JPS5835987B2 - フエニル尿素誘導体、その製法及び同化合物を含有する選択的除草剤 - Google Patents
フエニル尿素誘導体、その製法及び同化合物を含有する選択的除草剤Info
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- JPS5835987B2 JPS5835987B2 JP54007259A JP725979A JPS5835987B2 JP S5835987 B2 JPS5835987 B2 JP S5835987B2 JP 54007259 A JP54007259 A JP 54007259A JP 725979 A JP725979 A JP 725979A JP S5835987 B2 JPS5835987 B2 JP S5835987B2
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- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N47/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
- A01N47/08—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
- A01N47/28—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
- A01N47/30—Derivatives containing the group >N—CO—N aryl or >N—CS—N—aryl
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規フェニル尿素誘導体、その製法並びに同化
合物を少なくとも1種含有する選択的除草剤に関する。
合物を少なくとも1種含有する選択的除草剤に関する。
除草作用を有するフェニル尿素誘導体、例えば米国特許
明細書第2655445号に記載の1(3・4−ジクロ
ルフェニル)−3・3−ジメチル尿素は公知である。
明細書第2655445号に記載の1(3・4−ジクロ
ルフェニル)−3・3−ジメチル尿素は公知である。
しかしこれらは栽培植物に対して非常に狭い選択範囲し
か有さない。
か有さない。
従って本発明の課題は雑草に対してすぐれた除草作用を
示すと同時に栽培植物に対する広い選択範囲を有する除
草剤を提供することである。
示すと同時に栽培植物に対する広い選択範囲を有する除
草剤を提供することである。
この課題は本発明により一般式:
〔式中:R1は水素原子、cl−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキル基
を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R6はハロゲ
ン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C,ア
ルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ基
を表わし、nは1又は2の数を表わす〕の化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする除草剤により解決
される。
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキル基
を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R6はハロゲ
ン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C,ア
ルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ基
を表わし、nは1又は2の数を表わす〕の化合物を少な
くとも1種含有することを特徴とする除草剤により解決
される。
本発明による化合物は極めて良好な土壌−及び茎葉除草
作用並びに栽培植物に対する広い選択範囲によりすぐれ
ている。
作用並びに栽培植物に対する広い選択範囲によりすぐれ
ている。
従って同化合物は、特に栽培植物の間に存在する単子葉
−及び双子葉雑草の除去に有利に使用することが出来る
。
−及び双子葉雑草の除去に有利に使用することが出来る
。
本発明による化合物を出芽画法及び出芽抜法で使用する
ことにより耕地雑草、例えばからし類、はこべ、のぼろ
ぎく、かみるれ、ま−るばあさがお、きく科の耕地雑草
、はとげのざ、やぐるまぎく、あおびゆ、すずめのてっ
ぽう類、いぬびえ、あわ、ねずみむぎ類及び別の雑草が
除去される。
ことにより耕地雑草、例えばからし類、はこべ、のぼろ
