JPS5868245A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5868245A JPS5868245A JP16517581A JP16517581A JPS5868245A JP S5868245 A JPS5868245 A JP S5868245A JP 16517581 A JP16517581 A JP 16517581A JP 16517581 A JP16517581 A JP 16517581A JP S5868245 A JPS5868245 A JP S5868245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- source
- evaporated
- evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直記録方式に適した磁気記録媒体の製造方法
に関する。
に関する。
一般に短波長記録特性の優れた磁気記録方式として、垂
直記録方式がある。この方式においては媒体の膜面に垂
直方向が磁化容゛易軸である垂直記録媒体が必要となる
。このような媒体に信号を記録すると残留磁化は媒体の
膜面に垂直方向全面き従って信号が短波長になる程媒体
内反磁界は減少し、優れた再生出力が得られる。
直記録方式がある。この方式においては媒体の膜面に垂
直方向が磁化容゛易軸である垂直記録媒体が必要となる
。このような媒体に信号を記録すると残留磁化は媒体の
膜面に垂直方向全面き従って信号が短波長になる程媒体
内反磁界は減少し、優れた再生出力が得られる。
現在用いられている垂直記録媒体は非磁性基板上に直接
に、あるいはパーマロイ等の軟磁性薄膜を介して、Ｃｏ
とＣｒを主成分とし垂直方向に磁化容易軸を有する磁性
層（以下この磁性層ｆＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜と呼ぶ）を
スパッタリング法により形成したものである。ＣＯとＣ
ｒｉ主筬分としたスパッタ膜は、Ｃｒの量が約３０重量
％以下の範囲では結晶系が稠密六方構造であｐ、そのＣ
軸を膜面に対して垂直方向に配向させることができ。
に、あるいはパーマロイ等の軟磁性薄膜を介して、Ｃｏ
とＣｒを主成分とし垂直方向に磁化容易軸を有する磁性
層（以下この磁性層ｆＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜と呼ぶ）を
スパッタリング法により形成したものである。ＣＯとＣ
ｒｉ主筬分としたスパッタ膜は、Ｃｒの量が約３０重量
％以下の範囲では結晶系が稠密六方構造であｐ、そのＣ
軸を膜面に対して垂直方向に配向させることができ。
かつ垂直方向の異方性磁界が反磁界よりも大きくなるま
で飽和磁化を低下させることが可能なので垂直磁化膜を
実現できる。
で飽和磁化を低下させることが可能なので垂直磁化膜を
実現できる。
しかしスパッタリング法は磁性薄膜の形成速度が遅いの
で、低コストで垂直磁化膜を生産することが困難である
。スパッタリング法に対し、゛真空蒸着法（イオンブレ
ーティング法のように蒸発原子の一部をイオンイヒする
方法も含む）にょれ赫、数１ｏｏＯＡ／Ｔ！Ｉ）という
速い形成速度でＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が得られることが
本発明者によシ見い出された。真空蒸着法においては基
板を円筒状キャンの周側面に沿って移動させつつ、薄膜
の形成を行なうとテープ状の垂直記録媒体が非常に生理
性良く得られる。第１図にこのような真空蒸着装置の内
部構造の概略を示す。基板１は円筒状キャン２に沿って
矢印への向きに走行する（、ＣｏとＣｒｆ蒸発させる蒸
発源６と円筒状キャン２との間にはマスク６が配置され
ており、蒸発原子はスリットｓ−１通って基板１に付着
する。３，４はそれぞれ基板１の供給ロール及び巻取り
ロールである。
で、低コストで垂直磁化膜を生産することが困難である
。スパッタリング法に対し、゛真空蒸着法（イオンブレ
ーティング法のように蒸発原子の一部をイオンイヒする
方法も含む）にょれ赫、数１ｏｏＯＡ／Ｔ！Ｉ）という
速い形成速度でＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が得られることが
本発明者によシ見い出された。真空蒸着法においては基
板を円筒状キャンの周側面に沿って移動させつつ、薄膜
の形成を行なうとテープ状の垂直記録媒体が非常に生理
性良く得られる。第１図にこのような真空蒸着装置の内
部構造の概略を示す。基板１は円筒状キャン２に沿って
矢印への向きに走行する（、ＣｏとＣｒｆ蒸発させる蒸
発源６と円筒状キャン２との間にはマスク６が配置され
ており、蒸発原子はスリットｓ−１通って基板１に付着
する。３，４はそれぞれ基板１の供給ロール及び巻取り
ロールである。
第１図の様に１つの蒸発源６からＣＯとＣｒを蒸発させ
てＣｏ−Ｃｒ膜を作成すると％Ｃｒの蒸気圧がＣｏより
も高いためにＣｒの方が蒸発し易く。
てＣｏ−Ｃｒ膜を作成すると％Ｃｒの蒸気圧がＣｏより
も高いためにＣｒの方が蒸発し易く。
従って基板の長手方向に組成の異なる膜ができる。
すなわち蒸着初期においてはＣｒの多いＣｏ−Ｃｒ膜が
