JPS582952B2 - シンキナピリド (2 3−d) ピリミジンチオンユウドウタイ ノ セイゾウホウ - Google Patents
シンキナピリド (2 3−d) ピリミジンチオンユウドウタイ ノ セイゾウホウInfo
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(I)
(式中、Rlぱ(1)フエニル基、又は(2)ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基又
はトリフルオロメチル基で置換されたフエニル基を、R
2は(1)低級アルキル基で置換されたフエニル基を、
R2は(1)低級アルキル基、(2)ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、ビニルオキシ基、シクロアルキル基又はフ
エニル基で置換された低級アルキル基、(3)アルケニ
ル基、又は(4)アルキニル基を表わす)で表わされる
新規なピリド〔2.3−d)ピリミジンチオン誘導体の
製造法に関するものである。
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基又
はトリフルオロメチル基で置換されたフエニル基を、R
2は(1)低級アルキル基で置換されたフエニル基を、
R2は(1)低級アルキル基、(2)ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、ビニルオキシ基、シクロアルキル基又はフ
エニル基で置換された低級アルキル基、(3)アルケニ
ル基、又は(4)アルキニル基を表わす)で表わされる
新規なピリド〔2.3−d)ピリミジンチオン誘導体の
製造法に関するものである。
さらに詳しくは一般式(n)
(式中、R1は前記と同じ意味を有し、Xは低級アルコ
キシ基及びアミン基を表わす)で表わされる化合物に一
般式印 R2NCS (■) (式中、R2は前記と同じ意味を有する)で表わされる
インチオシアネート類を反応させることを特徴とする一
般式(I)で表わされる化合物か製造する方法に関する
ものである。
キシ基及びアミン基を表わす)で表わされる化合物に一
般式印 R2NCS (■) (式中、R2は前記と同じ意味を有する)で表わされる
インチオシアネート類を反応させることを特徴とする一
般式(I)で表わされる化合物か製造する方法に関する
ものである。
前記一般式(I),(■)及び(■)におけるR’,X
及びR2を具体的に説明すると、R1はフエニル基及び
塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ等の低級
アルコキシ基、ニトロ基、又はトリフルオロメチル基等
を任意の位置に1〜2個置換したフエニル基を表わす。
及びR2を具体的に説明すると、R1はフエニル基及び
塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ等の低級
アルコキシ基、ニトロ基、又はトリフルオロメチル基等
を任意の位置に1〜2個置換したフエニル基を表わす。
更にXの低級アルコキシ基はメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ等の低級アルコキシ基を、アミン基はメチルアミ
ン、エチルアミノ、n−プロピルアミン、イソプロピル
アミン、n−プチルアミノ等の低級アルキルアミノ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ビニル
オキシ基、アミン基及びアリール基等で置換された低級
アルキルアミノ基及びアリルアミノ、3−メチルアリル
アミノ、3,3−ジメチルアリルアミノ、プロパルギル
アミノ等の不飽和アルキルアミノ基を表わす。
ポキシ等の低級アルコキシ基を、アミン基はメチルアミ
ン、エチルアミノ、n−プロピルアミン、イソプロピル
アミン、n−プチルアミノ等の低級アルキルアミノ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ビニル
オキシ基、アミン基及びアリール基等で置換された低級
アルキルアミノ基及びアリルアミノ、3−メチルアリル
アミノ、3,3−ジメチルアリルアミノ、プロパルギル
アミノ等の不飽和アルキルアミノ基を表わす。
又、R2の低級アルキル基はメチル、エチル、n−プロ
ビル、イソブロビル、n−ブチル、イソブチル等の低級
アルキル基を、置換された低級アルキル基はハロゲン原
子、アルコキシ基、アセトキシ基、ビニルオキシ基、シ
クロアルキル基又はフエニル基で置換された低級アルキ
ル基又はフエニル基で置換された低級アルキル基を、ア
ルケニル基はアリル、2−メチルアリル等を、アルキニ
ル基はプロパルギル等を表わす。
ビル、イソブロビル、n−ブチル、イソブチル等の低級
アルキル基を、置換された低級アルキル基はハロゲン原
子、アルコキシ基、アセトキシ基、ビニルオキシ基、シ
クロアルキル基又はフエニル基で置換された低級アルキ
ル基又はフエニル基で置換された低級アルキル基を、ア
ルケニル基はアリル、2−メチルアリル等を、アルキニ