ぎく、かみるれ、ま−るばあさがお、きく科の耕地雑草
、はとげのざ、やぐるまぎく、あおびゆ、すずめのてっ
ぽう類、いぬびえ、あわ、ねずみむぎ類及び別の雑草が
除去される。
種子雑草を除去するためには通例1〜5kg作用物質/
ヘクタールの適用量が使用される。
ヘクタールの適用量が使用される。
その際本発明による作用物質は有用栽培植物例えばプッ
シュボーネン(豆類)、落花生、じゃがいも、米、もろ
こし、とうもろこし、秋まき穀物及び大豆に選択的であ
ることが立証される。
シュボーネン(豆類)、落花生、じゃがいも、米、もろ
こし、とうもろこし、秋まき穀物及び大豆に選択的であ
ることが立証される。
又同作用物質はより多い適用量で使用する場合生長期の
間の荒蕪地植物の絶滅又は抑制のための完全除草剤とし
ても適する。
間の荒蕪地植物の絶滅又は抑制のための完全除草剤とし
ても適する。
本発明による化合物は一種を単独で又は数種を混合して
か又は別の作用物質と混合して適用することが出来る。
か又は別の作用物質と混合して適用することが出来る。
場合によっては別の落葉防止剤、植物保護剤又は害虫駆
除剤を各所望の目的に応じて添加することが出来る。
除剤を各所望の目的に応じて添加することが出来る。
作用範囲を広げる目的がある場合には別の除草剤を添加
することも可能である。
することも可能である。
除草作用を有する添加物質としては例えばトリアジン、
アミノトリアゾール、アニリド、ジアジン、ウラシル、
脂肪族カルボン酸及びハロゲンカルボン酸、置換安息香
酸及びアリールオキシカルボン酸、ヒドラジド、アミド
、ニトリル、上記の様なカルボン酸のエステル、カルバ
ミド酸エステル及びチオカルバミド酸エステル、尿素、
2・3・6−トリクロルベンジルオキシプロパニル、含
ロダン作用剤の群から選ばれる作用物質及び別の添加物
が適する。
アミノトリアゾール、アニリド、ジアジン、ウラシル、
脂肪族カルボン酸及びハロゲンカルボン酸、置換安息香
酸及びアリールオキシカルボン酸、ヒドラジド、アミド
、ニトリル、上記の様なカルボン酸のエステル、カルバ
ミド酸エステル及びチオカルバミド酸エステル、尿素、
2・3・6−トリクロルベンジルオキシプロパニル、含
ロダン作用剤の群から選ばれる作用物質及び別の添加物
が適する。
別の添加物としては例えば、除草剤と共に使用して相乗
的作用上昇効果を与え得る非植物毒性添加物、例えばな
かんず(湿潤剤、乳化剤、溶剤及び油状添加物も含まれ
る。
的作用上昇効果を与え得る非植物毒性添加物、例えばな
かんず(湿潤剤、乳化剤、溶剤及び油状添加物も含まれ
る。
有利には本発明による作用物質又はその混合物は、液体
及び/又は固体担体物質ないしは稀釈剤及び場合により
湿潤−1付着−1乳化−及び/又は分散助剤を添加して
調製物例えば粉末、撒布剤、顆粒体、溶液、乳剤又は懸
濁液の形で使用される。
及び/又は固体担体物質ないしは稀釈剤及び場合により
湿潤−1付着−1乳化−及び/又は分散助剤を添加して
調製物例えば粉末、撒布剤、顆粒体、溶液、乳剤又は懸
濁液の形で使用される。
適当な液体担体物質は例えば水、脂肪族及び芳香族炭化
水素例えばペンゾール、トリオール、キジロール、シク
ロヘキサノン、イソホロン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、更には鉱油留分である。
水素例えばペンゾール、トリオール、キジロール、シク
ロヘキサノン、イソホロン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、更には鉱油留分である。
固体担体物質としては鉱質土壌物質例えばトーンシル、
シリカゲル、タルク、カオリン、アラタフレイ、石灰石
、珪酸及び植物生成物例えば穀粉が適する。
シリカゲル、タルク、カオリン、アラタフレイ、石灰石
、珪酸及び植物生成物例えば穀粉が適する。
表面活性物質としては例えばリグニンスルホン酸カルシ
ウム、ポリオキシエチレンーアルキルフエノールエーテ
ル、ナフタリンスルホン酸及びその塩、フェノールスル
ホン酸及びその塩、ホルムアルデヒド縮合物、脂肪族ア
ルコールスルフアート並びに置換ペンゾールスルホン酸
及びその塩が挙げられる。
ウム、ポリオキシエチレンーアルキルフエノールエーテ
ル、ナフタリンスルホン酸及びその塩、フェノールスル
ホン酸及びその塩、ホルムアルデヒド縮合物、脂肪族ア
ルコールスルフアート並びに置換ペンゾールスルホン酸
及びその塩が挙げられる。
種々の調製物中の本発明による1種又は数種の作用物質
の含量は広範囲内で変化させることが出来る。
の含量は広範囲内で変化させることが出来る。
例えば作用物質約10〜80重量%、液体又は固体担体
物質約90〜20重量%並びに場合により表面活性物質
20重量%までが除草剤に含有される。
物質約90〜20重量%並びに場合により表面活性物質
