JPS5830317B2 - シンキナピリド (2,3−d) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ - Google Patents

シンキナピリド (2,3−d) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ

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JPS5830317B2
JPS5830317B2 JP743276A JP327674A JPS5830317B2 JP S5830317 B2 JPS5830317 B2 JP S5830317B2 JP 743276 A JP743276 A JP 743276A JP 327674 A JP327674 A JP 327674A JP S5830317 B2 JPS5830317 B2 JP S5830317B2
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JP
Japan
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lower alkyl
halogen atom
substituted
alkyl group
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Expired
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JP743276A
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博之 井出
晃 中川
敏治 本村
寛治 野田
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Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
Original Assignee
Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(T) (式中、R2は(1)フェニル基、2()ハロゲン原子
、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基で置換されたフェニル基、(3)シク
ロアルキル基、(4)ベンジル基、又は(5)ハロゲン
原子で置換されたベンジル基を、R2は(1)低級アル
キル基、(2)低級シクロアルキル基、ノ】ロケン原子
、アルコキシ基、フェニル基で置換された低級アルキル
基、(3)アルケニル基、又は(4)アルキニル基を意
味する)で表わされる新規なピリド〔2,3−d〕ピリ
ミジンジオン誘導体の製造法に関するものである。
更に詳しくは一般式(II) (式中、R1は前記と同じ意味を有する)で表わされる
ピリド(2,3−d)ピリミジン−2゜4(IH,3H
)−ジオン誘導体に一般式(Il[)((rt”c(o
R”)2)■xe(l[)(式中、R2は前記と同じ意
味を有し、R3は水素原子、低級アルキル基又は低級ア
ルコキシ基を意味する)で表わされる化合物を反応させ
、前記一般式〇)で表わされる目的化合物を製造する方
法に関するものである。
前記一般式(I)及び(II)におけるR1及びR2に
就い※※て更に詳細に説明すると、R1はフェニル基、
又は塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子、メチル
、エチル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ等の
低級アルコキシ基、ニトロ基及びトリフルオロメチル基
等が任意の位置に1〜2個置換したフェニル基を、シク
ロヘキシル基又は低級アルキルシクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基を、並びにベンジル基又はハロゲン原子
で置換されたベンジル基を表わす。
ノ 又 R2の低級アルキル基はメチル、エチル、n
−フロビル、イソプロピル、n−ブチル、ペンチル等を
、低級シクロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基
、フェニル基が置換した低級アルキル基、又はアリル、
3−メチルアリル、3,3−】 ジメチルアリル等のア
ルケニル基及びプロパルギル等のアルキニル基を表わす
又、一般式(I)で表わされるジアルコキシカルボニウ
ム塩及びトリアルコキシカルボニウム塩は具体的には〔
HC(OCH2CH2Cl)2〕■BP、○。
CHC(OC2R5)2 )■BF4完 〔HC(OCH2CH−CH2)2〕■BF4e(CH
30−C(OCH3)2 )(+1BF4eCCH3C
(OC2H5)2 )■5bclp、等を表わす。
本発明の出発原料(II)は2−アミノニコチン酸アミ
ド誘導体に炭酸ジエチルを反応させることによって好収
率で得られる。
本発明の方法を反応式で示すと次の通りである。
本発明を実施するには一般に塩化メチレン1、ジクロロ
エタン、ニトロメタン、ベンゼン、トルエン等の不活性
溶媒中、水素化すトリウム、ナトIJウムアミド、ナト
