JPS5864478A - 高純度窒素製造装置 - Google Patents

高純度窒素製造装置

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JPS5864478A
JPS5864478A JP56164658A JP16465881A JPS5864478A JP S5864478 A JPS5864478 A JP S5864478A JP 56164658 A JP56164658 A JP 56164658A JP 16465881 A JP16465881 A JP 16465881A JP S5864478 A JPS5864478 A JP S5864478A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は空気液化精溜法によって窒素ガスを製造する装
置に係り、特に空気中に含まれるヘリウム等低沸点成分
を含有しない極めて高純度の窒素ガス全採取すると共に
需要変動に対しても、充分その高純度を維持して自動的
に対応し得ることを可能とした高純度窒素製造装置に関
するものである0 工業的に窒素ガスを製造する装置として、空気を原料と
してこれt液化して、その組成分をその沸点差によって
分離するいわゆる空気液化分離装置が採用されている。
即ち該装置は吸入フィルターにより清浄され几原料空気
を約9 Kl/cdに圧縮し、且つ予冷した後乾燥器に
導入して含有水分、炭酸ガス等全除去する。ついでこれ
を製品ガス等の分離戻りガスとの熱交換によって冷却し
、一部液化の状態で単精溜塔の下部に導入する。単精溜
塔において、原料空気は上部より降下する還流液によっ
て精溜され、該塔上部に窒素ガスが、又下部に酸素に富
んだ液体空気が生成される。このうち窒素ガスが頂部か
ら抽出されて製品ガスとして供給され、又酸素に富んだ
液体空気は、前記抽出した窒素の一部を熱交換により冷
却液化して還流液を作った後戻りガスとなり原料空気を
冷却する。
又膨張して寒冷を発生せしめ、更に原料空気の冷却源と
して使用された後廃棄される。
しかるにこ゛の種の装置で採取される窒素ガスは高い純
度のものではあるが、液体で採取する装置と異なり、気
体状で採取するので空気中に含まれる微量な低沸点成分
、例えばヘリウム(沸点−268,9G)、水素(沸点
−252,8C)、ネオン(沸点−245,91T)が
分離されずに含有している。そしてこれら成分はたとえ
微量であっても半導体工業等の超高純度の窒素ガスを要
求される分計においてはその製品に及ぼす影響は無視し
得ない0 又一方この種装置で窒素ガスを製造する場合、需要が安
定していて常に一定した状態で運転されているのが望ま
しいが、昼間の作業時には大量の窒素ガスを使用するが
、夜間には作業がなく小量の窒素ガスのみ使用するか或
は全く使用しなくなる等の需要変動が生じる。そしてそ
の都度運転?休止したり、減量運転することに装置の特
殊性により定常の運転に至る迄多くの時間と労力t−要
し、又非効率な運転となり好ましくない。
それ故その対策として余剰ガスを貯蔵して鼾〈貯槽會設
けたり、又余剰ガスを液化して貯槽に貯蔵する等の手段
があるが、いづれにしても大巾な需要変動に対応するた
め、大Iな貯槽を必要としたり、高価な液化装置を別に
設ける等の不都合があつ几。更にこのような不都合を解
消するため、この種窒素ガス製造装置に液体窒素貯槽と
液体空気貯槽と含有磯釣に結合して附設し、窒素の需要
変動に対して両貯槽間の熱移動を調整操作して運転する
手段が知られている。しかしこのような調整運転操作に
際しても製品ガスである窒素ガスには前記装置のように
ヘリウム、水素等の低沸点成分が含まれ前記した如く高
純度窒素ガスを要求される半導体工業においては極めて
不都合である。
本発明は上述の如き種々の不都合に鑑みなされ友もので
、その目的は常にヘリウム、水素等の低沸点成分を含有