20重量%までが除草剤に含有される。
除草剤の適用は常法で、例えば担体としての水と一緒に
約100〜100M/ヘクタールの噴射液量で行うこと
が出来る。
約100〜100M/ヘクタールの噴射液量で行うこと
が出来る。
除草剤をいわゆる低容量法及び超低容量法で適用するこ
とも、又いわゆるミクログラニュラート(微粒体)の形
で適用することも同様に可能である。
とも、又いわゆるミクログラニュラート(微粒体)の形
で適用することも同様に可能である。
本発明による化合物を表わす一般式中で基R1としては
例えば水素原子の他にメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基、
インブチル基、第三ブチル基、アリル基、プロペニル基
、プロピニル基、ブテニル基、ブチニル基及びメトキシ
基が挙げられ、又基R2及びR3としては水素原子の他
にメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、第ニブチル基、イソブチル基及び第
三ブチル基が挙げられる。
例えば水素原子の他にメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基、
インブチル基、第三ブチル基、アリル基、プロペニル基
、プロピニル基、ブテニル基、ブチニル基及びメトキシ
基が挙げられ、又基R2及びR3としては水素原子の他
にメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、第ニブチル基、イソブチル基及び第
三ブチル基が挙げられる。
基R4及びR5は弗素原子、塩素原子又は臭素原子を表
わすことが出来る。
わすことが出来る。
置換外Xは例えば水素原子、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n −ブチル基、第ニブ
チル基、インブチル基、第三ブチル基、弗素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子、メトキシ基及びその他であ
ることが出来る。
プロピル基、イソプロピル基、n −ブチル基、第ニブ
チル基、インブチル基、第三ブチル基、弗素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子、メトキシ基及びその他であ
ることが出来る。
本発明による化合物の中で特に、R1がメチル基又はメ
トキシ基を表わし、R2が水素原子又はメチル基を表わ
し、R3が水素原子又はメチル基を表わし、R4が塩素
原子又は臭素原子を表わし、R5が塩素原子又は臭素原
子を表わし、Xが水素原子及び/又はメチル基及び/又
は塩素原子及び/又はメトキシ基を表わし1.nが1又
は2の数を表わす一般式を有するものが極めて良好な作
用を有することですぐれている。
トキシ基を表わし、R2が水素原子又はメチル基を表わ
し、R3が水素原子又はメチル基を表わし、R4が塩素
原子又は臭素原子を表わし、R5が塩素原子又は臭素原
子を表わし、Xが水素原子及び/又はメチル基及び/又
は塩素原子及び/又はメトキシ基を表わし1.nが1又
は2の数を表わす一般式を有するものが極めて良好な作
用を有することですぐれている。
本発明による新規化合物は例えば以下の様にして製造す
ることが出来る。
ることが出来る。
(4)一般式:
〔式中:R2、R3、R4、R5、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を (a) 一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わし、Halはハロゲン
原子を表わす〕のハロゲン化カルバミン酸と、場合によ
り溶剤を使用し酸結合剤の存在下で反応させるか、又は (b)上記化合物を式: ()) のインシアン酸メチルと、場合により溶剤を使用し触媒
の存在下で反応させる。
のを表わす〕の化合物を (a) 一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わし、Halはハロゲン
原子を表わす〕のハロゲン化カルバミン酸と、場合によ
り溶剤を使用し酸結合剤の存在下で反応させるか、又は (b)上記化合物を式: ()) のインシアン酸メチルと、場合により溶剤を使用し触媒
の存在下で反応させる。
又は一般式:
〔式中:R2、R3、R4、R1、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用し触媒の存在下で反※※ 応させる。
のを表わす〕の化合物を一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用し触媒の存在下で反※※ 応させる。
又はO一般式:
