JPS5843931A - グリセリン及びポリオ−ルを生成するためのアルジト−ルの接触水素化分解 - Google Patents

グリセリン及びポリオ−ルを生成するためのアルジト−ルの接触水素化分解

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JPS5843931A
JPS5843931A JP57004045A JP404582A JPS5843931A JP S5843931 A JPS5843931 A JP S5843931A JP 57004045 A JP57004045 A JP 57004045A JP 404582 A JP404582 A JP 404582A JP S5843931 A JPS5843931 A JP S5843931A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は連続固定床接触プロセスな用いてソルビトール
のようなアルジトールを水素化分解し【グリセリンおよ
びグリコール生成物を製造する方法に関するものである
ソルビトールの水素化分解によるグリセリンとポリオー
ルの製造は広く研究されてきた。一般K、グリセリン頌
の最適の80−40重1%はオートクレーブパッチ反応
プロセスから得られた生成−において報告されている。
使用した反応条件は140〜JISilQ/II”(1
000〜6000psig )の高い水素分圧、200
〜260″C(89g 〜482”F )09度、1.
5時間まタバコれ以上の長い滞留時間であり、フィード
を含むスラリーの形で径100〜2ooメツシュの微粉
ニッケル触媒ケ使用している。
ソルビトールの水素化分解に関する報告はクラークによ
るものがある(インダストリアル・アンド・エンジニア
リング・ケミストリー%第50巻、tJXB号、195
8年8月 11g5jj)。99%D−ソルビトールを
40%含有する水溶液を、かきまぜ反応器内でフィード
を含むスラリー中に懸濁したケイソウ士に担持した50
%ニッケル触媒及び1%水酸化カルシウム助触媒と共に
用いた。
使用した条件は140〜894時/C1l”(2000
〜6600pai)の水素分圧、gi5−445°C(
419〜478下)の温度および400分(6,7時間
)までの反応時間であり、グリセリン。
エチレングリコール、プロピレングリコール、および他
のさらに少量の生成物を生成した。
コンラジンによる米国特許第296ft679号にはオ
ートクレーブ型反応器内でケイソウ士に担持した懸濁ニ
ッケル触媒を用いて糖アルコールからグリセリゾとグリ
コールを生成するための回様のプロセスが開示されてい
る。反応条件は200〜800℃の温度、500〜10
00大気圧、8〜lOのpHであり、引続き濾過により
触媒を除き生成物を分離する。
ジャーナル・オプ・アプライド・ケミストリー第19巻
、第48〜46頁にヴアン・リング等は、グリセリンを
生成するために、オートクレーブ反応器内でメタノール
水溶液にスクロース、グルコニス及びフラクトースを溶
解したフィード上にスラリー化した触媒を用いる水素化
分11s実験を開示した。使用した触媒はフィードに添
加した0〜5%のCa(O旧、を含むCuO−Ce01
− Slogであった。
使用した反応条件は800〜g50℃の温度、100〜
800大気圧および10〜120分の反応時間であった
ヘルウイグ#fiによる米国特許第8471580号に
は、単段または多段逆流沸騰床接触反応11!な用いて
98〜288“C(200〜660″F)の温暖および
49〜247峙バー(700〜8500psia )の
水素分圧にて、グリセリンとグリコールな糖類から生b
yすることができることが開示されている。線膜反応で
ソルビトールタイプのフィードをグリセリン生成物する
ために用いられる条件例として、約191″C(876
@P)の温度、約11.9岨/cm” (1700ps
ia )の水素分圧、1時間当り1・2の液時空間速度
(LH8V )で、アルミナに担持したニッケル触媒を
用いて約50重書%のグリセリンと20重−%のプロピ
レングリコール、および残鐘のメタノール、エタノール
イノプロパツールその他の生成物を生成した(第6欄、
蘂4θ〜58行)。
これら既知の方法はいずれも、現在市販品としてグリセ