ル基はプロパルギル等を表わす。
本発明の方法を反応式で示せば次の通シである。
本発明における反応は一般にテトラヒド口フラン、ジメ
チルホルムアミド、ジオキサン、ジグリム、ベンゼン、
トルエン、キシレン、アルコール等の不活性溶媒中で行
なわれるが、金属ナトリウム、金属カリウム、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムアルコラート
等のアルカリ金属及び金属化合物の存在下で行なうと好
収量で目的化合物を得ることができる。
チルホルムアミド、ジオキサン、ジグリム、ベンゼン、
トルエン、キシレン、アルコール等の不活性溶媒中で行
なわれるが、金属ナトリウム、金属カリウム、水素化ナ
トリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムアルコラート
等のアルカリ金属及び金属化合物の存在下で行なうと好
収量で目的化合物を得ることができる。
本発明によって得られた化合物はいずれも文献未載の新
規化合物であり、且つ顕著な鎮痛作用、抗炎症作用及び
中枢神経抑制作用を有し医薬部として産業上有用な化合
物である。
規化合物であり、且つ顕著な鎮痛作用、抗炎症作用及び
中枢神経抑制作用を有し医薬部として産業上有用な化合
物である。
以下に、そのことを薬理試験において立証する。
試験方法
(1)中枢神経抑制作用試験
被験化合物は0.5%CMC−salineに懸濁し、
dd系雄性マウス(体重16〜24g)に腹腔内投与し
、正向反射の消失を観察した。
dd系雄性マウス(体重16〜24g)に腹腔内投与し
、正向反射の消失を観察した。
正向反射の消失が発現する用量は以下の評価法で示す。
1000■/kg以上 :一
1000〜300mg/kg:±
300〜100m9/kg:+
100〜30mg/kg:++
30〜10 m9/kg:+++
10■/k9以下:++++
(2)抗炎症作用試験
体重100〜150gのウイスター系雄性ラットを1群
5匹として用い、0.5%CMC一salineに溶解
した被験化合物を経口投与した。
5匹として用い、0.5%CMC一salineに溶解
した被験化合物を経口投与した。
経口投与30分後に注射用蒸留水に溶解した0.5%〜
1.0%のカラゲニンを後肢足蹠に皮下注射した。
1.0%のカラゲニンを後肢足蹠に皮下注射した。
カラゲニン投与3時間後、カラゲニン誘発浮腫を溶積法
にて測定し、被験化合物の抑制率を対照群の浮腫率から
算出した。
にて測定し、被験化合物の抑制率を対照群の浮腫率から
算出した。
抑制率の表示は以下の通りである。
抑制率
15%以下
16〜30%:+
31〜45%:十+
46〜60%:+++
60%以上:++++
(3)鎮痛作用試験
被験化合物は0.5%CMC−salineに懸濁し、
dd系雄性マウス(体重18〜20g)に経口投与した
。
dd系雄性マウス(体重18〜20g)に経口投与した
。
投与1時間後、0.6%酢酸溶液を体重10g当り0.
1mとなるように腹腔内投与した。
1mとなるように腹腔内投与した。
苦悶症状(writhing syndrome)を酢
酸溶液投与後10分から30分間観察した。
酸溶液投与後10分から30分間観察した。
そして、50%鎮痛量(ED5o)及びその95%信頼
限界を求めた。
限界を求めた。
以上の各試験結表を表1に示す。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1
2−(m−クロロアニリノ)ニコチン酸エチルエステル
2.8gと乾燥テトラヒド口7ラン25mlの溶液に5
0%水素化ナトリウム0.6.!?を加え室温で30分
間攪拌後、エチルイソチオシアネート1.1gを加え3
時間還流せしめた。
2.8gと乾燥テトラヒド口7ラン25mlの溶液に5
0%水素化ナトリウム0.6.!?を加え室温で30分
間攪拌後、エチルイソチオシアネート1.1gを加え3
時間還流せしめた。
反応後、減圧下溶媒を濃縮しシリカゲルカラムに吸着さ
せクロロホルムで溶出して分離精製し、メタノールより
再結晶して、無色プリズム晶の1−(m−クロロフエニ
ル)−3−エチル−2 −チオ−4−オキソ−1.2,
3.4−テトラヒドロピリド〔2,3−d)]ピリミジ
ン1.9gを得た。
せクロロホルムで溶出して分離精製し、メタノールより
再結晶して、無色プリズム晶の1−(m−クロロフエニ
ル)−3−エチル−2 −チオ−4−オキソ−1.2,
3.4−テトラヒドロピリド〔2,3−d)]ピリミジ
ン1.9gを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 215〜215℃
元素分析値 C15H12ClN30S
理論値 C:56.69 H:3.81 N:13.2
2実測値 C:56.65 H:3.83 N:13.
18実施例2 2−(m−トリフルオロメチルアニリノ)ニコチン酸エ
チルエステル3.1gと乾燥テトラヒド口フラン25m
の溶液にナトリウムアミド0.47gを加え室温で1時
間攪拌後、メチルインチオシアネート0.9gを加え5
時間還流せしめた。
2実測値 C:56.65 H:3.83 N:13.