〔式中:R2、R3、R4、R6、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用して反応させる。
のを表わす〕の化合物を一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用して反応させる。
又は
0 一般式:
〔式中:R1、X及びnは上記のものを表わす〕の化合
物を一般式: 〔式中:R2、R3、R4及びR6は上記のものを表わ
し、Halは−・ロゲン原子を表わす〕のハロゲン化物
と、溶剤を使用し酸結合剤の存在下で、又場合により触
媒も存在させて反応させる。
物を一般式: 〔式中:R2、R3、R4及びR6は上記のものを表わ
し、Halは−・ロゲン原子を表わす〕のハロゲン化物
と、溶剤を使用し酸結合剤の存在下で、又場合により触
媒も存在させて反応させる。
引続いて上記の諸方法で得られた反応生成物を自体公知
の方法で単離する。
の方法で単離する。
溶剤としてはあらゆる反応の際に反応体に対して不活性
な脂肪族及び芳香族炭化水素例えばヘキサン、ペンゾー
ル及ヒドルオール、クロル炭化水素例えば塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素及びジクロルエタン、エー
テル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及び
ジオキサン、ケトン例えばアセトン及びブタノン、ニト
リル例えばアセトニトリル、アミド例えばジメチルホル
ムアミド及びヘキサメチル燐酸トリアミドが適する。
な脂肪族及び芳香族炭化水素例えばヘキサン、ペンゾー
ル及ヒドルオール、クロル炭化水素例えば塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素及びジクロルエタン、エー
テル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及び
ジオキサン、ケトン例えばアセトン及びブタノン、ニト
リル例えばアセトニトリル、アミド例えばジメチルホル
ムアミド及びヘキサメチル燐酸トリアミドが適する。
酸結合剤としてはすべての反応の際に、有機塩基例えば
第三アミン例えばトリエチルアミン、ピリジン及びジメ
チルアニリン、又は無機塩基例えばアルカリ−及びアル
カリ土類金属の酸化物、水酸化物又は炭酸塩が適する。
第三アミン例えばトリエチルアミン、ピリジン及びジメ
チルアニリン、又は無機塩基例えばアルカリ−及びアル
カリ土類金属の酸化物、水酸化物又は炭酸塩が適する。
イソシアナートとの反応用の触媒としては第三アミン例
えばトリエチルアミンが適し、フェノールとハロゲン化
物との反応用の触媒としては沃化金属例えば沃化す)
IJウムが適する。
えばトリエチルアミンが適し、フェノールとハロゲン化
物との反応用の触媒としては沃化金属例えば沃化す)
IJウムが適する。
各反応体の反応はすべての反応の場合0〜150°Cの
温度において行う。
温度において行う。
出発物質として使用されるアニリン誘導体は相当スるニ
トロフェノールをエーテル化し、引続いてニトロ基を自
体公知の方法で還元することにより得られる。
トロフェノールをエーテル化し、引続いてニトロ基を自
体公知の方法で還元することにより得られる。
この工程を逆にして先ずアミノフェノールを位置選択的
に窒素原子においてアシル化し、次いで最後の段階とし
てエーテル化を行うことも出来る。
に窒素原子においてアシル化し、次いで最後の段階とし
てエーテル化を行うことも出来る。
エーテル化に使用されるジハロシクロプロパン誘導体は
=部は自体公知であり、自体公知の方法により製造する
ことが出来る。
=部は自体公知であり、自体公知の方法により製造する
ことが出来る。
ところでこの化合物を、安価な物質を使用してより簡単
に又より高収率で製造出来る方法が見出された。
に又より高収率で製造出来る方法が見出された。
新規方法においては本発明により一般式:のハロゲン化
アリルを、場合により不活性溶剤により稀釈されている
ハロゲノホルムCHR4R3Halと固体形又は水溶液
としての水酸化アルカリとからなる2相系中で触媒の存
在下で反応させる。
アリルを、場合により不活性溶剤により稀釈されている
ハロゲノホルムCHR4R3Halと固体形又は水溶液
としての水酸化アルカリとからなる2相系中で触媒の存
在下で反応させる。
その場合意想外にも使用されたハロゲン化アリルは水酸
化アルカリによって少しも又は僅少な程度にしか鹸化さ
れない。
化アルカリによって少しも又は僅少な程度にしか鹸化さ
れない。
ハロゲノホルムの中ではクロロホルム及びブロモホルム
が有利に使用され、又水酸化物の中では、有利には50
%水溶液としての、水酸化ナトリウムが有利である。
が有利に使用され、又水酸化物の中では、有利には50
%水溶液としての、水酸化ナトリウムが有利である。