リン及び前記生成物を連続的に生成するためKは使用さ
れていない。従って、反応条件を軽減しグリセリン生成
物の収率な上げる連続操作を達成するためアルジトール
転化プロセスの改善が望まれており、4KA定床反応器
内で用いる触媒の改善が望まれる。
本発明はアルジトール、例えばソルビトール。
マンニトール、およびキシリトールを水素化分解により
転化してグリセリンおよびポリオール生成物な製造する
改良した連続固定触媒床反応方法を開示するものである
。不活性担体忙担持した改良した多孔性金−触媒を用い
るこの固定床型反応圏は適度の条件と短かい滞留時間で
操作し、またフィードのパックミキシングを制限し望ま
ない二次的反応な抑える独自の長所を有する。この方法
は。
アルタトール。例tばノルビトール、マンニトール及び
キシリトールをフィードストック溶液として利用し、I
n的に主としてグリセリン及びグリセリン生成物に転化
することができる。アルジトールフイード溶液は水溶液
が好ましい。しかし、メタノール、エタ1ノール、プロ
パノールのようなアルコール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコールのようなグリコールおよび類似のも
のおよびこれらの混合物等グリセリンとは十分に異なる
沸点な有し蒸留により簡単に分離することができるもの
を用いることができる。水酸化カルシウムまたは水酸化
ナトリウムのようなアルカリ助触媒物質を、フィード流
および反応a流出液のpHを制御して触媒から金属が浸
出するのを防ぎ反応を改善する通“常0.2〜8重量%
の濃度で、フィードR溶液に添加する。フィード物質は
低コストおよび優れた有効蒜の点から■〜60重量への
ソルビトール水溶液が好ましい。
少なくとも約aO重量鴨、好ましくは40〜60重11
%の高収率でグリセリン生成物を連続的に生成するよう
にアルジトールの転化本を高めるため、反応−の操作条
件な!16〜1!71’C(410〜520下)04度
および84〜141Q/cm” (1200〜2000
 psig 1の水素分圧の範囲に維持する必要がある
ことが判った。液時空関t+t (LH8V )を触媒
1!看当り1時間当りフィードをり、S 〜8.0 容
量(Vf/hr/Vc ) K維持する必要があり、こ
のフィード率ではグリセリンの収率は約0・1〜8・0
重量へのa度の水酸化カルシウム助触媒な用いると増加
する。ノルビト・−ルフイードに対して、フィード流の
水溶液中のソルビトール製置は少なくとも約15重II
%であり、生成物の選択性を最良にするKは、通常a度
は約60%を越、えてはならず、一般に!10〜40重
1%が好重しい。また、フィード流の水素ガス/液体の
容量比は標準状態で少なくとも約1000であり、液体
フィード溶液と触媒との間の接触を良くするには約rI
Oooを越える必要はない。反応圏から生成したグリセ
リンの収率は80〜40重量5であり、残りはグリコー
ルその他の少量生成物である。
この連続固定床反応プロセスに用いる触媒は不活性担体
に析出させた槙!族または第1族から選ばれた會Jll
l會たは高活性貴金属から成り、好ましくは80〜70
重量%のニッケルを含有し、さらKIFfll L <
はI!IO〜6r1111%の多孔ニッケルヲ含有する
。触媒担体はフィード溶液または液体に不溶性であり、
アルミナ、シリカまたはこれらの組合せが可能である。
有効な粒径は4〜20メツ・シエ(0・475〜G@’
084傷 G、18?〜o、oaaインチ)(U・8シ
ープシリーズ)である。大きさが6〜−1mメツシュ、
ベレットの径が鳴・76、III (8/l、インチ)
、長さが8.17騙(1/8インチ)のケイノウ士クレ
ー担体に担持した約60重量%のニッケルを含−ILL
l 50〜200M”/7mの表面積を有する改良した
ニッケル触媒材料を用いると良い結果が得られた。
アルジトールな主にグリセリン生成物に水素化分解し高
い転化峯を達成するために好ましい反応圏の条件は、温
度が221〜249℃(48θ〜480”P )および
水w分圧が98〜1 it ? ’9 / CIL”(
1400〜1800 paig )である。最も好まし
い反応条件は282〜246’c(460〜4)5ν)
の温度、105〜12a Kp/am”(1500〜1