でき、蒸着後期にはＣｒの少ないＣｏ−Ｃｒ膜ができる
。Ｃｏ−Ｃｒ膜において組成が異なると磁気特性も異な
るので、第１図の様に１つの蒸発源６からＣｏとＣｒと
全蒸発させて連続的にＣｏ−Ｃｒ膜を作成することは好
ましくない。これに対しＣｏとＣｒとを別々の蒸発源か
ら蒸発させる２源蒸着法によりＣｏ −Ｃｒ ４１１を
作成すれば、基板の長手方向に組成の均一な膜が得られ
、上記の欠点が除去される。すなわち第２図の如く蒸発
源全２つにし、蒸発源７からはＣｏ（あるいはＣｒ）を
蒸発させ、蒸発源８からはＯｒ（あるいはＣｏ）を蒸発
させる。それぞれの蒸発源の加熱装置に供給する電力を
調整することにより任意の組成のＣｏ −Ｃｒ膜が安定
に得られる。実験の結果、第２図の装置においてはＣＯ
とＣｒの蒸発源の配置の方法により、できた膜の特性が
異なることが明。
でき、蒸着後期にはＣｒの少ないＣｏ−Ｃｒ膜ができる
。Ｃｏ−Ｃｒ膜において組成が異なると磁気特性も異な
るので、第１図の様に１つの蒸発源６からＣｏとＣｒと
全蒸発させて連続的にＣｏ−Ｃｒ膜を作成することは好
ましくない。これに対しＣｏとＣｒとを別々の蒸発源か
ら蒸発させる２源蒸着法によりＣｏ −Ｃｒ ４１１を
作成すれば、基板の長手方向に組成の均一な膜が得られ
、上記の欠点が除去される。すなわち第２図の如く蒸発
源全２つにし、蒸発源７からはＣｏ（あるいはＣｒ）を
蒸発させ、蒸発源８からはＯｒ（あるいはＣｏ）を蒸発
させる。それぞれの蒸発源の加熱装置に供給する電力を
調整することにより任意の組成のＣｏ −Ｃｒ膜が安定
に得られる。実験の結果、第２図の装置においてはＣＯ
とＣｒの蒸発源の配置の方法により、できた膜の特性が
異なることが明。
らかになった。本発明は最も特性の良いＣｏ−Ｃｒ垂直
磁化膜の得られるＣｏとＣｒの蒸発源の配置の方法を見
出したことによりなされたものである。
磁化膜の得られるＣｏとＣｒの蒸発源の配置の方法を見
出したことによりなされたものである。
以下に図面を用い本発明の説明を行う。
まずここで第２図の様な２源蒸着法においては基板の走
行方向の前方にある蒸発源８からはＣｘを蒸発させ、基
板の走行方向の後方にある蒸発源７からはＣｏを蒸発さ
せる第１の方法と、蒸発源８からＣｏｆ蒸発させ蒸発源
７からＣｒを蒸発させる第２の方法とがある。
行方向の前方にある蒸発源８からはＣｘを蒸発させ、基
板の走行方向の後方にある蒸発源７からはＣｏを蒸発さ
せる第１の方法と、蒸発源８からＣｏｆ蒸発させ蒸発源
７からＣｒを蒸発させる第２の方法とがある。
さて前記第１及び２の方法にてＣｏ −Ｃｒ垂直イ→化
膜を作成すると、第２の方法で作成した膜の方が第１の
方法で作成した膜よりも神れた特性を有する実験結果の
１例を第３図に示す。第３図の横軸は蒸着時の基板温度
を表わし、縦軸はトルク法により測定し７ｍ膜の垂直異
方性定数Ｋｕを表わす。Ｋｕが正であればＣｏ−Ｃｒ蒸
着膜は垂直磁化ノ摸であり、負であれば面内方向が磁化
容易軸になる。またＫｕの正の値が大きい程、膜面に垂
直方向に異方性の強い、特性の優れた膜になる。第３図
中の白丸及び黒丸はそれぞれ第２の方法及び第１の方法
で作成した膜であり、いずれの基板温度においても第２
の方法で作成した膜の方が第１の方法で作成した膜より
も大きなＫｕの値を、有し従って特性が憂れている。
膜を作成すると、第２の方法で作成した膜の方が第１の
方法で作成した膜よりも神れた特性を有する実験結果の
１例を第３図に示す。第３図の横軸は蒸着時の基板温度
を表わし、縦軸はトルク法により測定し７ｍ膜の垂直異
方性定数Ｋｕを表わす。Ｋｕが正であればＣｏ−Ｃｒ蒸
着膜は垂直磁化ノ摸であり、負であれば面内方向が磁化
容易軸になる。またＫｕの正の値が大きい程、膜面に垂
直方向に異方性の強い、特性の優れた膜になる。第３図
中の白丸及び黒丸はそれぞれ第２の方法及び第１の方法
で作成した膜であり、いずれの基板温度においても第２
の方法で作成した膜の方が第１の方法で作成した膜より
も大きなＫｕの値を、有し従って特性が憂れている。
以上では基板を円筒状キャンの周側面に沿って移動させ
つつＣｏ−Ｃｒ膜の形成を行なう場合について述べたが
、第４図に示す様に基板１を半板９に沿って移動させつ
つＣｏ−Ｃｒ膜の形成を行なう場合についても同様のこ
とが言える。すなわちこの場合も基板の走行方向の前方
にＣｏの蒸発源８を配置し、後方にＣｒの蒸発源７を配
置することにより特性の優れたＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が
得られる。
つつＣｏ−Ｃｒ膜の形成を行なう場合について述べたが
、第４図に示す様に基板１を半板９に沿って移動させつ
つＣｏ−Ｃｒ膜の形成を行なう場合についても同様のこ
とが言える。すなわちこの場合も基板の走行方向の前方
にＣｏの蒸発源８を配置し、後方にＣｒの蒸発源７を配
置することにより特性の優れたＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が
得られる。
以上の様に、２源蒸着法によりＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を
移動しつつある基板上に形成する際に。
移動しつつある基板上に形成する際に。