しない高純度の窒素ガスを常に採取し得ると共に、需要
変動に対応して、供給するガスの増減を装置の安定した
運転を保って自動的に行ない、しかも前記窒素ガスの高
純度をこれによっていささかも劣化することなく自動制
御すること全可能とし友ものである。そしてその特徴は
水分、炭酸ガスを除去し圧縮された原料空気を精溜塔に
供給して精溜し、塔頂より窒素全下部より液体空気をそ
れぞれ分離し、前記分離窒素の一部を製品ガスとして採
取するとともに、残部を前記液体空気と熱交換して液化
して還流液とする高純度窒素製造装置において、凝縮部
を介して上部に気化部を下部に液化部を形成し友熱交換
器及び液体空気貯槽と液体窒素貯槽を設けて、前記分m
*素のうちの一部である製品ガスを熱交換器の液化部に
導入して、気化部の減圧液体窒素により冷却して液化せ
しめると共に含有する低沸点成分を未凝縮ガスとして凝
縮部より排出せしめる工程と、液化され几窒素を液化部
より弁を介して減圧して気化部に導入して気化せしめて
採取する工程と、分離窒素の残部又は必要に応じて全部
’ta縮器で液体空気により液化し、前記液体窒素貯槽
に導入−した後、還流液として所定量精溜塔に戻す工程
と、精溜塔下部より導出した液体空気を前記液体空気貯
槽に導入した後前記凝縮器に減圧して供給する工程を設
けると共に、前記熱交換器の液化部より気化部へ減圧し
て供給する液体窒素量を気化部の液面によって調節する
機構と、又精溜条件を一定とする几め精溜塔へ戻す還流
液量を一定流量とする調節機構と、そして精溜塔底部の
液体空気の液面が一定となるよう液体空気を導出する調
節機構と、前記液体空気貯槽より凝縮器へ導入する液体
空気量を塔内の圧力を検知して弁を開閉作動せしめる調
節機構とを設けて調節するようにし友高純度窒素製造装
置である。
以下本発明の高純度窒素製造装置を図面により説明する
w!1図は本発明装置の一実施例を示す系統図であり、
原料空気lOOONm’/h k供給し高純度窒素ガス
k 30 ONi/h t−採取する基準状態の場合に
ついてまづ説明する。
水、炭酸ガス等の不純物を除去し且つ予備処理され几圧
力9Kg/cI!t1温度5Cの原料空気1000 N
tr?/hが管1より熱交換器2に導入されて冷却され
、ついで管3より液化器4に導びかれて更に冷却され、
一部液化し友状態で管5より精溜塔6の下部に供給され
る。精溜塔6に導入され几空気は塔頂部より約100 
ONW!/hの窒素カー分離され取出されるが、その一
部3011i/h fi管7より凝縮部9を介して上部
に気化部10と下部に液化部11とを設けて構成され−
を熱交換器8の液化部11に導入された窒素ガスは凝縮
部9を上昇する過程で後記する気化部10に収容されて
いるより低い圧力の液体窒素と熱交換して冷却−されて
液化する。この時含有されているヘリウム等の低沸点成
分は凝縮されず凝縮部9の頂部の管12より導出し弁1
3、管14を経て外気に放出される。それ放液化部11
に貯液される液体窒素には低沸点成分が除去されたもの
である。この液体窒素は管15より抽出され、弁16に
おいて約9Kg/cdより8〜7Kg/criに減圧さ
れた後管17より熱交換器8の上部気化部10に導入さ
れ前記し友如く、液化部11内で凝縮部9を上昇する窒
素ガスを冷却せしめてこれを液化し自身は気化して管1
8より導出する。ついで原料空気との熱交換によってこ
れを冷却して寒冷を回収した後低沸点成分を含まない8
〜7 Kf/cIiの高い圧力の高純度窒素ガスとして
使用先に供給される。なお上記し次液化部11より気化
部10に液体窒素を供給する際弁16で減圧するのは、
液化部11に導入された窒素ガスを凝縮部9で凝縮液化
するに必要な冷却用温度差を得る几めであり、可能な限
り減圧中を小さくすることが望ましい。そして更に気化
部lOでは貯液される液体窒素の液面が一定になるよう
液面調節機構19を設け、該機構19の作用により弁1
6を調整して、液化部11より気化部10への液体窒素