750psig)の水素分圧、1.8〜L8 Vf/h
r/Vcの範囲内の液時空関速度および1500〜4S
00の気体/液体容量比である。
ソルビトール供給濃吐け15〜40J1曾囁が好ましく
1.ソルビトールがグリセリン及びグリコール生成物に
転化する所1の範囲はフィードの40〜70重普%で重
量。
触媒は少なくとも約8時間使用したflkKニッケルの
酸化によりかなり失活することを見出した。
しかし、触媒を定期的に再生すると有効な触媒活性が維
持され、生成物の選択性が改善される。再生に際して、
触媒を溶媒で洗浄して析出物を除去することが好ましく
、次いで触媒を通過する水素等の加熱した還元ガスに、
ソルビトールフィーP及び転化生成物つ蒸発温度以上の
高温で再生圧にて接触させて、表面酸化物および残留物
質な殆ど除去する。プロセスの連続操作は複数の反応器
、好會しくは3個の反応器を用いて実施する。このため
にlの触媒床を並行に操作し他の触媒床を父互に1例え
ば10−100時間間隔および好ましくは1”A−IO
時間間隔で再生する。また、再生触媒の使用により望ま
しくない二次的分解反応が威るにつれて、新しい触媒を
□使用する場合と比較して、所望のグリセリン生成物に
対する選択性が改善されることが認められた。
フィードの接触反応に#5!いて、反応wM流出流を減
圧して、アルコール、水、およびグリコールのような軽
い生成物な除去しグリセリンその他の所望の生成物の回
収率な増加するため、複数の蒸留工程から成る回収部に
通す。揮発性物質を除去した後、未転化ソルビトールフ
ィードを含有する重ボシームス液体流の1sケ反応WI
AK再循環して、さらKm触反応を行い主にグリセリン
生成−に転化する。蒸留に伴うプロセスからの収率はソ
ルビトールフィードに対して40〜50重普%の重量セ
リンであり、残りはグリコールその他の少量生成物であ
る。
本発明のグリセリンな生成するアルジトールの接触水素
化プロセスは順流固定床接触反応器の配置で連続操作す
ることができ(有利な特性を有しており、再生に伴って
改善された選択性な有する1極めて活性な安定化したニ
ッケル触媒を使用する。
また、本発明のプロセスは上記既知のプロセスよりも低
い水素分圧及び大きい液時空関速If (LH8Vt)
を用いる。これらのプロセス特性はすべて、優れた結果
を与え前記既知のプロセスよりも商業的使用に適してい
るソルビトール水素化分解プロセスを提供する本発明に
結びつく。
以下、−面に基づき本発明の詳細な説明する。
第1図において、グルコースから得られるような20〜
60重t%のソルビトール溶液を符号10にて水溶液で
与える。触媒からニッケルが浸出しないように溶液のp
Hを#l!iL、一般に11にてアルカリ助触媒、好ま
しくは0・5〜g重量%の水酸化カルシウムを添加して
7〜14の範囲に制御する。得られたフィード流溶液を
18からの新鮮な水素と共にポンプ18で送り予熱器1
5に通し、ここで従来法により好ましくは蒸気を用いて
約98℃(s00″F)以上に加熱する。フィード流は
通常未転化ソルビトール、若干の01〜C。
アルジトール及び若干のポリグリセリンを含有する再循
IIA流14と混合し、加熱した混合物な反応!116
に通す。
反応器16は個々の籾子から成る触媒の固定床1フを含
み、この床に液体フィード及び水素ガスな下方に通して
触媒と密接に接触させることが好ましい。反応器は、2
21〜254°C(480〜490下)の温度及び98
〜184時/傷3(1400〜1900 paig >
の水素分圧の範囲内の高温高圧の条件KMA持する。ゾ
ルビトール溶液フィード率または液時空関速度は少なく
とも約1・8 vf / hr /Vcであり、水素化
分解反応の良い結果を得るKは通常的2.8 Vf/h
r/Vcを超える必要はない。液体溶液及び触媒との間
の接触な良くするため水素ガス/液体容猜比を少なくと
も約1000、通常は約5000を越えないように維持
する必要がある。ソルビトールは少なくとも約80重葉
%のグリセリンと若干のグリコール生成’41jK反応
転化する。
反応器16に使用される触媒は、ケイソウ土担体に担持
した特殊な還元安定化した高ニツケル触媒であり、60
〜66重t%のニッケルを含入、4〜12メツシユ(U
、S、シーブシリーズ)の粒径(o、47s 〜0.1
