JPS5849717A - 光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 - Google Patents
光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物Info
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- JPS5849717A JPS5849717A JP14621981A JP14621981A JPS5849717A JP S5849717 A JPS5849717 A JP S5849717A JP 14621981 A JP14621981 A JP 14621981A JP 14621981 A JP14621981 A JP 14621981A JP S5849717 A JPS5849717 A JP S5849717A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な光又は放射線硬化性ポリオルガノシロ
キサン組成物に関するものである。
キサン組成物に関するものである。
光重合性組成物については、すでに種々のものが開発さ
れダイオード、トランジスター、集積回路等の半導体装
置のコーティング剤、印刷における製版などの種々の用
途に利用されている。
れダイオード、トランジスター、集積回路等の半導体装
置のコーティング剤、印刷における製版などの種々の用
途に利用されている。
最近、それらの光重合性組成物の一つとしてシリコーン
を主体とする光重合性組成物（１ｍえば、小間ら二日本
印刷学会論文集、 １４３） 、１２４（１９７６）
） ！り開発が試みられている。
を主体とする光重合性組成物（１ｍえば、小間ら二日本
印刷学会論文集、 １４３） 、１２４（１９７６）
） ！り開発が試みられている。
しかし、現在までに知られているシリコーンを主体とす
る光重合性組成物は、（ｇ）光重合性ポリシロキ９ンの
合成が煩雑であったり、（射光硬化性が充分でなかり九
り、（Ｃ）光重合性ボリシｑキサンと増感剤との相溶性
が悪かつたり、（ｄ）ポリメチルビニルシロキサンとビ
スアジド化合物との相溶性が悪く、これらが原因となし
てコーティング剤や印刷における製版などに使用されて
いない。
る光重合性組成物は、（ｇ）光重合性ポリシロキ９ンの
合成が煩雑であったり、（射光硬化性が充分でなかり九
り、（Ｃ）光重合性ボリシｑキサンと増感剤との相溶性
が悪かつたり、（ｄ）ポリメチルビニルシロキサンとビ
スアジド化合物との相溶性が悪く、これらが原因となし
てコーティング剤や印刷における製版などに使用されて
いない。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくした新
規な光又は放射線硬化ポリオルガノシｐキサン組成物を
提供するＫある。
規な光又は放射線硬化ポリオルガノシｐキサン組成物を
提供するＫある。
上記目的は、以下（−）〜（ｃ）よりなる組成物で達成
される。
される。
（−） 炭素−炭素二重結合含有ポリオルガノシロキ
サン。
サン。
（ｊ） 光【は放射線開始剤としてポリシラン又はポ
リシラアルカン。
リシラアルカン。
（Ｃ） 必要に応じて加える増感剤。
そして、？−の組成物は上記（ｇ） ｔ （ｂ）が分離
しないので、光又は放射線重合がむらなく起る。
しないので、光又は放射線重合がむらなく起る。
次に本発明に用いる材料などについて説明する。炭素−
炭嵩二重結合金有ポリオルガノシロキｔノは、具体的に
は下記一般式で表わされる化合物のうちから選ばれる少
なくとも一種類の化合物がよい。
炭嵩二重結合金有ポリオルガノシロキｔノは、具体的に
は下記一般式で表わされる化合物のうちから選ばれる少
なくとも一種類の化合物がよい。
１
Ｒａ Ｒａ
（但し１式中、Ｉｈ 、ＩＯ、Ｒｈ 、Ａｓ ｊｔ＠、
Ｒ・、Ｒｓ、Ｒｓ、Ｒｒｏ。
Ｒ・、Ｒｓ、Ｒｓ、Ｒｒｏ。
