JPS59225157A - 4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフエニルスルホンの製造法 - Google Patents

4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフエニルスルホンの製造法

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JPS59225157A
JPS59225157A JP10135883A JP10135883A JPS59225157A JP S59225157 A JPS59225157 A JP S59225157A JP 10135883 A JP10135883 A JP 10135883A JP 10135883 A JP10135883 A JP 10135883A JP S59225157 A JPS59225157 A JP S59225157A
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JP
Japan
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hydroxy
alkali metal
benzyloxydiphenylsulfone
metal hydroxide
dihydroxydiphenylsulfone
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JP10135883A
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Koji Ono
幸治 小野
Yukichi Morita
守田 諭吉
Eiji Ogata
栄治 尾形
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Konishi Chemical Ind Co Ltd
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Konishi Chemical Ind Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 氷見F’Aは4−ヒドロキシ−41−ベンジルオキシジ
フェニルスルホン(HOツー5O2()OCH2拗)の
製法に関す。
4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフェニルスル
ホン(以下BS −MBEという)は公知の化合物であ
って写真材料等に用いられる有用な原料である。
木発11J1者はフェニルスルホン類について従来から
研究を続けて来たが、この研究に於いてBS −MBE
の製造法の開発に成功し、鼓に本発明を完成するに至っ
た。即ち本発明は4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン1モルを、アルカlJ金Mtたは(及び)アルカ
リ土類金属の水酸化物または(及び)塩0.8〜1.2
当景含む水に溶解せしめ、40〜80°Cで塩化ベンジ
ル0.8〜1.2当量と反応せしめて析出する4−ヒド
ロキシ−4′−ベンジルオキシジフェニルスルホンを分
離することを特徴とする4−ヒドロキシ−4′−ベンジ
ルオキシジフェニルスルホンの製造法に係るものである
本発明法は目的物4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンを溶剤を使用することなく分離す
るものであり、またジベンジル体の副生を極めて効率良
く抑制することが出来る特徴を有する。
本発明に於いては原料として使用する塩化ベンジル及ヒ
4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの使用割合
が、後者1モルに対し前者0.8〜t、 2当量とする
ことを必須とする。この際前者が0.8当量に達しない
場合は原料4.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の残存量が多くなシ収皐が下る傾向があシ、また1、2
当量よりも多くなるとジベンジル体の副生が多くなる傾
向がある。また本発明に於いてはアルカリ金属または(
及び)アルカリ土類金属の水酸化物または(及び)塩の
使用量も極めて重要であり、4.4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン1モルに対し0.8〜L2当量使用す
る必要がある。との際0,8当景に達しない場合及び1
.2当量よ如多くなる場合はいずれも上記と同様な傾向
を有す。使用されるアルカリ金属またはアルカリ土類金
属の水酸化物及び塩としては、たとえばNaOH、KO
H、LiOH、Na2 Co8. K2 Cog 。
Ca(OH)2 、 Mf (OH)2等を例示出来、
好ましいものとしてNaOHを挙げることが出来る。
本発明法に於いてはこれ等特定量の両原料及びアルカリ
金属または土類金属の水酸化物または(及び)塩を使用
し、且つ40〜80°Cという特定の温度で反応を行う
必要があシ、これによシ溶剤を使用することなく目的物
BS−MBEを分離することが出来ると共に望ましくな
い副生物たるジベンジル体の生成を極めて有効に抑制出
来るのである。
本発明に於いては、上記東件により反応を行うことによ
り4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシ−ジフェニル
スルホンを製造することが出来る。
また本発明に於いては、かくして得られた4−ヒドロキ
シ−41−ベンジルオキシ−ジフェニルスルホ/を更に
精製して次の様な処理により、より一層純度を向上せし
めることも出来る。先ず上記4−ヒドロキシ−4′−ベ
ンジルオキシ−ジフェニルスルホン1モルに当し、0.
−8〜2.0 当tl ノア ルカリ金属または土類金
属の水酸化物または塩を含む水中に溶解し、次いで50
’C以上の温度で酸性物質によりpHを8.5〜10.
0になるまで部分中和する。BS−MBCが析出して来
る。この処理に依り4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオ
キシ−ジフェニルスルホンの純度が著しく向上する。こ
の際のアルカリ金属または土類金属の水酸化物または(
及び)塩の使用割合が上記範囲に達しない場合はBS−
MBEの溶解性が減少する。
また酸性物質によ9部分中和する際の中和程度はpH8
,5〜10.OKなる範囲である。このpH範囲は極め
て重要であり8,5に達しない場合及び10.0よりも
高くなると所期の目的を達成出来ない。この際使用する
酸性物質としてはたとえば硫酸、塩酸等を例示出来る。
実施例1 4.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ7250.8
f(1,00−1ニル)を、苛性7−タ40.8 f 
(1,02モル)を含有する2、5gの水に60°Cで
溶解せしめた後、同温度で塩化ベンジル126.611
.00モル)を8時間を要して滴下した。更に同温度で
4時間保温後40°ctで冷却し析出したBS −MB
EをF別しだ。収量818F、収率(対4.4′−ジヒ
ドロキシジフエニルスルホン)92%、BS−MBE純
度97%で融点166.0〜169.0°Cであった。
実施例2 上記実施例1と同様の方法で製造したBS−MBE84
0fをNaOH44f (1,1モル)を含有する8、
5eの水に90’Cにて溶解させ、活性炭10ダを加え
て不溶性不純物を熱時ろ過後、興品の酸化防止剤として
の還元剤・・イドロサルファイト1.Of及び金属汚染
防止剤としてのキレート剤EDTA8、Ofを添加後、
90°Cの温度において78%硫酸によりpHが9.8
になるまで中和した。後400Cまで冷却して析出して
いるBS−MBEをろ別した。
収量289g。対BS−MBE収率85%。
BS−MBE純度99.5%HPLC分析。融点168
.0〜170.0°C0 (以上)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン1モル
    ヲ、アルカリ金属または(及び)アルカリ土類金属の水
    酸化物または(及び)塩0.8〜1.2当量含む水に溶
    解せしめ、40〜80°Cで塩化ベンジル0,8〜1.
    2M量と反応せしめて析出する4−ヒドロキシ−47−
    ベンジルオキシジフェニルスルホンを分離することを特
    徴とする4−ヒドロキシ−41−ベンジルオキシジフェ
    ニルスルホンの製造法。 ■ 上記特許請求の範囲第1項の製造法に依り製造され
    た4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフェニルス
    ルホンをアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
    物または(及び)塩を含む水に溶解せしめ、50°C以
    上の温度で酸性物質によ、9 pH8,5〜10.0に
    なるまで部分中和して析出する4−′ヒドロキシー4′
    −ベンジルオキシジフェニルスルホンを分離することを
    特徴とする4−ヒドロキシ−41−ベンジルオキシジフ
    ェニルスルホンノ製造法。
JP10135883A 1983-06-06 1983-06-06 4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフエニルスルホンの製造法 Granted JPS59225157A (ja)

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