68CII1.o、187〜0.Oaaインチ)を有す
る。「安定化した」触媒の使用により、触媒は限界寿命
まで使用して一層活性になる。この安定化した触媒は、
反応器に充填している間に触媒が空気にさら、される場
合、高活性のニッケルの自然酸化を紡ぐように二酸化炭
素の単分子層で被覆したものである。工業的には、ソル
ビトールをグリセリンに最大量転化させるように1通常
触媒をその場で水素によりあらかじめ還元する。初期の
活性が高すぎる触媒は触媒上に炭素を析出するので、画
処理工程を約8時間に制限するだけで通常十分である。
触媒は使用期間が延びる関に酸化により失活し。
有効なノルビトール転化水準を維持するように再生しな
ければならないので、第2の触媒反応器leaを交替に
使用するように並行に設ける。少なくとも約16時間の
操作期間に触媒を使用すると、ソルビトールの転化率は
約80重葉%以下に減少し1通常約sOO時間を越えず
に、フィードを触媒床17mを含む交替反応器16aに
切換える。使い古した触媒17は、まず水または水−メ
タノール溶液で洗浄して残留液体と析出物な除去し、次
いで!60〜848℃(500〜66(1”F)の温度
及び減圧、好士しくは大気圧にて1〜10時間触媒と水
素を接峨させて酸化物な除去することにより%再生する
ことができる。好ましくは。
触媒の再生は16〜32時間の操作後に行い、約4時間
25%の水と75%のメタノール溶液で洗浄後、288
〜816°C(550〜600″F)の温間及び大気圧
にて約8時間水素を流して触媒と接触させる。
18の反応器流出液流を、水等の適当な流体により熱交
換器19で冷却し、高圧弁11M器go<−通し、ここ
で流体を上部ガス流22及びボトムス液体流24に分離
する。上部ガス流2zは王に水素及び少量のメタンを含
み、28にて減圧し、水素精製ユニット441IC通す
。ここでガスな少なくとも約50容量%及び通常は60
〜80容瞼%の水素まで精製し、流れ45として圧縮機
46を介して反応器16に再循環し再使用する。
分離器ボトムス流24を25にて減圧し、低圧分離器B
6に通し、ここから水素及びメタンを含有するガスベン
ト流として上部fig?を引出す。
グリセリン生成物な主成分とする液体流28を引出して
蒸留部80に通し、81にてアルコールを、81にて過
剰の水を、88にてプロピレングリコール及びエチレン
グリコール等のグリコールヲ除去する。グリセリン生成
物の1部を84にて引出し、残りのグリセリンを86に
て引出して真空蒸留部88に通す。−この蒸留は1〜1
00■H2の真空圧、好ましくは10〜7.0 all
 H,の圧力にて実施する。
従来の真空蒸留方法は緩慢であり比較的扁い示差11[
が心安であるため、流体温度がグリセリンの分解温度ま
たは約204℃(400’F )以上となり、生成物中
に望ましくないポリグリセリンが生成してしまうことが
判った。従って、この檜の生成物の蒸留を一層迅速に最
低温蔵で、好ましくは約j104℃(400″F)を越
えないように実施して、望ましくない副反応を制限する
ために、漂゛留部88K例えば流下薄膜型またはぬぐい
(wi pad )薄膜型蒸発缶のような薄膜型蒸発器
を設けることが好ましい。
40〜60@睦%のmttを有する残りのグリセリン生
成物を89にて上部に引出して流れ84と合流させ、グ
リセリン生成物流40を与える。蒸留部δ8からの未転
化ソルビトールを含有する重い液体流を41にて引出し
、反応器16に再循環して、さらに所望あグリセリン生
成物を生成するように転化する。ソルビトール転化条件
では容易に転化されない重い未転化物質を含有するパー
ジ流を42にて引出し、捨てるかまたはさらに所望によ
り処理することができる。 ゛ 第2〜4図には、ソルビトール転化における反応器温度
、水素分圧、及び液時空間速度のパラメータの代表的な
効果・を示した。第2図及び第8図から、約221〜2
55 c (486〜490下)の温度及び約98〜1
 a 4’KP/*n” (1400〜1900 ps
ig )の水素分圧の所望範囲外でソルビトールがグリ
セリンに転化する%がかなり減少することが判る。第4
図に示すように一時φ間速度が約2.5よりも小さく 
2.65 V/hr/Vcよりも大きい場合に転化%は
減る。
以下、l!廁例に基づき本発明をさらに説明する。