基板の走行方向の前方にＣＯの蒸発源を配置し後方にＣ
ｒの蒸発源を配置することにより、特性の優れた垂直磁
化膜が得られる。
ｒの蒸発源を配置することにより、特性の優れた垂直磁
化膜が得られる。
第１図は磁気記録媒体の製造方法においで用いられる真
空蒸着法を説明するための図、第２図および第４図はそ
れぞれ２源真空蒸着法全説明するための図、第３薗は本
発明の詳細な説明するための図である。 １ ・・・・・基板、２・・・・・ 円筒状キャン、５
・・・・・マスク、６，７．８・・・・・蒸発源、９・
・・・・・整板。
空蒸着法を説明するための図、第２図および第４図はそ
れぞれ２源真空蒸着法全説明するための図、第３薗は本
発明の詳細な説明するための図である。 １ ・・・・・基板、２・・・・・ 円筒状キャン、５
・・・・・マスク、６，７．８・・・・・蒸発源、９・
・・・・・整板。
Claims (1)
- 磁化容易軸が膜面に垂直方向にあるＣｏとＣｒを主成分
とする磁性層ｆ、ＣｏとＣｒｉ別々の蒸発源から蒸発さ
せる２源蒸着法によシ移動しつつある基板上に形成する
際に、基板の走行方向の前方にＣＯの蒸発源を配置し後
方にＣｒの蒸発源を配置することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16517581A JPS5868245A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16517581A JPS5868245A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5868245A true JPS5868245A (ja) | 1983-04-23 |
Family
ID=15807272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16517581A Pending JPS5868245A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5868245A (ja) |
-
1981
- 1981-10-15 JP JP16517581A patent/JPS5868245A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5868245A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS58125236A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0219533B2 (ja) | ||
| JPH0334614B2 (ja) | ||
| JPS6153769B2 (ja) | ||
| JPS58137134A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59162622A (ja) | 垂直磁気記録体並にその製造法 | |
| JP2798745B2 (ja) | 垂直磁気記録二層媒体の製造方法 | |
| JPS5862830A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0239019B2 (ja) | Jikikirokubaitainoseizohoho | |
| JPS58102334A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS58102336A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US4547398A (en) | Method for manufacturing magnetic recording medium | |
| JP2605803B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS58102335A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2758602B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH056254B2 (ja) | ||
| JPH05159267A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS58102333A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS5922235A (ja) | 垂直磁気記録用媒体の製造装置 | |
| JPH0334615B2 (ja) | ||
| JPS58125237A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60201521A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH056256B2 (ja) | ||
| JPS62295219A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |