JPS5845425B2 - ナフトスチリル類の製造方法 - Google Patents

ナフトスチリル類の製造方法

Info

Publication number
JPS5845425B2
JPS5845425B2 JP10881878A JP10881878A JPS5845425B2 JP S5845425 B2 JPS5845425 B2 JP S5845425B2 JP 10881878 A JP10881878 A JP 10881878A JP 10881878 A JP10881878 A JP 10881878A JP S5845425 B2 JPS5845425 B2 JP S5845425B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
naphthalimide
alkali
producing
caustic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10881878A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5535051A (en
Inventor
峰雄 西
憲治 大庭
義行 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP10881878A priority Critical patent/JPS5845425B2/ja
Publication of JPS5535051A publication Critical patent/JPS5535051A/ja
Publication of JPS5845425B2 publication Critical patent/JPS5845425B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Indole Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はナフトスチリル類の製造法に関するものである
化合物であり、カチオン染料の中間体として有用なもの
である。
従来、ナフトスチリルの工業的製法としては、通常、α
−ナフチルアミンをホスゲンと反応させてナフチルイソ
シアナートとし、次いで、これを環化反応させる方法が
知られている。
しかしながら、この反応では原料として使用するα−ナ
フチルアミン及びホスゲンがともに毒性の強い化合物で
あるため、その取扱いに特別の注意を必要とする。
そこで、近時、α−ナフチルアミンを出発原料としない
新たなナフトスチリルの製法が要望されている。
α−ナフチルアミンを使用しないナフトスチリルの製法
として、例えば、ナフタルイミドをアルカリの存在下、
次亜塩素酸塩とを反応させる方法が知られている。
しかしながら、この反応では得られるナフトスチリルの
収率が低く、しかも、原料のナフタルイミドを水溶媒に
完全溶解させて反応を行なう必要があるため、使用する
溶媒量が多くなり生産性が悪いと言う欠点を有する。
本発明者等は上記実情に鑑み、ナフタルイミドと次亜塩
素酸塩とをアルカリの存在下、反応させる際に、少量の
溶媒使用量にて高収率でナフトスチリルを得るための方
法につき種々検討した結果本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨は、ナフタルイミド類をアルカ
リの存在下、次亜塩素酸塩と反応させてナフトスチリル
類を製造する方法において、予め、ナフタルイミド類を
苛性アルカル水溶液に40℃以上の温度で加熱溶解し、
次いで、該水溶液をナフタルイミド類の結晶の少なくと
も一部が析出するまで冷却したのち、苛性ソーダ及び苛
性カリの存在下、10〜30℃にて次亜塩素酸塩と反応
させることを特徴とするナフトスチリル類の製造方法に
存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で使用するナフタルイミド類としては、ナフタル
イミドのほかに例えば、ナフタリン核にカルボキシル基
、塩素原子、臭素原子などのノ・ロゲン原子等の本発明
の反応に対して不活性な置換基を有するナフタルイミド
誘導体が挙げられる。
本発明では原料として使用するナフタルイミド類を先ず
アルカリ水溶液に溶解し、次いで、冷却晶析することを
必須の要件とするものである。
このアルカリ溶解処理は、通常、ナフタルイミド類に対
して10〜40重量倍、好ましくは15〜30重量倍の
アルカリ水溶液中にナフタルイミド類を混合し、40℃
以上、好ましくは50〜90℃程度の温度に加熱攪拌す
ることにより行なわれる。
この際のアルカリは、苛性ンーダ、苛性カリ又は両者の
混合物で、通常、混合物が好ましい。
アルカリ水溶液中のアルカリ濃度は通常、2〜6重量%
、好ましくは3〜5重量%である。
ナフタルイミド類が実質的に全て溶解したのち、冷却晶
析して結晶を析出させスラリーとするが、通常、その冷
却温度は20℃以下、好ましくは15℃以下である。
アルカリ水溶液を冷却してもナフタルイミド類の結晶が
析出しない場合には、これを原料としも反応速度が遅く
、得られるナフトスチリル類の収率も低いので好ましく
ない。
一方、次亜塩素酸塩としては通常、ソーダ塩又はカリ塩
が使用され、その使用量はナフタルイミド類に対して通
常、2.5モル以上、好ましくは3〜5モルである。
次亜塩素酸塩の使用量があまり少ないと反応速度が遅く
、また、あまり多いと副反応が生起するので好ましくな
い。
本発明における反応は苛性ソーダ及び苛性カリよりなる
混合アルカリの存在下にて好なうことが必要である。
本発明では苛性ソーダ又は苛性カリのいずれか単独の場
合には、反応速度が遅く、副生物の生成量も多くなり好
ましくない。
苛性ソーダと苛性カリの混合割合は通常、9二1〜2:
8、好ましくは8:2〜5:5(モル比)である。
また、アルカリの存在量は通常、ナフタルイミド類に対
して3〜15モル倍、好ましくは4〜10モル倍であり