実施例 1 ソルビトール70%U8Pグレード溶液に水を添加して
、g5重重量および40重量%のソルビトール[[K希
釈してフィードストック試料とする。工業的グレードの
水素(99,6%)を211時7am” (8000p
aig )のプラント分配システムで用いた。ソルビト
ール溶液に反応助触媒物質として0・1〜1.0]1i
1%の濃度でCa (OH) *を添加し、pHを約1
1〜18に64整した。
用意したフィードストックと水素を121℃(lsO’
P)に脆熱し、ソルビトール水素化分解のための固定床
反応器システムに導入した。使用したプロセス工程は第
1図に概略的に示したものに極めて類似している。順流
反応器はスケジュール110ステンレススチール管で製
造し、内径1.18 m (0,464インチ)、長さ
80.50IL (12インチ)及び容量8δCCであ
った。反応器の底部に110ccの触媒な充填した。こ
の触媒はケイソウ±に担持した60亀量%の多孔ニッケ
ルから成り、ユナイテッド・キャタリスト・カンパニイ
製で8〜12メツシユの粒径(U、8.シーブシリーズ
)を有する。反応器の頂部は8〜12シツシユの平板状
のアルミナを有し、フィード予熱及び流れ分配区域とし
て働く。5反応器に8点熱電対を装備し、触媒床の頂部
、中央部及び底部をモニターする。
ソルビトール水素化分解の操作は、次に示す反応器操作
条件を用いて行った。
反応温度  204〜271℃(400〜520″F)
氷素分PIE95〜IJIO晒へ8 (1850〜18210 psig )液時空間速度 cc/hr/cc触媒  1.6〜8.0H,ガス/液
体比   1000〜5000水素炎イオン化検出器及
びインテグレータを装備したガスクロマトグラフを試料
分析に用いた。
全試料について「アルコール」分析を行ったが、選択し
た試料の今をアルドース及びアルジトールとして分析し
た。詳しい分析法として直径2−xfiさl−1m(+
フィート)のステンレス鋼製の80 /100メツシュ
ポラバク(Porapak ) Pカラムを用い、アル
コール、グリコール及びポリオールを分析した。lμt
の試料をカラムに注いだ。ガスクロマトグラフの条件は
、初期カラ五温度が150℃、150℃にてホールドア
ツプ時間が4分間%5FIL上昇速度が8℃/分、最終
温度が280℃、ヘリウム流速が80cc/分、開始剤
と界面温度が800°C,ガスのヘッド圧力が空気8.
5Kl/cs” (50psig ) 、ヘリウム7に
−t/lxr” (1o 。
paig ) 、水素1−4111/C11l” (j
l Opaig ) Kセットした。
数シリーズの実験を行って、生成物収率に対するCa 
(OH) z助触媒濃度の効果1反応源度、水累分圧%
液時空関速度及びソルビトールフィード1闇を研究した
。一般に1%Ca (OH) s溶液は0.1%Ca 
(OH) @溶液よりもグリセリン収率が良いことが判
った。次のデータはすべて、1%Ca (OH) 2S
att用いて得たものである。明らかに、グリセリンは
水素化及び水素化分解を受けやすく%第8図にグリセリ
ン収率に対する反応温度の効果な示したように、グリコ
ールに転化する。第8図には、グリセリン収率に対する
水素分圧の効果を示す。
最適の圧力は約112〜12フKf/IK”(1600
〜1800 psig )である。第4図に示した最適
の空間速度は触dKつき約L56〜L6 cc/hr/
ccである。
フィード中のソルビトール濃度を考慮すると、データか
ら25軍−%のツルピトー、ル溶液は同じ反応条件で4
0重1%6gLよりもグリセリン収率が良いことが判っ
た。1%Ca (OH)1助触媒及び・25重量%ソル
ビトール*aに対しては、最適の操作条件は約288°
C(460”F)、IllδL9/am” (1? 5
0 psig )、及び触媒につき2・6cq / h
 r /caであり、この条件ではソルビトールのグリ
セリンへの転化率は86・4重量%であった。
@5図には、288〜254℃(46012〜490″
F)の反応温度の実験において25重量%及び40重量
%のソルビトールフィード溶液・を用   □いて得ら
れた生成物の詳細な分析値な示した。このデータから明
らかなように1反応中に生成した各化合物の1lll[
傾向を示し、またグリセリンの収率はフィード流のソル