Ｒｔｔ、Ｒｔｍ、Ｒｈ、Ｒｔｓ、Ａｓｓ、Ｒａテ、Ｉｈ
・、Ｒｓｔ、Ａｓ＠、Ｒｓｔ、Ｒａｍ。
・、Ｒｓｔ、Ａｓ＠、Ｒｓｔ、Ｒａｍ。
Ｒｓａ、Ｉｈｓ、ｌｈａ、Ｉｈｖは炭素−炭素二重結合
を有する基、アルキル基、了り−ル基であり、かつ上記
の何れか１個に炭素−炭素二重結合を有する基、Ｉｈ、
Ｉｈａはｇｅｍ〜、４ 、−ＣＨ＊−＠）−Ｃ１ｈ−。
を有する基、アルキル基、了り−ル基であり、かつ上記
の何れか１個に炭素−炭素二重結合を有する基、Ｉｈ、
Ｉｈａはｇｅｍ〜、４ 、−ＣＨ＊−＠）−Ｃ１ｈ−。
Ｘは水素又はアルキル基、アリール基、炭素−炭素二重
結合を有する基の何れか１ｍを含むトリオルガノシリル
４ 、 ｌ、ｍ、３は正の整数でＰは１．２．５である
。） ボリン２ンもしくはポリシラアルカンは、以下（ｉ）〜
（ＩＶ）のものが挙げられる。
結合を有する基の何れか１ｍを含むトリオルガノシリル
４ 、 ｌ、ｍ、３は正の整数でＰは１．２．５である
。） ボリン２ンもしくはポリシラアルカンは、以下（ｉ）〜
（ＩＶ）のものが挙げられる。
（ｉ） 単環式ポリシラン、（Ｒａａ＠Ｒｓ＊ ５ｇ
）、 （但し式中１＜ｍｓ、７ｊｉｎはγルキル基、ア
リール基。
）、 （但し式中１＜ｍｓ、７ｊｉｎはγルキル基、ア
リール基。
ビニル基またはアルキル基、アリール基。
ビニル基を有するｈリオルガノシリル基、ｑは４以上の
整数である）、で表わされる化合物、具体的には以下の
化合物が挙げられる。
整数である）、で表わされる化合物、具体的には以下の
化合物が挙げられる。
（
（
（
〔（Ｃ６Ｈ５）２Ｓｉ〕６，〔（Ｃ６Ｈ５）２Ｓｉ〕５
，〔（Ｃ６Ｈ５）２Ｓｉ〕４（１） （ｉ）の一つの
環からなる環状ポリシラン以外の多環式ポリシラン、Ａ
体的には、以下の化合物が挙げられる。
，〔（Ｃ６Ｈ５）２Ｓｉ〕４（１） （ｉ）の一つの
環からなる環状ポリシラン以外の多環式ポリシラン、Ａ
体的には、以下の化合物が挙げられる。
冒
リール基、ビニル基、ｔｆＦ、はアルキル基。
アリール基、ビニル基、を有するトリオルガノシリル基
、ｒは３以上の整数である。）で表わされる化合物、具
体的には以下の化合物が挙げられる。
、ｒは３以上の整数である。）で表わされる化合物、具
体的には以下の化合物が挙げられる。
Ｒ■はアルキル基、アリール基、ビニル基でＩは３，４
，５．で、ｔは整数である。）で表わされる化合物、具
体的には以下の化合物が挙けられる。
，５．で、ｔは整数である。）で表わされる化合物、具
体的には以下の化合物が挙けられる。
Ｃａｍ Ｃ１１ｍ
上記したポリシラン又はポリシラアルカンの使用量は、
と〈Ｋ限定される理由がないが、これは炭素−炭素二重
結合含有ポリオルガノシｑキサ７に対しておおむね０．
１〜５０重量係とすることが望ましい。この範囲を逸脱
すると、膜の特性低下ワニス・の安定性等に悪影響を及
ばず。
と〈Ｋ限定される理由がないが、これは炭素−炭素二重
結合含有ポリオルガノシｑキサ７に対しておおむね０．
１〜５０重量係とすることが望ましい。この範囲を逸脱
すると、膜の特性低下ワニス・の安定性等に悪影響を及
ばず。
光又は放射Ｍｔｉ化性ポリオルガノシ■キナン組成物を
支持体上に塗布すると１！は、粘度調整のため、ポ媒、
希釈剤などを添加する。
支持体上に塗布すると１！は、粘度調整のため、ポ媒、
希釈剤などを添加する。
溶媒としては、例えばへブタン、シクロペンタン、シク
ロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、テ
トラリン、ベラトレール。
ロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、テ
トラリン、ベラトレール。
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、）９
りａエチレン、テトラクロ四エチレン。
りａエチレン、テトラクロ四エチレン。
クロロベンゼン、ブ四モベンゼンナトのハロゲン化炭化
水素溶媒、２−フェノキシテトラヒドロビラン、２−フ