供給量を制御する。
一方前記精溜塔6の塔頂で分離される100ON rd
/ hの窒素のうち残部7 o oNi/hは管20よ
り凝縮器21に導入され、後記する液体空気に熱交換し
て冷却され液化し、管22’を経て液体窒素貯槽23に
導入される。この液体窒素はついで管24、一定流量調
節機構25vi−有する弁26を介して稍溜塔6の上部
に環流液として導入される。
なお基準状態の場合は凝縮器21で液化された窒素と等
量の約70 owlyhit流液として精溜塔6へ戻す
必要があるので、還流液は液体窒素貯槽23を通過し友
状態となる。
次に精溜塔6下部よVは約70ONゴ/hの酸素に富む
液体空気が管27より抽出されるが、その抽出量は塔底
に貯溜される液体空気の液面が常に一定に保つように働
く液面調節機構28と連結して開閉作動する弁29によ
って調節されて液体空気貯槽30に導入される。ついで
該貯槽30より管31を介して導出され、弁32により
約4Kf/dに膨張せしめ、管33t−経て前記凝縮器
21に導入され、前記し比ごとく窒素ガスを液化せしめ
て自らは気化した後管34を介して導出し、続いて精溜
塔6に供給される原料空気全液化器4、熱交換器2で冷
却するために使用し、後常温の廃ガスとして外気に放出
される。なお、前記液体空気貯槽30より管31e33
に介して凝縮器21に供給される液体空気の量は、前配
精溜塔6の頂部より凝縮器21に導入する窒素ガスの圧
力を管20で検知して、その圧力を一定に保つよう働く
圧カ一定調節機構35で前配弁32の開度を調節して制
御する。即ち管20内の圧力が所定圧力より低くなると
弁32の開度全狭くして凝縮器21に導く液体空気の流
量を減じ、−万雷20内の圧力が所定圧力より上昇する
と弁32の開度音大にして凝縮器21への液体空気の量
を増加せしめるようになっている。なお基準状態でil
l 9 Kt/−の圧力で凝縮器21は前記し几如< 
70 ONm’/hの窒素ガスを液化し還流する必要が
あるので、液体空気貯槽30より凝縮器21への供給量
はそれに相当する7 0 ON??’/hになるように
弁32が調整される。
以上は基準状態の運転態様であるが、次に使用先での窒
素ガスの使用量が減じ次場合について説明する。原料空
気量は常に100 ON−/hが9 K4+ −’/c
dの圧力で管5より精溜塔6に導入されており、そして
一方便用される窒素ガスが基準状態(30Bi/h )
より減じて例えば10 ON&/hとなると熱交換器8
の気化部lOの圧力が上昇し、凝縮器の温度差が小さく
なり、気化量が減少するので気化部10の液面が上昇し
これを検知した液面調節機構19が、この液面上昇を防
いで一定に保つよう弁16の開度全閉じるように働く。
一方液化部11の窒素ガス液化量が減少するのでこの結
果液化部11及びこれと連通ずる精溜塔6の頂部附近の
圧力が9に9/cd以上に上昇し、従って凝縮器21に
通づる管20の圧力が上昇し900Md/hの窒素ガス
が凝縮器21へ導入することとなる。
この圧力上昇は、調節機構35が検知し弁32がその圧
力上昇に相当する開度となるため液体空気貯槽30より
凝縮器21に供給される液体空気量が前記精溜塔6頂部
の圧力上昇に伴う凝縮器21へ導入される窒素ガスの増
量分を液化するに充分な寒冷量に相当する量の9 G 
ONm’/hに調節される。そして、凝縮器21では前
記圧力上昇分に見合った窒素ガスの増量分も液化されて
管22t−経て液体窒素貯槽23に導入される。
この間液体窒素貯槽23よシ管24’を介して精溜塔6
へ還流される液体窒素量は、一定流量調節機構250作
用により弁26を調節し常に一定流量(この場合70 
ONi/h )に保持されており、従って前記凝縮器2
1で液化された9 00Ntr?/hの液体窒素のうち
20 ONm’/h i貯槽23に貯液される。又精溜
塔6の底部に貯液される酸素富化された液体空気は液面
調節機構28にょシ、一定液面が保たれるよう弁29の