ビトール濃度が低く反応酬温蜜が低い権増加することを
示している。主生成物はグリセリン、プロピレングリコ
ール及びエチレングリコールとして同定した。少量lJ
:戒物はブタンジオール、ジエチレングリコール、メタ
ノール、エタノール、 )a ハノール、マンニトール
Φシリトール及びエリトリトールであった。ソルビトー
ルの水素化分解は炭素結合の開裂位i″によって確認さ
れ、分解確率は c、−c、>clc、>c、−c、の頑序に従う。
実施例 2 フルビトール水素化分解のための追加操作は、内径1−
64鋼(1,0インチ)×高さδ8.1(!II(16
インチ)の反応器中で、ケインウ土に担持した60%多
孔ニッケルから成る直径δ・18關(/8インチ)×長
さ番・76 ws (/16インチ)のペレット状触媒
を用いて行った。71.6図に示すように、ケイソウ十
Km持した60%多孔ニッケル触媒の活性は約80時間
操作後に減少し、約180時間使用まで緘少し続けるこ
とが判る。触媒の活性を回復するために触媒再生操作を
開始するが、その場合85重量%の水及び75事量鴨の
メタノールを含有する醇液を用いて洗浄し、綬い′″C
808’C(5?5’F)で大気圧[て8640fi”
/分(0・12sft、”/分)の水素流速で4時間、
水素と@媒を接触させる。再生後、触媒活性は約601
鎗〜のソルビトール転化及び約26重量%のグリセリン
収率な4成するに十分な種度に改善された。
新鮮な再生触媒ヤ用いた結果な第6図に示した。
この図から、ソルビトール転化のための新鮮な触媒活性
は再生しないで用いると約8S時間(16時間を!周期
)峰にかなり衰え、グリセリン収系はlzs時ijl 
(16時間を8lll1期)優にソルビトールフィード
の約lO%まで減少することカ判ル。触媒再生後には、
ソルビトール転化率it約60重量%まで増力口し、グ
リセリン収g&tソルビトールフィードの約251量%
まで増加する。
従って、触媒は通常、16時間の周期を1−4周期使用
した後、すなわち約8iI〜64時間使用した優に再生
する必要があり、所@l/Cより早目に再生することが
できる。所望により触媒再生操作はソルビトール転化率
をフィードの約塁0〜70重量%に−持し、未転化ソル
ビトールを再循環して、転化したソルビトールに対し4
0〜50重量鴨の収率でグリセリンを生成させる。また
、他の分解及び水素化生成物の生成が非常に減るので、
新鮮な触媒と比較して約60時間の操作後に再生触媒な
使用する場合、グリセリン生成物に対する選択性が改善
されることは注目すべきである。
【図面の簡単な説明】
1 第1図は接触反応及び生成物蒸留工程を含む本発明
のゾルビトール水素化分解方法を示す線図、第2−5図
は種々の反応条件下でのソルビ)−ル水素化分解の結果
を示すグラフであ、る。 111184において、反応器の圧力は13.8時/傷
1(1750paig )%LH8Vは2.5±o、g
 ca/cc/hrソルビトール濃度はB5貫電量であ
る。 第8図において、反応温度は246±δ℃(47s±6
″F)、LH8Vはil、6 cc/cc/br 、ソ
ルビトール濃度は25重I1%である。 第4図において、反応温度は!41±6℃(4?O±1
0下)1反応器圧力は118KF/C1l”(1? 5
0 psig )、ソルビトールm1lfは!!5重瞳
%である。 填5図にはンルビトール水素化分解の主生成物な示す。 第6図は生成物収率な維持する際の触媒再生の利益を示
すグラフである。 10・・・ノルビトール溶液倶給、11・・・pH調整
、12・・・ポンプ、la・・・水素供給、1.5・・
・予熱器、16・・・反応器、17・・・固定床、18
・・・反応器流出液流、19・・・熱交換器、20・・
・高圧分き器、2g・・・上部ガス流、2:a、26・
・・減圧?Sル、24・・・ボトムス流、26・・・低
圧分lIl器、27・・・上部流、28・・・グリセリ
ン主成分の液体流、80・・・蒸留部、88・・・真空
蒸留部。 44・・・水素精製ユニット。 第2図 反lこ=a月1 τ(’F) 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L lal  少なくとも約10重量%のアルジトール
    を含有するフィード流溶液な一用意して、該フィード流