触媒としてはオニウム化合物例えば第四アンモニウム−
、ホスホニウム−及びアンモニム化合物並びにスルホニ
ウム化合物が適する。
、ホスホニウム−及びアンモニム化合物並びにスルホニ
ウム化合物が適する。
同様にポリグリコールエーテル、特に環状の、例えば1
8−クラウン−6、及び第三アミン例えばトリブチルア
ミンも適する。
8−クラウン−6、及び第三アミン例えばトリブチルア
ミンも適する。
有利な化合物は第四アンモニウム化合物例えば塩化ベン
ジルトリエチルアンモニウム及び臭化テトラブチルアン
モニウムである。
ジルトリエチルアンモニウム及び臭化テトラブチルアン
モニウムである。
反応体の量比は広範囲内で変化させることが出来る。
有利にはハロゲノホルム及び水酸化物を1〜10倍の過
剰量で使用して反応を行う。
剰量で使用して反応を行う。
触媒は0.02当量で十分である。
反応は20〜100℃で行われるが、一般には20〜6
0℃の間である。
0℃の間である。
反応時間は1〜72時間である。
全反応時間の間十分な混合が必要である。
上記の方法により出発物質として必要なジハロシクロプ
ロパン誘導体が意想外にも公知法によるよりも高収率で
又技術的により簡単なやり方で製□造される。
ロパン誘導体が意想外にも公知法によるよりも高収率で
又技術的により簡単なやり方で製□造される。
以下の実施例は本発明による化合物の製造を詳述するも
のである。
のである。
例1
l−(4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキシ
)−フェニル〕−3・3−ジメチル尿素 クロロホルム600rrLl中の3−フロムプロヘン1
00rILl(1,16モル)を塩化ベンジルトリエチ
ルアンモニウム2fと混合する。
)−フェニル〕−3・3−ジメチル尿素 クロロホルム600rrLl中の3−フロムプロヘン1
00rILl(1,16モル)を塩化ベンジルトリエチ
ルアンモニウム2fと混合する。
次いで十分に攪拌しながら50%の苛性ソーダ溶液60
0m1を30分間以内に添加する。
0m1を30分間以内に添加する。
温度は上昇し、冷却により56〜60℃に保持される。
同温度において更に4時間攪拌し、次いでクロロホルム
750w11及び水750rrLlを添加する。
750w11及び水750rrLlを添加する。
有機相を分離し、乾燥し、蒸発濃縮し、真空中で分留す
る。
る。
収量:162S’、1−ブロムメチル−2・2−ジクロ
ルシクロプロパン 沸点13:63〜70℃、n ’13 = 1.509
64−ニトロフェノール70S’(0,5モル)ヲシメ
チルホルムアミド250mA!中に溶かし、攪拌しなが
ら1−ブロムメチル−2・2−ジクロルシクロプロパン
Ion’(0,53モル)、炭酸カリウム83グ及び沃
化ナトリウム1.51を添加する。
ルシクロプロパン 沸点13:63〜70℃、n ’13 = 1.509
64−ニトロフェノール70S’(0,5モル)ヲシメ
チルホルムアミド250mA!中に溶かし、攪拌しなが
ら1−ブロムメチル−2・2−ジクロルシクロプロパン
Ion’(0,53モル)、炭酸カリウム83グ及び沃
化ナトリウム1.51を添加する。
引続いて90℃において2時間攪拌する。
冷却させ、水上に注ぎ、酢酸エステルで抽出する。
有機相を稲荷性ソーダ溶液で、次に水で洗浄し、乾燥し
、蒸発濃縮する。
、蒸発濃縮する。
残渣をペンタンで晶化させる。収量:1i3y、4−(
2・2−ジクロルシクロプロピルメトキシ)−二トロベ
ンゾール 融点:66〜67℃ ヒドラジン水和物108P(1,73モル)をエタノー
ル500rfLl中に溶かし、ニッケル触媒10グを添
加する。
2・2−ジクロルシクロプロピルメトキシ)−二トロベ
ンゾール 融点:66〜67℃ ヒドラジン水和物108P(1,73モル)をエタノー
ル500rfLl中に溶かし、ニッケル触媒10グを添
加する。
上記のニトロ化合物113グ(0,43モル)を小量ず
つ45分間以内に添加する。
つ45分間以内に添加する。
その際温度は60℃に上昇する。なお1時間攪拌し、次
いで1過し、f液を濃縮し、水中に注入する。
いで1過し、f液を濃縮し、水中に注入する。
酢酸エステルで抽出し、乾燥し、蒸発濃縮する。
黄色油状物が残留し、これを精製することなく更なる反
応に使用する。
応に使用する。
収量:96y14−(2・2−ジクロルシクロプロヒル
メトキシ)−アニリン 4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキシ)−ア
ニリン20P(0,086モル)をピリジン100WL
l中に溶かす。
メトキシ)−アニリン 4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキシ)−ア
ニリン20P(0,086モル)をピリジン100WL
l中に溶かす。