ェノキシテトラヒドロフランなどの炭化水素系溶媒、Ｎ
−ベンジル−２−ピルリドン、Ｎ−ア七チルー１−カプ
ロラクメムなどの極性溶媒などが挙げられる。
水素溶媒、２−フェノキシテトラヒドロビラン、２−フ
ェノキシテトラヒドロフランなどの炭化水素系溶媒、Ｎ
−ベンジル−２−ピルリドン、Ｎ−ア七チルー１−カプ
ロラクメムなどの極性溶媒などが挙げられる。
希釈剤としては、例えば、アルコール系溶媒。
エステル系溶媒、クトン系溶媒などで、炭素−炭素二重
結合金有ポリオルガノシ算キサンに対して不活性なもの
が挙げられる。
結合金有ポリオルガノシ算キサンに対して不活性なもの
が挙げられる。
増感剤としては、例えば有機ケイ＃倉有ベンゾフェノン
鋳導体などが挙げられる。使用量は。
鋳導体などが挙げられる。使用量は。
とくに限定する理由はないが、炭素−炭素二重結合含有
ポリオルガノシロキサンに対しておおむね０．０５〜２
０重量係とする仁とが望ましい、この範囲を逸脱すると
、硬化被ｗ＆Ｏ強度の低下、ワニスの安定性などに悪影
響を及ぼす。
ポリオルガノシロキサンに対しておおむね０．０５〜２
０重量係とする仁とが望ましい、この範囲を逸脱すると
、硬化被ｗ＆Ｏ強度の低下、ワニスの安定性などに悪影
響を及ぼす。
上記した材料を用い次光又は放射線硬化性ポリオルガノ
シロキサン組成物は、これを適尚な支持体の上＆Ｃｊｍ
布し、乾燥した後、遠紫外線。
シロキサン組成物は、これを適尚な支持体の上＆Ｃｊｍ
布し、乾燥した後、遠紫外線。
紫外線、可視光線、軟Ｘ線、電子線などを露光すると、
露光部分は硬化し、耐熱性、耐薬品性、耐食性などに優
れた轄わめて高強度の不溶性の被膜となる。非露光部分
は溶□媒などで処理すると容易に流出するので、これｋ
よりて均一な連続被膜はもちろんのこと、任意の画像状
の被膜をも容易に形成できる。なお、用途によりては光
叉は放射線露光とともに加熱すれば硬化がさらに完全に
なり、よりすぐれた硬化膜を得ることができるに、上記
の溶剤処理後に光又は放射線によって硬化した被膜を加
熱すれば硬化がさらに完全になり、すぐれた硬化膜を得
ることができる。
露光部分は硬化し、耐熱性、耐薬品性、耐食性などに優
れた轄わめて高強度の不溶性の被膜となる。非露光部分
は溶□媒などで処理すると容易に流出するので、これｋ
よりて均一な連続被膜はもちろんのこと、任意の画像状
の被膜をも容易に形成できる。なお、用途によりては光
叉は放射線露光とともに加熱すれば硬化がさらに完全に
なり、よりすぐれた硬化膜を得ることができるに、上記
の溶剤処理後に光又は放射線によって硬化した被膜を加
熱すれば硬化がさらに完全になり、すぐれた硬化膜を得
ることができる。
本発明で用いる支持体としては１例えば銅、アルミニウ
ム゛、クロムなどの金属、Ｔｉｄｅ、ＳｉＯｓ５＆Ｑｓ
： 、Ｔａｚｅｓなどの金属酸化物絶縁体、窒化ケイ素
、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルなどの合成樹
脂などが挙げられる。上記の組成物を支持体に塗布する
忙は、例えば回転塗布法。
ム゛、クロムなどの金属、Ｔｉｄｅ、ＳｉＯｓ５＆Ｑｓ
： 、Ｔａｚｅｓなどの金属酸化物絶縁体、窒化ケイ素
、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルなどの合成樹
脂などが挙げられる。上記の組成物を支持体に塗布する
忙は、例えば回転塗布法。
印刷、ロールコータ−など通常の方法で塗布する。
本発明の光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組
成物で、画像状の硬化被膜を形成するには、これを支持
体上に薄膜状に塗布した、これに原版を密着させて露光
し、ついで現像、乾燥後、熱キ為アーすると、露光部分
は耐熱性。
成物で、画像状の硬化被膜を形成するには、これを支持
体上に薄膜状に塗布した、これに原版を密着させて露光
し、ついで現像、乾燥後、熱キ為アーすると、露光部分
は耐熱性。
耐溶媒性、耐熱性のすぐれ九被膜となり、これは刷版、
プリント配線などのエツチング用レジストなどとしてで
きるし、ｔた。上記の硬化した被膜がスバ、ターされＫ
くぃので、イオンエツチング用レジストとして４使用す
ることができる。
プリント配線などのエツチング用レジストなどとしてで
きるし、ｔた。上記の硬化した被膜がスバ、ターされＫ
くぃので、イオンエツチング用レジストとして４使用す
ることができる。
また、半導体のコーチラグ剤、半導体保藤属半導体層間
絶縁膜、レジスト、塗料、印刷インキなどへの応用も可
能である。
絶縁膜、レジスト、塗料、印刷インキなどへの応用も可
能である。
前記し九任意の画像状の被膜を形成すると自に用いる現
像溶媒は、前記した希釈溶媒もしくは前記した希釈溶媒
とエタノール、メタノール。
像溶媒は、前記した希釈溶媒もしくは前記した希釈溶媒
とエタノール、メタノール。
プロピルアルコール、メチルセロソルブなど（前記し九
ポリマーの非溶媒）との混合溶媒が挙げられる。
ポリマーの非溶媒）との混合溶媒が挙げられる。
現像によって形成された画像部分（リーフ・パターン）
は、次いでリンス液によって洗浄し。
は、次いでリンス液によって洗浄し。
現像溶媒を除去する。リンス液には現像液との混和性の
よいメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
（前記したポリオルガノシロキサンの非溶Ｓ）などが例
として挙げられる。
よいメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
（前記したポリオルガノシロキサンの非溶Ｓ）などが例
として挙げられる。
以下、本発明を実施９１により説明する。
Ｂａ
Ｓｉ＜Ｈ−Ｃ１ｌｚ で表わされる化合物４０ｆ。
Ｂｓ
（（Ｃ＃”）２５ｉ）、 ２ ｆ 、キシｔ／／１０ｆ
を混合し、充分攪拌して均一な光又は放射線硬化性ポリ
メチルビエルシロキナン組成物を１Ｉｌｌｉ整した。つ
いで１これを乾燥後の暎厚が約２０μ簿になるようにガ
ラス板上に回転金布沫で塗布し、これを９０℃５０分間
乾燥し、ＳＯｚはなれた３Ｗ超高圧水銀灯から紫外線を
３分間照射し穴ところ耐薬品性、耐熱性、耐食性にすぐ
れ九硬化被膜が得られキ。
を混合し、充分攪拌して均一な光又は放射線硬化性ポリ
メチルビエルシロキナン組成物を１Ｉｌｌｉ整した。つ
いで１これを乾燥後の暎厚が約２０μ簿になるようにガ
ラス板上に回転金布沫で塗布し、これを９０℃５０分間
乾燥し、ＳＯｚはなれた３Ｗ超高圧水銀灯から紫外線を
３分間照射し穴ところ耐薬品性、耐熱性、耐食性にすぐ
れ九硬化被膜が得られキ。
硬化被膜は、光又は放射線開始剤が分離析出することな
く拘−に硬化していた。
く拘−に硬化していた。
実施例２
表の雇１〜ＡＲＫ示すように、炭素−炭素二キナン、光
又は放 射線開始剤、希釈剤を配合して光又は放射線硬化性ポリ
メチルビニルシロキサン組成物を調整い１これら組成物
は１表のＡ１−４９に示すに溶解していた。こレラ 組成物をそれぞれ実施例１と同様Ｋして支持体−ヒに噛
布し、乾燥し、紫外線を照射したとζろ表の轟１〜Ａ９
に示す、ようＫそれぞれ感度は嵐好であり、均一な皮膜
が得られた。 ″のポリ−ｒ−１０９をｌ０ＤｆＯ
’テトラヒドロ７ランに時間反応させる。
又は放 射線開始剤、希釈剤を配合して光又は放射線硬化性ポリ
メチルビニルシロキサン組成物を調整い１これら組成物
は１表のＡ１−４９に示すに溶解していた。こレラ 組成物をそれぞれ実施例１と同様Ｋして支持体−ヒに噛
布し、乾燥し、紫外線を照射したとζろ表の轟１〜Ａ９
に示す、ようＫそれぞれ感度は嵐好であり、均一な皮膜
が得られた。 ″のポリ−ｒ−１０９をｌ０ＤｆＯ
’テトラヒドロ７ランに時間反応させる。
反応混合物をメタノールに注ぎ、ブロックポリマーを沈
殿させる。得られたポリマーを精製するためにメタノー
ルで繰り返し洗浄したのち。
殿させる。得られたポリマーを精製するためにメタノー