開度が調節されるが、常に大略70 ONi/hの量が
管27、弁29を介して液体空気貯槽30に導入される
次に使用先での高純度窒素ガスの使用量が基準量の30
 ON?F//hより増量し、友とえば600Nyyt
’/hにしようとした場合、熱交換器8の気化部lOよ
り気化する窒素ガス量が30ONi/hであるから気化
部lOの圧力が低下し、凝縮器の温度差がつき気化量が
増大する定め気化部10に貯液されている液体窒素の液
面が下降する。これを液面調節機構19が検知し、前記
気化部10の液面を一゛定に保つよう弁16の開度全開
きより多くの液体窒素を液化部11より気化部lOに送
給する。
気化量が増大することは液化量も増大することであり、
この結果液化部11及び核部11と連通する精溜塔6の
頂部附近の圧力が基準状態の9Kt/d以下に下降し、
この圧力降下に相当する量だけ基準状態(700Nrl
?/h )より少ない窒素ガス例えば40ON//hが
凝縮器21へ導入することとなる。そしてこの圧力降下
を圧力調節機構35が検知し、その圧力降下に相当する
信号を弁32に伝え、その開度t−調節し前記凝縮器2
1へ導入し友400NrII/hoil素ガスを液化す
るに必要な液体空気400Nrl?/hが凝縮器21に
供給され該部21で400M1/hの窒素ガスが液化し
て管22を経て液体窒素貯槽23に導入される。この場
合、液体窒素貯槽23より管24を介して精溜塔6へ供
給される還流用液体窒素量は、常に一定流量の7001
Jy&/hに保持されて供給されるので30ON rr
?/ hが不足となるが、これは消費が減じた時に還流
窒素量以上に液化される液体窒素が貯槽23に貯えられ
るので、これがその不足に充肖される。
又精溜塔6の底部には酸素が富化された液体空気カレ一
定液面を保って貯液さ゛れ、大略700Ntyt’/h
の液体空気が管27、弁29’を介して液体空気貯槽3
0に導入される。そしてこの時前記した如く液体空気貯
槽30より凝縮器21に供給される液体空気は40 O
N?F11/hであるので前記精溜塔6の底部より導出
される7 0 oai/hのうちの余剰分30 ONm
’/hは液体空気貯槽30に貯えられ、これは前記高純
度窒素ガスの使用量が減じ友時に生づる凝縮器21で液
化される窒素の増量に際しての必要寒冷を充足するに使
用される。
第2図は第1図に示し几実施例において、精溜塔6と別
置してい比熱交換器8會精溜塔6の塔頂で結合一体化し
友実施例を示す。なお第2図中第1図と同一記号は同一
構造よりなる。
即ち、精溜塔101の塔頂部に凝縮器部102を介して
その上部に気化部103t−そしてその下部は精溜塔1
01内に配置された液溜皿104が設けられている液化
部105t−形成した熱交換器106と精溜塔101と
が一体化している。そして液化部105と気化部103
とは前記した如く管15、弁16、管17’を介して連
設されており、又弁16は気化部103に貯溜される液
体窒素が一定液面になるよう液面調節機構19によりそ
の開度が調節される。又12は凝縮部102頂部に連設
された低沸点ガスを排出する管である。
そしてこの製電のその外は第1図と全く同じよう形成さ
れかつ操作運転されて、同様な作用効果発揮するが、第
1図の装置と異って熱交換器106が精溜塔101と一
体化しているので装置が簡単化したり、配管工事が省略
し得て経済的な面で有利である。
なお上記各実施例では常に精溜状態に一定に保つため還
流液体窒素を一定にして精溜塔に戻し、塔底より液体空
気を液面一定に保つようにして導出するように調節する
調節機構28@  35に例示し友が、本発明に限定さ
れるものではなく、塔底より抽出する液体空気を一定量
にして、還流液体窒素の量を塔底に溜る液体空気の液面
を一定に保つように調節するようにしても又精溜を一定
に保つことが可能である。
本発明装置は以上のように構成されているので、常にヘ
リウム、水素等の低沸点成分を含まない高純度窒素ガス