攪拌しながら塩化ジメチルカルバモイル8.7−を5分
間以内に滴下する。
間以内に滴下する。
その際温度は53℃に上昇する。
2時間攪拌し、次いで50miHgにおいて十分に蒸発
濃縮し、残渣を酢酸エステル中に入れ、水で一度、又5
%の塩酸で一度洗浄し、乾燥し、蒸発濃縮し、イソプロ
ピルエーテルから晶化させる。
濃縮し、残渣を酢酸エステル中に入れ、水で一度、又5
%の塩酸で一度洗浄し、乾燥し、蒸発濃縮し、イソプロ
ピルエーテルから晶化させる。
収量:161.1−(4−(2・2−ジクロルシクロプ
ロピルメトキシ)−フェニル〕−3・3ジメチル尿素 融点=108〜iio℃ 同様の方法で下記の本発明による化合物を製造すること
が出来る。
ロピルメトキシ)−フェニル〕−3・3ジメチル尿素 融点=108〜iio℃ 同様の方法で下記の本発明による化合物を製造すること
が出来る。
本発明によるフェニル尿素誘導体は無色無臭の結晶物質
であり、酢酸エチルエステル、アセトン及びアルコール
に良溶解性である。
であり、酢酸エチルエステル、アセトン及びアルコール
に良溶解性である。
ペンゾール中には一部幾分か溶解する程度で、飽和炭化
水素及び水には実際上不溶解である。
水素及び水には実際上不溶解である。
下記の実施例は本発明による化合物の適用可能性及びす
ぐれた選択的除草作用を示すものである。
ぐれた選択的除草作用を示すものである。
例2
表に記載の本発明による化合物を5007水中の5ky
作用物質/ヘクタールの適用量の水性乳濁液として温室
内の試験植物としてのからし類及びなす科雑草上に出芽
画法及び出芽抜法で噴霧した。
作用物質/ヘクタールの適用量の水性乳濁液として温室
内の試験植物としてのからし類及びなす科雑草上に出芽
画法及び出芽抜法で噴霧した。
処理3週間後に処理結果を評価した。
その際〇−効果なし
4−植物の絶滅
を意味する。
表から認められる様に大抵の場合に試験植物の絶滅が達
成された。
成された。
例3
温室内で下記の表に記載の植物をその出芽後に本発明に
よる除草剤を用い1 kg作作物用物質/ヘタタール適
用量処理した。
よる除草剤を用い1 kg作作物用物質/ヘタタール適
用量処理した。
この目的のために除草剤を水性乳濁液の形で植物上に均
一に噴霧した。
一に噴霧した。
この場合にも処理3週間後に本発明による除草剤は雑草
に対するすぐれた作用と栽培植物に対する※※高い相和
性を示した。
に対するすぐれた作用と栽培植物に対する※※高い相和
性を示した。
比較除草剤はこの選択性を示さなかった。
処理結果は下記の表の様に評価された。
その際〇一完全絶滅
10−影響なし
を意味する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式: はメトキシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4ア
ルキル基を表わし、R3は水素原子又はC1−04アル
キル基を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R5は
ハロゲン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−
C4アルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメト
キシ基を表わし、nは1又は2の数を表わす〕のフェニ
ル尿素誘導体。 2 上記一般式中でR1がメチル基又はメトキシ基を表
わし、R2が水素原子又はメチル基を表わし、R3が水
素原子又はメチル基を表わし、R4が塩素原子又は臭素
原子を表わし、R5が塩素原子又は臭素原子を表わし、
Xが水素原子及び/又はメチル基及び/又は塩素原子及
び/又はメトキシ基を表わし、nが1又は2の数を表わ
す特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3l−C4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキ
シ)−フェニル〕−3・3−ジメチル尿素である特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 4l−(4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキ
シ)−3−メトキシフェニル〕−3・3ジメチル尿素で
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5l−C4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキ
シ)−3−メトキシフェニルクー3−メトキシ−3−メ
チル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5l−(3−クロル−4−(2・2−ジクロルシクロプ