ルで繰り返し洗浄したのち。
風乾さらに５０℃で真空乾燥する。ブロックポリマーの
収量は１１９であった。
収量は１１９であった。
このポリマ５ ｆ ｙ （：（ＣＢ ａ ） ｍ ５
ｓ Ｊ ｓ Ｏ，５ｆ Ｋキシレン２０１を加え、これ
を充分に攪拌して均一な光又は放射線硬化性ポリオルガ
ノシ１２午サン組成物を＊！ｌた。ついで、仁れを乾燥
後Ｏ膜厚が約２μｍＫなるようにシリコンウエノ１上に
違布し、これを９０℃で５０分間乾燥したのち、この塗
膜に縞模様のマスクを密着させ、５００ＦＯＸａ−１１
灯で遠紫外−照射した。得られた硬化被膜は、光又は放
射線開始剤がポリマから分１１４出することなく、均一
に硬化していた。
ｓ Ｊ ｓ Ｏ，５ｆ Ｋキシレン２０１を加え、これ
を充分に攪拌して均一な光又は放射線硬化性ポリオルガ
ノシ１２午サン組成物を＊！ｌた。ついで、仁れを乾燥
後Ｏ膜厚が約２μｍＫなるようにシリコンウエノ１上に
違布し、これを９０℃で５０分間乾燥したのち、この塗
膜に縞模様のマスクを密着させ、５００ＦＯＸａ−１１
灯で遠紫外−照射した。得られた硬化被膜は、光又は放
射線開始剤がポリマから分１１４出することなく、均一
に硬化していた。
比較例
ポリメチルビニルシ四キサン４０ｆ、２．６−’） （
Ｃ−アジドベンザル）−４−メチルシフ關へ＋＋ノン０
．４１．キシレン４０ｔを混合し、充分攪、拌して若干
不均一な光又は放射線硬化性ポリメチルビニルシロキサ
ン組成物をａｌｌ整した。ついで。
Ｃ−アジドベンザル）−４−メチルシフ關へ＋＋ノン０
．４１．キシレン４０ｔを混合し、充分攪、拌して若干
不均一な光又は放射線硬化性ポリメチルビニルシロキサ
ン組成物をａｌｌ整した。ついで。
これを乾燥後の膜厚が約２μｍになるようにガラス板上
に塗布し、これを９０℃３０分間乾燥したのち、５０３
はなれた３Ｉ超高圧水銀灯から紫外線をＳ分間照射し九
ところ、得られた硬化膜から上記のアジド化合物が分離
析出し、被膜が不均一で光１化にむらがありた。
に塗布し、これを９０℃３０分間乾燥したのち、５０３
はなれた３Ｉ超高圧水銀灯から紫外線をＳ分間照射し九
ところ、得られた硬化膜から上記のアジド化合物が分離
析出し、被膜が不均一で光１化にむらがありた。
ま危、得られた硬化膜はキシレンなどに一部溶解した。
以上詳述したよう忙、本発明によれば、以下（ｇ）〜（
Ｃ）の効果がある。
Ｃ）の効果がある。
（ｇ） 光又は放射線重合性ポリシロキサンの合成が
容易である。
容易である。
（旬 光又は放射線重合性ポリシロキサンと増感剤との
相溶性が嵐いので、硬化反応が均一かつ十分に起ζる。
相溶性が嵐いので、硬化反応が均一かつ十分に起ζる。
（４−）コーティング印刷に適している。
代理人弁理士 薄 １）利 幸
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 （ｇ） 炭素−炭素二重結合含有ポリオルガ
ノシロキサン、 （ｂ） 光又は放射−開始剤としてのポリシッフ本し
くはポリン２アルカン、 ＜ａ＞ 必要に応じて加える増感剤。 よりなることを特徴とする光又は放射線硬化性ポリオル
ガノシロキサン組成物。 ４ 炭車−炭素二重結合金有ポリオルガノシロキサンが
、下記一般式（１）〜（８）で表わされる化金物のうら
から選ばれた少なくともｌｆｉ＠の化金物であり、 １ 瞥 （但し、式中、 Ｒｔ、Ｒａ、Ｒ３，ＪＲａ、Ｒｓ、Ｒ
ａ、Ｒｓ、Ｒｅ、Ｒ１ｓ二Ｒ１ｌ 、Ｒ１諺、８重４
、Ｒｘ ａ 、Ｒｓ ｓ 、Ｒｓ ｖ 、Ｒａ ｓ 、
Ｒａ ＊ 、Ｒｓ・、Ｒ雪１゜Ｉｈａ、Ｉｈａ、Ｉｈａ
、Ｉｈａ、ｌｈｔ、は炭嵩−炭素二重結合をする基、ア
ルキル基、アリール基であり、かつ上記のＲの何れか１
個に炭素−炭素二重結合（：Ｂ寓−、Ｘは水素又はアル
今ル基、アリール基、炭素−炭素二重結合を有する基の
何れか１個を含むトリオルガノシリル基、ｔ、ｓ、ｎは
正の整数でＰは１．２．５である。） ポリシランが下記一般式（す〜Ｏｖ）で表わされる化合
