ、使用後に真空排気設備内を観
察すると、ダスト付着によりエゼクター９Ａ内が３０％
程度閉塞していた。また、スプレーノズルからの流量、
注水量が本発明範囲外の比較例１〜３では従来例よりは
到達真空度は低いものの、目標真空度に達したものはな
かった。
態から、真空精錬処理を１００ｃｈ程度行った際の脱ガ
ス槽内の到達真空度を表１に示す。ダストが捕集されて
おり、エゼクター９Ａにダスト付着がない場合は真空度
は目標値に近くなるが、ダスト付着が発生している場合
はエゼクターの能力が設計通り発揮されないため目標値
には届かなった。本発明例では真空度の悪化は見られ
ず、使用後に真空排気設備内を観察するとダストの付着
はほとんど見られなかった。スプレーノズルを設置して
いない従来例では到達真空度は目標真空度に達せず、真
空度の悪化が顕著に現れ、使用後に真空排気設備内を観
察すると、ダスト付着によりエゼクター９Ａ内が３０％
程度閉塞していた。また、スプレーノズルからの流量、
注水量が本発明範囲外の比較例１〜３では従来例よりは
到達真空度は低いものの、目標真空度に達したものはな
かった。
【００２１】
【表１】
【００２２】上記結果から、本発明のように適正な流
量、注水量でスプレーによる散水を行うことにより、真
空排気設備内のダストが効率よく捕集でき、ダスト付着
を抑制できることが確認できた。
量、注水量でスプレーによる散水を行うことにより、真
空排気設備内のダストが効率よく捕集でき、ダスト付着
を抑制できることが確認できた。
【００２３】
【発明の効果】本発明により、真空排気設備内のダスト
をこれまで困難とされてきた湿式で集塵可能となり、次
の効果を得ることができる。
をこれまで困難とされてきた湿式で集塵可能となり、次
の効果を得ることができる。
【００２４】 真空排気設備内のダスト付着を抑制で
き、到達真空度悪化による精錬処理時間延長を回避でき
る。
き、到達真空度悪化による精錬処理時間延長を回避でき
る。
【００２５】 ブースター、エゼクターに付着したダ
ストの清掃が不要となり、真空排気設備の補修費を低減
できる。
ストの清掃が不要となり、真空排気設備の補修費を低減
できる。
【００２６】 従来方式に比べ、設備投資をすること
なく安価で高集塵効率が得られる。
なく安価で高集塵効率が得られる。
【図１】真空排気系内のコンデンサーにスプレーノズル
を設置して本発明を実施する状況を示す図である。
を設置して本発明を実施する状況を示す図である。
【図２】真空排気系統の例を示す図である。
【図３】従来の真空排気系内のコンデンサー内を示す図
である。
である。
【図４】一般的な真空・減圧プロセスに乾式集塵装置を
設置した例を示す図である。
設置した例を示す図である。
【図５】スプレーノズルからの注水量と集塵効率の関係
を示す図である。
を示す図である。
１ コンデンサー入側スプレーノズル ２ コンデンサー内スプレーノズル ３Ａ １段目トレイ ３Ｂ ２段目トレイ ４ 注水孔 ５ 排水孔 ６ 脱ガス槽 ７ ダストセパレーター ８Ａ １段目ブースター ８Ｂ ２段目ブースター ８Ｃ ３段目ブースター ９Ａ １段目エゼクター ９Ｂ ２段目エゼクター ９Ｃ ３段目エゼクター １０Ａ １段目コンデンサー １０Ｂ ２段目コンデンサー １０Ｃ ３段目コンデンサー １０Ｄ ４段目コンデンサー １１Ａ １段目トレイ １１Ｂ ２段目トレイ １２ 注水孔 １３ 排水孔 １４ 脱ガス槽 １５ ダストセパレーター １６ ガスクーラー １７ バグフィルター １８Ａ １段目ブースター １８Ｂ ２段目ブースター １８Ｃ ３段目ブースター １９Ａ １段目エゼクター １９Ｂ ２段目エゼクター １９Ｃ ３段目エゼクター ２０Ａ １段目コンデンサー ２０Ｂ ２段目コンデンサー ２０Ｃ ３段目コンデンサー ２０Ｄ ４段目コンデンサー ２１ 集塵水槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小森 俊也 大分市大字西ノ洲１ 新日本製鐵株式会社 大分製鐵所内 (72)発明者 大畠 栄治 大分市大字西ノ洲１ 新日本製鐵株式会社 大分製鐵所内 Ｆターム(参考） 4D032 AA01 AB09 AC07 AC08 BA03 CA01 4K013 CE09 4K056 DB14
Claims (1)
- 【請求項１】 真空槽内を真空にするために蒸気エゼク
ターを設置し、エゼクターの下流に蒸気を凝縮するコン
デンサーを有する真空・減圧処理装置の排ガス中のダス
ト捕集方法において、真空槽内のガスを排出する経路に
設置された蒸気凝縮冷却用のコンデンサー内および／ま
たは前記コンデンサー近傍の入側配管内にスプレーノズ
ルを少なくとも１本設置し、該スプレーノズルからスプ
レーノズル１本あたり注水量が２〜１２Ｌ／ｍ3、かつ
全スプレーノズルからの総流量３０〜２５００ｔ／ｈの
水を噴射させ、排ガスの進行方向に対して垂直方向全面
を覆う水膜を多層で形成させて排出ガス中のダストを捕
集することを特徴とする、真空・減圧処理装置のダスト
捕集方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000150858A JP2001335828A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 真空・減圧処理装置のダスト捕集方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000150858A JP2001335828A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 真空・減圧処理装置のダスト捕集方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001335828A true JP2001335828A (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=18656498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000150858A Withdrawn JP2001335828A (ja) | 2000-05-23 | 2000-05-23 | 真空・減圧処理装置のダスト捕集方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001335828A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110926223A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-03-27 | 安徽枫慧金属股份有限公司 | 一种铝材加工用熔炼炉排烟装置及其操作方法 |
| WO2020151770A1 (zh) * | 2019-01-22 | 2020-07-30 | 金发科技股份有限公司 | 挤出机用废气收集系统及方法、塑料挤出系统及方法 |
-
2000
- 2000-05-23 JP JP2000150858A patent/JP2001335828A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2020151770A1 (zh) * | 2019-01-22 | 2020-07-30 | 金发科技股份有限公司 | 挤出机用废气收集系统及方法、塑料挤出系统及方法 |
| CN110926223A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-03-27 | 安徽枫慧金属股份有限公司 | 一种铝材加工用熔炼炉排烟装置及其操作方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070807 |