18実施例2 2−(m−トリフルオロメチルアニリノ)ニコチン酸エ
チルエステル3.1gと乾燥テトラヒド口フラン25m
の溶液にナトリウムアミド0.47gを加え室温で1時
間攪拌後、メチルインチオシアネート0.9gを加え5
時間還流せしめた。
反応後、減圧下溶媒を濃縮しシリカゲル力ラムに吸着さ
せクロロホルムで溶出して分離精製し、メタノールより
再結晶して、淡黄色プリズム晶の1−(m−トリフルオ
口メチルフェニル)−3−メチル−2一チオー4−オキ
ソー1.2,3.4−テトラヒドロピリド(2.3−d
)ピリミジン2.1gを得た。
せクロロホルムで溶出して分離精製し、メタノールより
再結晶して、淡黄色プリズム晶の1−(m−トリフルオ
口メチルフェニル)−3−メチル−2一チオー4−オキ
ソー1.2,3.4−テトラヒドロピリド(2.3−d
)ピリミジン2.1gを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 198〜200℃
元素分析値 C15H1oF3N30S
理論値 C二53.41 H:2.99 N=12.4
6実測値 C:53.38 H:3.04 N:12.
41実施例3 2−(m−ニトロアニリノ)ニコチン酸アリルアミド3
.09と乾燥ジメチルホルムアミド20dの溶液に50
%水素化ナトリウム0.96gを加え室温で30分間攪
拌後、アリルイソチオシアネート2.2gを加え120
℃にて6時間反応せしめた。
6実測値 C:53.38 H:3.04 N:12.
41実施例3 2−(m−ニトロアニリノ)ニコチン酸アリルアミド3
.09と乾燥ジメチルホルムアミド20dの溶液に50
%水素化ナトリウム0.96gを加え室温で30分間攪
拌後、アリルイソチオシアネート2.2gを加え120
℃にて6時間反応せしめた。
反応後、減圧下溶媒を留去し水を加えたのちクロロホル
ムにて抽出した。
ムにて抽出した。
次にクロロホルム層を脱水後減圧下溶媒を濃縮し析出し
た結晶を洲取し、アセトンより再結晶して、淡黄色プリ
ズム晶の1−(m−ニトロフェニル)−3−アリルー2
−チオー4−オキソー1.2,3.4−テトラヒドロビ
リド(2.3−d)ピリミジン1.6gを得た。
た結晶を洲取し、アセトンより再結晶して、淡黄色プリ
ズム晶の1−(m−ニトロフェニル)−3−アリルー2
−チオー4−オキソー1.2,3.4−テトラヒドロビ
リド(2.3−d)ピリミジン1.6gを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 248〜250℃
元素分析値 C16Hl2N403S
理論値 C:56.46 H:3.55 N:16.4
6実測値 C:56.51 H:3.54 N:16.
42実施例4〜62 実施例1〜3の方法に準じて次表の化合物を好収率で得
た。
6実測値 C:56.51 H:3.54 N:16.
42実施例4〜62 実施例1〜3の方法に準じて次表の化合物を好収率で得
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は(1)フエニル基、又ハ(2)ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、二トロ基又
はトリフルオロメチル基で置換されたフエニル基を、X
は低級アルコキシ基又はアミン基を表わす)で表わされ
る化合物に一般式 R2NCS (式中、R2は(1)低級アルキル基、(2)ハロゲン
原子、アルコキシ基、ビニルオキシ基、シクロアルキル
基又はフエニル基で置換された低級アルキル基、(3)
アルケニル基、又は(4)アルキニル基を表わす)で表
わされる化合物を反応させることを特徴とする一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味を有する)で表
わされる新規なピリド(2.3−d)ピリミジンチオン
誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49037552A JPS582952B2 (ja) | 1974-04-01 | 1974-04-01 | シンキナピリド (2 3−d) ピリミジンチオンユウドウタイ ノ セイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49037552A JPS582952B2 (ja) | 1974-04-01 | 1974-04-01 | シンキナピリド (2 3−d) ピリミジンチオンユウドウタイ ノ セイゾウホウ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS50140490A JPS50140490A (ja) | 1975-11-11 |
JPS582952B2 true JPS582952B2 (ja) | 1983-01-19 |
Family
ID=12500674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49037552A Expired JPS582952B2 (ja) | 1974-04-01 | 1974-04-01 | シンキナピリド (2 3−d) ピリミジンチオンユウドウタイ ノ セイゾウホウ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS582952B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59207537A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-24 | 三菱電機株式会社 | コイル |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2334266A1 (de) * | 1972-07-07 | 1974-01-31 | Hisamitsu Pharmaceutical Co | Pyrido eckige klammer auf 2,3-d eckige klammer zu pyrimidin-2,4 (1h, 3h)-dione |
-
1974
- 1974-04-01 JP JP49037552A patent/JPS582952B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2334266A1 (de) * | 1972-07-07 | 1974-01-31 | Hisamitsu Pharmaceutical Co | Pyrido eckige klammer auf 2,3-d eckige klammer zu pyrimidin-2,4 (1h, 3h)-dione |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59207537A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-24 | 三菱電機株式会社 | コイル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS50140490A (ja) | 1975-11-11 |
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