    溶液に7〜14のpHを与えるに十分なアルカリ助触媒
    を添加し、 lbl  該フィード流溶液及び水率ガスを少なくとも
    約98℃(goo”F)の温fK予熱し、不活性担体に
    担持した個々の微粒子から成る高活性の安定化した金属
    触媒を含有する固定床反応圏に、該加熱したフィード流
    混合物を導入し、 lc)  該反応圏条件をff115〜26゛0℃”(
    480〜B 001’ )の温度°、84〜141に#
    /傷2(1200〜”2000 psjg )の水素分
    圧、14〜8.0の液時空関速II(L)!8V)、及
    び約8時間を越える触媒寿命に維持して、アルジトール
    なグリセリン及びグリコール生成物に少なくとも約80
    重量%転化するようKL。 ldl  グリセリン及びグリコールな含有する流れを
    反応圏から引出し、該流れをガス状部分及び液体部分に
    相分離し、 Tel  前記液体部分を蒸留してアルコール、水及び
    グリコールを除去し、高純度のグリセリン生成物及びア
    ルジトールを含有する重ボトムス液体流を生成し、かつ lfl  さらにアルジトールを接触転化して王にグリ
    セリン生成物を生成するように%前記ボトムス流の少な
    くとも1部を該反応−に再循環する 各工程から成るグリセリン及びポリオールな生成するた
    めのアルジトール溶液の接触水素化分解方法。 亀 該フィード流が水溶液中に20〜60重量%のソル
    ビトールを含有し、反応圏条件を221〜249 ’C
    (480〜480″F)の温度、98〜134〜/偉”
     (1400〜1900psig )の水素分圧、1.
    8〜2・8の液時空間速度に維持し、触媒寿命1に一周
    期的再生によりlθ〜200時間Km持し、かつ 該ソルビトールフィード溶液を約80〜70重着%転化
    して主にグリセリン生成物と残りのグリコールその他の
    生成物とを与える特許請求の範囲第1項記載の方法。 &  la)において該フィード流番で添加した助触媒
    が水酸化カルシウム溶液であり、該反応器流出液のpH
    が約6.5〜7.5である特許請求の範囲第1項記載の
    方法。 4 vI数の接触反応圏を並行に設け、1の反応mな用
    いて連続操作し、その間にアルク) −ル転化本が約4
    0重量%以下に下がる時は常に他の圏で触媒を再生する
    ようにした特lFF請求の範囲第1項記載の方法。 1 触媒が50〜66重量%のシリカ担体に担持した多
    孔ニッケルから成り、4〜gOメツシj−(0,475
    〜0.084 ffi、 0.18)〜o、oaaイす
    る特許請求の範囲第1項記載の方法。 亀 1〜100襲の水銀圧でフィード液体部分を真空蒸
    留してさらにグリセリン生成物を分離し、未転化アルク
    トールを除去して40−90重t%純度のグリセリン生
    成物を生成するようにした特許請求の範囲第1項記載の
    方法。 n 最終蒸留工程には薄膜型蒸発a7に用い、望ましく
    ない副反応を最小にするため蒸留温度が約205°C(
    400″F)を越えないようにした特許請求の範囲第6
    項記載の方法。 & 触媒を少なくとも10時間使用した後、前記使用し
    た触媒を溶媒で洗浄して析出物な除去し、次いで少なく
    とも約8時間反6温度以上の温度及び減圧にて触媒と還
    元ガスとな接触させて再生することにより触媒の寿命を
    制御61次いで触媒を使用するため戻すようにした特許
    請求の範囲第1項記載の方法。 叡 標準状態で水素ガス対フィード液体の容量比が10
    00〜5000である特許請求の範囲第1項記載の方法
    。 la Bフィード流が20〜45菖1%のソルビトール
    を含有し、反応圏条件を182〜2 4 7 ℃  (
    450〜 4  )  6 °F  ) の 温 Ic
     、   9 8〜184時/fi”(140G−1・
    900 psig )の水素分圧、2.0〜2.7の液
    時空゛間速f4c維持し、触媒寿命を周期的再生により
    10〜200時間に維持し、かつ 該ソルビトールフィード溶液を約80〜70重t%転化
