JPS585358U - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS585358U
JPS585358U JP9733981U JP9733981U JPS585358U JP S585358 U JPS585358 U JP S585358U JP 9733981 U JP9733981 U JP 9733981U JP 9733981 U JP9733981 U JP 9733981U JP S585358 U JPS585358 U JP S585358U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polycrystalline silicon
silicon layer
conductivity type
semiconductor substrate
trapezoidal shape
Prior art date
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Pending
Application number
JP9733981U
Other languages
English (en)
Inventor
高階 礼児
Original Assignee
日本電気株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の高周波トランジスタの平面図、第2及び
第3図は、その製造工程における各断面図、第4図は本
考案の一実施例を示す平面図、第5図〜第7図は、その
製造工程における各断面図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・酸化膜層、
3・・・・・・ベース領域、4A・・・・・・不純物を
添加された多結晶シリコン層、4B・・・・・・不純物
を添加されていない多結晶シリ□コン層、5・・・・・
・エミッタ領域、6・・・・・・酸化膜層、7・・・・
・・側面保護用酸化膜、8・・・・・・側面保護用窒化
膜、9・・・・・・エミッタ電極、10・・・・・・ベ
ース電極、11・・・・・・ベースコンタクト領域、1
2A・・・・・・上面が電極金属で被覆されてない突起
部、12B・・・・・・上面が電極金属で被覆されてい
る突起部、13・・・・・・ホトレジスト層、14・・
・・・・イオン注入された不純物が添加されていない多
結晶シリコン層。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 一導電型を呈する半導体基板に所定の導電型を含む多結
    晶シリコン層を用いて当該所定の導電型の不純物領域を
    形成した半導体装置において、前記多結晶シリコン層の
    周辺側面部のうち前記半導体基板の動作領域と対向する
    部分の側面は逆台形状に形成され、前記多結晶シリコン
    層上の少くとも外部電極との接続部に相当する部分の多
    結晶シリコン層の側面は台形状に形成されていることを
    特徴とする半導体装置。
JP9733981U 1981-06-30 1981-06-30 半導体装置 Pending JPS585358U (ja)

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JP9733981U JPS585358U (ja) 1981-06-30 1981-06-30 半導体装置

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JP9733981U JPS585358U (ja) 1981-06-30 1981-06-30 半導体装置

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JPS585358U true JPS585358U (ja) 1983-01-13

Family

ID=29892150

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