リウムエチラート等の金属化合物及び水酸化アルカリ、
炭酸アルカリ等の無機塩基の存在下で行なうのが好まし
く、特に上記金属化合物を使用すると好収率で目的化合
物を得ることができる。
反応温度は特に限定されず室温でも進行するが、加熱す
ると短時間で反応は完結する。
本発明の方法により得られた化合物は文献未載の新規化
合物であり、顕著な鎮痛作用、抗炎症作用及び中枢神経
抑制作用等の薬理作用を有し医薬品として産業上有用な
化合物である。
以下に実施例を示し本発明を更に説明する。
実施例 1 ■−(m−ブ吊モフェニル)ピリド(2,3−d)ピリ
ミジン−2,4(IH,3H)−ジオン3.2g1塩化
メチレン80m1,55%水素化ナトリウム0.5.9
の混合物を室温にて30分間撹拌したのち、ジェトキシ
カルボニウムテトラフルオロボレ=1−5.8gを塩化
メチレン20rrLlに溶解したものを徐々に滴下し室
温にて20時間撹拌した。
次に生成物を濾過しp液を減圧下留去し、少量のメタノ
ールを加え生じた結晶をメタノールより再結晶して、■
−(m−ブロモフェニル)−3−エチルピリド(2,3
−d)ピリミジン−2,4(LH。
3 H)−ジオン3.3gを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融 点 171〜1736C 元素分析値 C15H1□BrN302 理論値C:52.04 H:3.49 N:12.14 実測値C:51.95 I−I:3.57N:12.0
9 実施例 2 1−(m−hリフルオロメチルフェニル)ピリド(2,
3−d〕ピリミジン−2,4(IH。
3 I−()−ジオン3.1g、、塩化メチレン80T
L1155%水素化ナトリウム0.!11の混合物を室
温にて30分間撹拌したのち、ジェトキシカルボニウム
テトラフルオロボレー1−5.7 gを塩化メチレン2
0m1に溶解したものを徐々に滴下し室温にて20時間
撹拌した。
次に生成物を濾過しろ液を減圧下留去し、少量のメタノ
ールを加え生じた結晶をメタノールより再結晶して、■
−(m−トリフルオロメチルフェニル)−3−エチルピ
リド〔2゜3−d〕ピリミジン−2、4(I Ht 3
H)−ジオン2.9gを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融 点 160〜162°C 元素分析値 C1e N12 F3 Ns 02理論値
C:57.31 H:3.61 N:12.53 実測値C:57.25 N3.51 N:12.59 実施例 3 1−(m−1□リル)ピリド(2,3−d〕ピリミジン
−2,4(IH,3H)−ジオン2.5g、塩化メチレ
ン80TL1155%水素化すl−IJウム0,5gの
混合物を室温にて30分間撹拌したのち、トリエトキシ
カルボニウムヘキサクロロアンチモネト9.6gを塩化
メチレン20rnl!に溶解したものを徐々に滴下し室
温にて5時間撹拌した。
次に生成物を濾過しろ液を減圧下留去し、少量のメタツ
ルを加え生じた結晶をメタノールより再結晶して、■−
(m−トリル)−3−エチルピリド〔2゜3−d〕ピリ
ミジン−2,4(IH,3H)−ジオン2.6gを得た
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融 点 182〜183°C 元素分析値 C16H1,N30□ 理論値C:68.31 N5.38 N:14.94 実測値C:68.26 N5.32 N:14.87 実施例 4〜116 実施例1〜3の方法に準じて次表に示す化合物を好収率
で得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1一般式 (式中、 R1は (1)フェニル基、 (2)ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、ニトロ基、トリフルオロメチル基で置換されたフェ
    ニル基、 (3)シクロアルキル基、 (4)ベンジル基、又は (5)ハロゲン原子で置換されたベンジル基、を意味す
    る)で表わされる化合物lこ一般式しく〔R3C(OR
    2)2〕■×e R2は (1)低級アルキル基、 (2)低級シクロアルキル基、ハロゲン原子、アルコキ
    シ基、フェニル基で置換された低級アルキル基、 (3)アルケニル基、又は (4)アルキニル基を、 R3は (1) 水素原子、 (2)低級アルキル基、 (3)低級アルコキシ基を、 Xは (1)硼素、(2)アンチモン、(3)鉄、(4)アル
    ミニウムのハロゲン化物を意味する)で表わされる化合
    物を反応させることを特徴とする一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味を有する)で表
    わされる新規なピリド(2,3−d)ピリミジンジオン
    誘導体の製造法。
JP743276A 1973-12-29 1973-12-29 シンキナピリド (2,3−d) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ Expired JPS5830317B2 (ja)

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