物のうちから選ばれた少なくとも一種類の化合物である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光又は放
射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。 （ｉ） 単環式ポリシラン、（Ｊ？ａｓ Ｒｚｅ ５
ｉ）ｑ、 （但し、式中Ｒｇｓ、Ｒｕｓはアルキル基、
アリール基、ビニル基、ｑは、４以上の！１ｌＷＪＬ）
（１） 上記（０の一つの環からなる環状ポリシラ基
またはアルキル基、アリール基、ビニル基な有するトリ
オルガノシリル基、ｒは３以上の整数である。） アルキル基、アリール基、ビニル基、Ｓは３．４，５、
ｔは整数である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14621981A JPS6049647B2 (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14621981A JPS6049647B2 (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849717A true JPS5849717A (ja) | 1983-03-24 |
| JPS6049647B2 JPS6049647B2 (ja) | 1985-11-02 |
Family
ID=15402797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14621981A Expired JPS6049647B2 (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049647B2 (ja) |
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1981
- 1981-09-18 JP JP14621981A patent/JPS6049647B2/ja not_active Expired
Cited By (15)
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| WO1989004507A1 (en) * | 1987-11-09 | 1989-05-18 | Toray Silicone Co., Ltd. | Pattern forming material and method for forming pattern |
| JPH01219738A (ja) * | 1988-02-27 | 1989-09-01 | Fujitsu Ltd | パターン形成材料 |
| JPH02110464A (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-23 | Fujitsu Ltd | 有機硅素重合体レジスト組成物 |
| US5017406A (en) * | 1988-12-08 | 1991-05-21 | Dow Corning Corporation | UV curable compositions cured with polysilane and peroxide initiators |
| JPH03274056A (ja) * | 1990-03-24 | 1991-12-05 | Sony Corp | パターン形成方法 |
| JPH04107462A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-04-08 | Oki Electric Ind Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6049647B2 (ja) | 1985-11-02 |
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