    して主にグリコール生成物と残りにポリオールな与え、
    グリセリン収率がフィード中のフルビトール濃度と共に
    増加し反応錫層が下がる特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 IL  lal  水溶液[1G〜60重蓄%のソルビ
    トールケ含有するフィード流を用意し、 +bl  Kitフィードfi&c7〜14のpHを与
    えるに十分な水酸化カルシウム助触媒を添加し、lcl
      咳フィード流溶液を水素ガスと共に少なくとも約9
    8’C(200″F)の温度に予熱し、50〜66重量
    %の不活性担体に担持したニッケルを含有する個々の微
    粒子から成る高活性の安定化したニッケル触媒を含有す
    る固定床反応11@に、該加熱したフィード流混合荀を
    導入し、  ゛ (d)  該反応圏条件を221〜896℃(480〜
    4801)の温度、98〜1844/、5(1400〜
    1900 paig )の水素分圧、1.8〜2・8の
    液時空間速度(LH8V )及び10−100時間の触
    媒寿命に維持し、ソルビトールの30〜フo重t%の転
    化を達成して:1:にグリセ、リン及び残りにアルコー
    ル及びグリコールを生成し、 Ie)  グリセリン及びグリコール生成物を含有する
    流れを該反応−から引出し、1流れをガス状部分及び液
    体部分に相分離し。 げ) 前記液体部分な減圧してこれを1.0〜80■H
    yFEK維持した真空蒸留工程に通し。 水蒸気を除去し、40〜eorct%純度のグリセリン
    生成物、及び未転化ソルビトールその他のアルジトール
    を含有する重ボトムス液体流を生成し、かつ Igl  さらにソルビトールを接触転化して主にグリ
    セリン生成物を生成するように、前記ボトムス流の少な
    くとも1部を該反応WAK再循環する 各工程から成る主にグリセリン生成物を生成するための
    ソルビトール溶液の接触転化方法。 l龜 触媒をBθ〜60時間使用した後、水とメタノー
    ルの溶液で洗浄し、次いで前記触媒な1llf 〜$1
    16℃(5s o 〜a o o@F )の温度で減圧
    にて3〜8時間水素流と接触させてグリセリン生成物に
    対する選択率を改良させる特許請求の範囲1111項記
    載の方法。 1&  la)  水溶液中に少なくとも、約10重1
    1%のアルジトールを含有するフィード流を用意し、該
    フィード流に触媒金属の浸出を防ぐに十分な範囲内のp
    Hを与えるアルカリ助触i物質を添加し、 (bl  Bフィード流溶液を少なくとも約98°Cの
    S度に予熱し、不活性担体に担持した個々の微籾子から
    成る高活性の安定化した金属触媒を含有する反応圏に、
    該加熱したフィード流混合物を導入し、 Tel  少なくとも約80電蓄%のアルジトールのグ
    リセリンとグリコール生成物への転化を達成するために
    、該反応圏条件を821〜gs+s℃(480〜490
    ν)のm度、84〜141KP/ctn” (1200
    〜lo00psig)の水素分子、1.5〜8.0の液
    時空関速度(LH8V )に維持し、 ld)  グリセリン及びグリコールを含有する流れを
    反応−から引出し、線流れなガス状部分及び液体部分に
    相分離し、 (e)  前記液体部分な蒸留してアルコール、水及び
    グリコールを除去して高純度のグリセリン生成物を生成
    し。 薄膜型蒸発器を用い約206 ”C(400″F)を越
    えない温ifで1〜100■Hvにて残留するグリセリ
    ン流を真空蒸留して、グリセリン生成物、及びアルジト
    ールな含、有する重ボトムス液体流を生成し、かつ げ) さらにアルジトールを接触転化して主にグリセリ
    ン生成物を生成するように、前記真空蒸留ボトムス流の
    少なくとも1&mV該反応−に再循環する 各工程から成るグリセリンを生成するためのアルジトー
    ル溶液の接触水素化分解方法〇
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