ロピルメトキシ)−フェニル〕−3・3ジメチル尿素で
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7l−(3−クロル−4−(2・2−ジクロルシクロプ
ロピルメトキシ)−フェニル)−3−メトキシ−3−メ
チル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 81−〔4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメトキ
シ)−フェニル〕−3−メトキシ−3メチル尿素である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 91−ブチル−3−(4−(2・2−ジクロルシクロプ
ロピルメトキシ)−フェニルヨー1−メチル尿素である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 101−(47(2・2−ジクロルシクロプロピルメト
キシ)−フェニルツー3−メチル−3(1−メチル−2
−プロピニル)−尿素である特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 111−(4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメト
キシ)−3・5−ジメチルフェニル〕−3・3−ジメチ
ル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 121−(4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメト
キシ)−3・5−ジメチルフェニルツー3−メトキシ−
メチル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 131−(4〜(2・2−ジクロルシクロプロピルメト
キシ)−3・5−ジクロルフェニル〕−3・3−ジメチ
ル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 141−(4−(2・2−ジクロルシクロプロピルメト
キシ)−3−メチルフェニル〕−3・3−ジメチル尿素
である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 151−(4−(2・2−ジクロル−1−メチルシクロ
プロピルメトキシ)−フェニルツー3−メトキシ−3−
メチル尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 161−〔4−(2・2−ジクロル−1−メチルシクロ
プロピルメトキシ)−フェニル〕−3・3ジメチル尿素
である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 171−(4−(2・2−ジブロムシクロプロビルメト
キシ)−フェニル〕−3・3−ジメチル尿素である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 18 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキル基
を表わし、R4は)・ロゲン原子を表わし、R5はハロ
ゲン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C,
アルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ
基を表わし、nは1又は2の数を表わす〕のフェニル尿
素誘導体を製造するに当り、 ′ 一般式: 〔式中:R2、R3、R4、R5、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を 一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わし、Halはハロゲン
原子を表わす〕のハロゲン化カルバミン酸と、場合によ
り溶剤を使用し酸結合剤の存在下で反応させ、引続いて
得られた生成物を自体公知の方法で単離することを特徴
とするフェニル尿素誘導体の製法。 19 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1−C4アルキ
ル基を表わし、R3は水素原子又はC1−C,アルキル
基を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R5はハロ
ゲン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C4
アルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ
基を表わし、nは1又は2の数を表わす〕のフェニル尿
素誘導体を製造するに当り、 〔式中:R2、R3、R4、R5、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を式: のインシアン酸メチルと、場合により溶剤を使用し触媒
の存在下で反応させ、引続いて得られた生成物を自体公
知の方法で単離することを特徴とするフェニル尿素誘導
体の製法。 2〇 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C,アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1−C4,アル
キル基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキ
ル基を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R6はハ
ロゲン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C
4アルキル基及び/又は・・ロゲン原子及び/又はメト
キシ基を表わし、nは1又は2の数を表わす〕 体を製造するに当り、 一般式: のフェニル尿素誘導 〔式中:R2、R3、R4、R6、X及びnは上記のも
のを表わす〕の化合物を一般式: 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用し触媒の存在下で反応させ、引続いて
得られた生成物を自体公知の方法で単離することを特徴
とするフェニル尿素誘導体の製法。 21 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C,アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC,−C4アルキル基
を表わし、R4は)・ロゲン原子を表わし、R5はハロ
ゲン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−C4
アルキル基及び/又は・・ロゲン原子及び/又はメトキ
シ基を表わし、□は1又は2の数を表わす〕のフェニル
尿素誘導体を製造するに当り、 一般式: 〔式中:R2、R3、R4・R5・ ものを表わす〕の化合物を 一般式: X及びnは上記の 〔式中:R1は上記のものを表わす〕のアミンと、場合
により溶剤を使用して反応させ、引続いて得られた生成
物を自体公知の方法で単離することを特徴とするフェニ
ル尿素誘導体の製法。 22 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキル基
を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R5はハロゲ
ン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−04ア
ルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ基
を表わし、nはl又は2の数を表わす〕のフェニル尿素
誘導体を製造するに当り、 一般式: 〔式中:R1、X及びnは上記のものを表わす〕の化合
物を一般式: 〔式中:R2、R3、R4及びR5は上記のものを表わ
し、Halはハロゲン原子を表わす〕のハロゲン化物と
、溶剤を使用し酸結合剤の存在下で、又場合により触媒
も存在させて反応させ、引続いて得られた生成物を自体
公知の方法で単離することを特徴とするフェニル尿素誘
導体の製法。 23 一般式: 〔式中:R1は水素原子、C1−C4アルキル基、C2
−C4アルケニル基、C2−C4アルキニル基又はメト
キシ基を表わし、R2は水素原子又はC1C4アルキル
基を表わし、R3は水素原子又はC1−C4アルキル基
を表わし、R4はハロゲン原子を表わし、R5はハロゲ
ン原子を表わし、Xは水素原子及び/又はC1−04ア
ルキル基及び/又はハロゲン原子及び/又はメトキシ基
を表わし、nは1又は2の数を表わす〕のフェニル尿素
誘導体を少なくとも1種含有する選択的除草剤。 24 担体物質及び/又は助剤゛と混合されている特許
請求の範囲第23項記載の選択的除草剤。
Applications Claiming Priority (2)
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Publications (2)
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---|---|
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