が採取されると共に、需要変動に対しても、原料側操作
を同等変動することがなく極めて安定し几運転を保持し
て対処し得るので、採取される高純度窒素ガスの純度が
常に保持され、しかも無駄な電力を消費することなく効
果的な電力消費管保持して対応し得る等の効果を発揮す
る。
従って特に水素等の低沸点成分を含まない窒素ガスを必
要゛とする半導体工業等の工場等の使用場所に設置する
窒素製造装置として極めて効果的である0
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の一実施例を説明する系統図、第2
図は本発明装置の他の実施例を説明する系統図である。 2は熱交換器、4は液化器、6は精溜塔、8は熱交換器
、9は凝縮部、10は気化部、11は液化部、19に液
面調節機構、23は液体窒素貯槽、25は一定流量調整
機構、28は液面調節機構、30は液体空気貯槽、35
は一定圧力−調節機構、101は精溜塔、102は凝縮
器部、103は気化部、104は液溜皿、105に液化
部、106は熱交換器である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水分、炭酸ガスを除去し圧縮された原料空気を精溜
    塔に供給し、液化精溜して塔頂に窒素を、下部に液体空
    気をそれぞれ分離し、前記分離窒素の一部を製品ガスと
    して採取するとともに、残部を前記液体空気と熱交換し
    て液化し、還流液とする高純度窒素製造装置において、
    凝縮部を介して上部に気化部を下部に液化部を形成し比
    熱交換器及び液体空気貯槽並びに液体窒素貯槽を設けて
    、前記分離窒素のうちの一部である製品ガスを熱交換器
    の液化部に導入して、気化部の減圧液体窒素により冷却
    して液化せしめると共−に含有する低沸点成分全未凝縮
    ガスとして凝M部より排出せしめる工程と、液化され次
    窒素を液化部より弁を介して減圧して気化部に導入して
    気化せしめて採取する工程と、分離窒素の残部又は必要
    に応じて全部を凝縮器で液体空気により液化し、前記液
    体窒素貯槽に導入した後、還流液として所定量精溜塔に
    戻す工程と、精溜塔下部よシ導出した液体空気を前記液
    体空気貯槽に導入した後前記凝縮器に減圧して供給する
    工程とを設は丞と共に、前記熱交換器の液化部より気化
    部へ減圧して供給する液体窒素量を気化部の液面を一定
    にするよう調節する調節機構、精溜塔の精溜条件を一足
    にする友め精溜塔へ戻す還流液量及び精溜塔底部より取
    り出す液体空気量を夫々調節する調節機構、更に液体窒
    素貯槽工り凝縮器へ導入する液体空気量を精溜塔圧カミ
    検知して調節する調節機構を設は友ことt特徴とする高
    純度窒素製造装置。 2 前記熱交換器が、咳器の下部に配置する液化部を精
    溜塔塔頂部内に共有して位置せしめて、精溜塔と一体化
    して形成してなることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の高純度窒素製造装置。 1 精溜塔の精溜条件全一定にする几めの調節機構とし
    て、精溜塔に戻す還流液量を一定流量とし、精溜塔底部
    より液体空気貯槽への液化空気量を精溜塔底郁の液面が
    一定となるよう調節することを特徴とする特許請求範囲
    第1項あるいは第2項記載の高純度窒素製造装置。 4、精溜塔の精溜条件t一定とするための調節機構とし
    て、精溜塔底部より液体空気貯槽への液化空気量を一定
    とし、精溜塔底部液面が一定となるよう精溜塔へ戻す還
    流液量を調節することを特徴とする特許請求範囲第1項
    あるいは第2項記載の高純度窒素製造装置。
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