、あまりアルカリの量が多いと反応速度が遅く、また、
あまり少ないとナフタルイミド類が加水分解されるので
好ましくない。
本発明ではナフタルイミド類を、アルカリ溶解、冷却晶
析を経て反応させるため水溶媒の使用量が少なくてよく
、通常、ナフタルイミドに対して25〜50重量倍、好
ましくは30〜40重量倍程度でよい。
反応時における溶媒のアルカリ濃度は通常、1〜5重量
%、好ましくは2〜4重量%である。
本発明での反応温度は通常、10〜30℃、好ましくは
15〜25℃であり、反応時間は例えば、1〜3時間で
ある。
反応温度は低すぎると反応速度が遅く、逆に高すぎると
副反応が生起し副生物が増大するので好ましくない。
反応時間があまり長い場合には、過反応が進行しナフト
スチリル類のケーキ中に副生物が含有されてしまうので
好ましくなく、反応時間はできるだけ短い方が好ましい
本発明を実施するには、例えば、本発明の反応を行なう
ための所定のアルカリ濃度に調整した混合アルカリ水溶
液中にナフタルイミド類を添加し、攪拌下、加熱して溶
解処理を行ない、次いで、該アルカリ水溶液を結晶が析
出するまで冷却したのち、引き続き、攪拌下、所定の反
応温度に保持しながら、次亜塩素酸塩の水溶液を全量添
加又は徐徐に滴下して反応させることにより行なわれる
反応終了後は常法に従って、先ず、反応系内に残存する
次亜塩素酸塩を例えば、酸性亜硫酸ソーダなどの中和剤
を添加し中和する。
次いで、塩酸を添加し反応系内を強酸性として80〜1
00℃にて加熱処理して開環しているナフトスチリル類
が完全に閉環される。
ここで析出したナフトスチリル類の結晶を含むスラリー
を必要に応じて、例えば、炭酸ソーダなどを加えて弱ア
ルカリ性として副生物を溶解処理したのち、冷却して1
過することにより、ナフトスチリル類の結晶を回収する
ことができる。
以上、本発明によればナフタルイミドと次亜塩素酸塩と
の反応により極めて高収率でナフトスチリル類を得るこ
とができ、また、水溶媒の使用量が少なくてよいと言う
利点を有する。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例 1 31フラスコに94%苛性ソーダ21.60グ、85%
荷性カリ33.149(KOH/NaOH−1,0モル
比)、ナフタルイミド59.11’及び水1183S’
を加え、約70℃に加熱攪拌しナフタルイミドを完全溶
解させたのち、該溶液を約15℃に冷却しナフタルイミ
ド結晶を析出させた。
このようにして得たナフタルイミド結晶を含むスラリー
に次亜塩素酸ソーダ水溶液(NaC1067,0?、N
aC152,6?、NaOH18,O’if、H2O8
40グ含有)c+7s、8f?(ナフタルイミドに対し
てNaC10として3モル倍)を加え、20℃にて攪拌
下、約2.5時間反応を行なった。
(なお、反応中の水分量はナフタルイミドに対して約3
4重量倍である。
)反応終了後の反応混合溶液を常法に従って、先ず、3
5%酸性亜硫酸ソーダ水溶液をKI−デンプン紙にて不
感になるまで加え過剰のNaC10を中和し、次いで、
90〜100℃で1時間攪拌処理することにより反応生
成物を完全に加水分解した。
更に、この溶液にpH1となるまで35%塩酸を加え、
90〜100℃で2時間攪拌処理する*ことによりナフ
トスチリルの結晶を析出させた。
このスラリーに80℃にて炭酸ソーダ水溶液をpH9と
なるまで加え、2時間処理してナフトスチリル以外の結
晶を溶解させたのち、室温まで冷却してナンドスチリル
の結晶を分離回収した。
上述の反応における反応途中でのナンドスチリル(NS
Y) の収率及びナフタルイミド(NAI)の残存率
を測定し、第1表に示す結果を得た。
比較例 1 実施例1において、アルカリとして混合アルカリを使用
することなく苛性ソーダ43゜2M’のみを使用する以
外は実施例1と同様に反応を行なった。
比較例 2 実施例1において、反応前の加熱溶解処理を行なうこと
な〈実施例1と同様に反応を行なった。
比較例 3 実施例1において、反応前に加熱溶解処理をした溶液を
晶析させることなく溶液状態で実施例1と同様に反応を
行なった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ナフタルイミド類をアルカリの存在下、次亜塩素酸
    塩と反応させてナフトスチリル類を製造する方法におい
    て、予め、ナフタルイミド類を苛性アルカリ水溶液に4
    0℃以上の温度で加熱溶解し、次いで、該水溶液をナフ
    タルイミド類の結晶の少なくとも一部が析出するまで冷
    却したのち、苛性ソーダ及び苛性カリの存在下、10〜
    30℃にて次亜塩素酸塩と反応させることを特徴とする
    ナフトスチリル類の製造方法。 2 苛性ソーダ及び苛性カリの混合割合が9:1〜2:
    8(モル比)の混合物であることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のナフトスチリル類の製造方法。
JP10881878A 1978-09-05 1978-09-05 ナフトスチリル類の製造方法 Expired JPS5845425B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10881878A JPS5845425B2 (ja) 1978-09-05 1978-09-05 ナフトスチリル類の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10881878A JPS5845425B2 (ja) 1978-09-05 1978-09-05 ナフトスチリル類の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5535051A JPS5535051A (en) 1980-03-11
JPS5845425B2 true JPS5845425B2 (ja) 1983-10-08

