JPS585358U - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS585358U JPS585358U JP9733981U JP9733981U JPS585358U JP S585358 U JPS585358 U JP S585358U JP 9733981 U JP9733981 U JP 9733981U JP 9733981 U JP9733981 U JP 9733981U JP S585358 U JPS585358 U JP S585358U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polycrystalline silicon
- silicon layer
- conductivity type
- semiconductor substrate
- trapezoidal shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の高周波トランジスタの平面図、第2及び
第3図は、その製造工程における各断面図、第4図は本
考案の一実施例を示す平面図、第5図〜第7図は、その
製造工程における各断面図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・酸化膜層、
3・・・・・・ベース領域、4A・・・・・・不純物を
添加された多結晶シリコン層、4B・・・・・・不純物
を添加されていない多結晶シリ□コン層、5・・・・・
・エミッタ領域、6・・・・・・酸化膜層、7・・・・
・・側面保護用酸化膜、8・・・・・・側面保護用窒化
膜、9・・・・・・エミッタ電極、10・・・・・・ベ
ース電極、11・・・・・・ベースコンタクト領域、1
2A・・・・・・上面が電極金属で被覆されてない突起
部、12B・・・・・・上面が電極金属で被覆されてい
る突起部、13・・・・・・ホトレジスト層、14・・
・・・・イオン注入された不純物が添加されていない多
結晶シリコン層。
第3図は、その製造工程における各断面図、第4図は本
考案の一実施例を示す平面図、第5図〜第7図は、その
製造工程における各断面図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・酸化膜層、
3・・・・・・ベース領域、4A・・・・・・不純物を
添加された多結晶シリコン層、4B・・・・・・不純物
を添加されていない多結晶シリ□コン層、5・・・・・
・エミッタ領域、6・・・・・・酸化膜層、7・・・・
・・側面保護用酸化膜、8・・・・・・側面保護用窒化
膜、9・・・・・・エミッタ電極、10・・・・・・ベ
ース電極、11・・・・・・ベースコンタクト領域、1
2A・・・・・・上面が電極金属で被覆されてない突起
部、12B・・・・・・上面が電極金属で被覆されてい
る突起部、13・・・・・・ホトレジスト層、14・・
・・・・イオン注入された不純物が添加されていない多
結晶シリコン層。
Claims (1)
- 一導電型を呈する半導体基板に所定の導電型を含む多結
晶シリコン層を用いて当該所定の導電型の不純物領域を
形成した半導体装置において、前記多結晶シリコン層の
周辺側面部のうち前記半導体基板の動作領域と対向する
部分の側面は逆台形状に形成され、前記多結晶シリコン
層上の少くとも外部電極との接続部に相当する部分の多
結晶シリコン層の側面は台形状に形成されていることを
特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9733981U JPS585358U (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9733981U JPS585358U (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS585358U true JPS585358U (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=29892150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9733981U Pending JPS585358U (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS585358U (ja) |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP9733981U patent/JPS585358U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61253U (ja) | 自己整列ゲートcmos装置 | |
JPS585358U (ja) | 半導体装置 | |
JPS5858360U (ja) | プレ−ナ型半導体素子 | |
JPS58168149U (ja) | トランジスタ | |
JPS60153548U (ja) | ラテラル型トランジスタ | |
JPS58124953U (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPS5827936U (ja) | 半導体装置 | |
JPS5846461U (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPS5926265U (ja) | 半導体装置 | |
JPS5869942U (ja) | 半導体装置 | |
JPH0377463U (ja) | ||
JPS5866654U (ja) | ガラスパツシベ−シヨン型半導体装置 | |
JPS60125748U (ja) | ラテラル型トランジスタ | |
JPS5860951U (ja) | 半導体装置 | |
JPS60144255U (ja) | トランジスタ | |
JPS606255U (ja) | 半導体装置 | |
JPS5897853U (ja) | 半導体装置 | |
JPS605156U (ja) | 半導体素子 | |
JPS5839062U (ja) | 半導体装置 | |
JPS60153550U (ja) | ラテラル型トランジスタ | |
JPS59161643U (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPS6127351U (ja) | 半導体装置のコンタクト構造 | |
JPS58114054U (ja) | 光半導体装置 | |
JPS5926267U (ja) | 半導体装置 | |
JPS6232537U (ja) |