JPS5920675B2 - 新規なピリミド〔4,5−d〕ピリミジン誘導体の製造法 - Google Patents

新規なピリミド〔4,5−d〕ピリミジン誘導体の製造法

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JPS5920675B2
JPS5920675B2 JP50069011A JP6901175A JPS5920675B2 JP S5920675 B2 JPS5920675 B2 JP S5920675B2 JP 50069011 A JP50069011 A JP 50069011A JP 6901175 A JP6901175 A JP 6901175A JP S5920675 B2 JPS5920675 B2 JP S5920675B2
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JP
Japan
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group
formula
producing
general formula
pyrimidine derivative
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寛治 野田
晃 中川
舜造 山崎
和喜 野口
博之 井出
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Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
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Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(I) □−R2(I) (式中、R1はフェニル基、又はハロゲン原子、ニトロ
基又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基を
、R2は低級アルキル基、アルケニル基、又は水酸基、
ハロゲン原子、低級シクロアルキル基で置換された低級
アルキル基を意味する)で表わされる新規なピリミド〔
4、5−d〕ピリミジン誘導体の製造法に関するもので
ある。
更に詳しくは一般式(■) □:R” (■) (式中、R1は前記と同じ意味を有する)で表わされる
化合物に一般式(2)(式中、R2は前記と同じ意味を
有し、R3はジアルキルアミノ基又は低級アルコキシ基
を、R4は水素原子又は低級アルキル基を意味する)で
表わされる化合物を反応させ、前記一般式(1)で表わ
される化合物を製造する方法に関するものである。
前記一般式(1),(1)及び(自)におけるR1及び
R2に就いて更に詳細に説明すると、R1はフエニル基
又は塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子、メチル
、エチル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ等の
低級アルコキシ基、ニトロ基、メシル基、トリフルオロ
メチルチオ基及びトリフルオロメチル基等が任意の位置
に1〜2個置換したフエニル基を、R2の低級アルキル
基はメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル等の低級アルキル基を、アルケニ
ル基はアリル、3−メチルアリル、3,3−ジメチルア
リル等を、又は水酸基、塩素、臭素、弗素、沃素等のハ
ロゲン原子、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル等の低級シクロアルキル基で置
換された低級アルキル基を表わす。又、一般式(自)で
表わされる化合物は具体的にはトリメチルオルトホルメ
ート、トリエチルオルトホルメート、トリアリルオルト
ホルメート、トリエチルオルトアセテート、トリ一(2
−クロロエチル)オルトホルメート等のオルトエステル
類及びN,N−ジメチルアセトアミドジメチルアセター
ル、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール
、N,N−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール
、N,N−ジメチルホルムアミドエチレンアセタール等
のN,N−ジアルキル酸アミドジアルキルアセタール類
を表わす。
本発明の出発原料である一般式()で表わされる化合物
は4−アニリノ−5−ピリミジンカルボン酸アミド誘導
体に炭酸ジエチルを反応させることによつて収量よく得
られる。
本発明を反応式で示すと次の通りである。
前記の反応はジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジグリム、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の不活性有機溶媒中で加熱することによつて行
なわれる。
尚、反応試薬としてN,N−ジアルキル酸アミドジアル
キルアセタール類を使用する場合は、還流下加熱するこ
とによつて反応は完結する。
又、オルトエステル類を使用する場合は、封管中無水酢
酸、無水トリフルオロ酢酸、無水プロピオン酸等の酸無
水物の存在下、150〜200℃に加熱することによつ
て反応は進行する。本発明により得られる化合物は文献
未載の新規化合物であり、顕著な中枢神経抑制作用、鎮
痛作用、抗炎症作用等の薬理作用を有し、医薬品として
産業上有用な化合物である。
以下に実施例を示し本発明を更に具体的に説明する。
実施例 1 1−(m−プロモフエニル)ピリミド〔4,5一d〕ピ
リミジン−2,4(1H,3H)−ジオン3.18gを
テトラヒドロフラン15dに溶解しN,N−ジメチルホ
ルムアミドジメチルアセタール3.6gと共に6時間加
熱還流した。
反応終了後、溶媒を減圧下に留去し残渣をエチルエーテ
ルより再結晶して、無色プリズム晶の1−(m−プロモ
フエニル)−3−メチルピリミド〔4,5−d〕ピリミ
ジン−2,4(1H,3H)−ジオン3.05gを得た
。この物質の融点及び元素分析値は次の通りであつた。
実施例 2 1−(m−トリフルオロメチルフエニル)ピリミド〔4
,5−d〕ピリミジン−2,4(1H,3H)−ジオン
3.18gをテトラヒドロフラン15m1に溶解し、N
,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール4.4
1gと共に6時間加熱還流した。
反応終了後、溶媒を減圧下に留去し残渣をエチルエーテ
ルより再結晶して、無色プリズム晶の1−(m−トリフ
ルオロメチルフエニル)−3−エチルピリミド〔4,5
−d〕ピリミジン−2,4(1H,3H)−ジオン3.
14gを得た。この物質の融点及び元素分析値は次の通
りであつた。
実施例 3 1−(m−クロロフエニル)ピリミド〔4,5−d〕ピ
リミジン−2,4(1H,3H)−ジオン2.74g1
無水酢酸20m1とオルトギ酸エチルを封管中150〜
160℃で18時間反応させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し残渣を酢酸エチルで
抽出、脱水後、アルミナを充填したカラムに吸着させ酢
酸エチルで展開し、溶出部の溶媒を留去し残渣にエーテ
ルを加えると、無色プリズム晶の1−(m−クロロフエ
ニル)−3−エチルピリミド〔4,5−d〕ピリミジン
−2,4(1H,3H)−ジオン1.34gを得た。こ
の物質の融点及び元素分析値は次の通りであつた。
実施例 4〜26 実施例1〜3の方法に準じて次表の化合物を好収率で得
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はフェニル基、又はハロゲン原子、ニト
    ロ基又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基
    を意味する)で表わされる化合物に一般式▲数式、化学
    式、表等があります▼ (式中、R^2は低級アルキル基、アルケニル基、又は
    水酸基、ハロゲン原子、低級シクロアルキル基で置換さ
    れた低級アルキル基を、R^3はジアルキルアミノ基又
    は低級アルコキシ基を、R^4は水素原子又は低級アル
    キル基を意味する)で表わされる化合物を反応させるこ
    とを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります
    ▼(式中、R^1及びR^2は前記と同じ意味を有する
    )で表わされる新規なピリミド〔4,5−d〕ピリミジ
    ン誘導体の製造法。
JP50069011A 1975-06-05 1975-06-05 新規なピリミド〔4,5−d〕ピリミジン誘導体の製造法 Expired JPS5920675B2 (ja)

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