Family

ID=14494284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10881878A Expired JPS5845425B2 (ja) 1978-09-05 1978-09-05 ナフトスチリル類の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5845425B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4415729A (en) * 1982-06-04 1983-11-15 Phillips Petroleum Company Recovering granular poly(arylene sulfide) particles from a poly(arylene sulfide) reaction mixture
DE3535482A1 (de) * 1985-10-04 1987-04-09 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von napthostyril

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5535051A (en) 1980-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5845425B2 (ja) ナフトスチリル類の製造方法
US2569288A (en) Preparation of n-benzyl-betahalopropionamides
JPH06157389A (ja) β−ナフチルベンジルエーテルの製造方法
JP4545911B2 (ja) メシル酸カモスタットの製造方法
US2230965A (en) Process of preparing guanyl taurine
US2521544A (en) Iodinating amino pyrimidines and amino pyridines
JPH04173764A (ja) 1,3―フェニレンジオキシジ酢酸の製法
JPS59225157A (ja) 4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフエニルスルホンの製造法
CN111689881B (zh) 一种阿佐塞米中间体的合成方法
US3636000A (en) Method for preparing dithiourazole
JP2001072669A (ja) 7−クロロ−2,4(1h,3h)−キナゾリンジオンの製造方法
US3072659A (en) Aluminum salts of nicotinic acid and process therefor
JP3235232B2 (ja) チオカーバメート類の製造方法
JPS60115569A (ja) 2−メチル−4−ベンザル−5−オキサゾロン類の製造方法
JPS60185752A (ja) α−アセトアミド桂皮酸類の製造法
JPH0119382B2 (ja)
US2757198A (en) Modified putrescine synthesis using dimethylformamide as solvent
JPS6165885A (ja) 新規合成中間体及びその製法
JPH08165279A (ja) 5−ヒドロキシイソキノリンの製造方法
JPS62277360A (ja) 5−アルキルキノリン酸の製造方法
JPH03167153A (ja) 3,5―ジヨードサリチル酸の製造方法
JPS6127961A (ja) N−置換フタルイミドの製造方法
JPS58167576A (ja) 2−アミノベンゾチアゾ−ル類の製造法
WO2000069825A1 (fr) Procede de preparation de tribromomethylsulfonylpyridine
JPS59204158A (ja) P−アミノベンゾイルグルタミン酸の製造法