JPS58213863A - 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備 - Google Patents

連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備

Info

Publication number
JPS58213863A
JPS58213863A JP57097010A JP9701082A JPS58213863A JP S58213863 A JPS58213863 A JP S58213863A JP 57097010 A JP57097010 A JP 57097010A JP 9701082 A JP9701082 A JP 9701082A JP S58213863 A JPS58213863 A JP S58213863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sided
double
plating
plating device
hot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57097010A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadao Hirono
廣野 忠夫
Hiroyuki Hakamagi
袴着 弘幸
Shoji Yokoyama
昭二 横山
Shoji Onaka
大中 将司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP57097010A priority Critical patent/JPS58213863A/ja
Publication of JPS58213863A publication Critical patent/JPS58213863A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/34Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
    • C23C2/36Elongated material
    • C23C2/40Plates; Strips
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • C23C2/0035Means for continuously moving substrate through, into or out of the bath
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • C23C2/0038Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • C23C2/0038Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
    • C23C2/004Snouts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 な切換作業で兼用できるようにした溶融亜鉛メッキ装置
に関するものである。
従来よシ片面溶融亜鉛メッキ法に関しては柚々のものが
提案されている。例えば両面メッキ鋼板の片面のメツギ
會強制的に剥離したり、両面メッキを行なう前あらかじ
め片面にメツ−?阻止剤を塗布する方法が知られている
が、このような方法は品質や生産性が劣るという欠点が
ある。
そこで最近では専用の片面溶融亜鉛メッキ設備を準備し
7、銅帯の片面だけにメッキを施す方法が採用されてお
り、そのための装置も撞々提粟されている。その一例と
して噴流ポンプと噴流ノズルVCよって溶融亜鉛のlI
jt流を形成し、鋼帯の片面(下面)のみにその#li
!ll亜鉛@尚會接触メッキするようにした装置が本出
鵬人によって提案されている。
この場合片面溶融亜鉛メッキ専用のラインを建設するこ
とは、膨大な費用が必要であるため、設備の稼動率を高
めるうえからも従来の両面溶融亜鉛メッキ設備に片面メ
ッキ装置を組み込めるようにし、必要に応じて片面、両
面メッキを切換可能とすることが得策である。しかしな
がら、従来の片面メッキ装置は構造的にこのような切換
作業を行なうことがきわめて1川倒である。1だ切換え
に際しては炉内雰囲気を完全にN2カスでパージ置換し
、降温しさらにエーf一でN2カスをパージ置換した後
、炉内ス) IJタッグ抜出し、その後切換えを行ない
、続いてN2ガスでエアーをパージ置換し昇熱し再び通
板するという作業が必要であるため、この切換時間に長
時間を要するといつ欠点がある。
さらに片面メッキ室の圧力を炉条件やメッキ量制御気体
絞りガス条件の変更等に応じて効果的に追従制御出来な
かったため、メッキ室に大気が侵入すゐことがあり、メ
ッキ性不良を生ずるという欠点があった。しかも炉側に
シールロール室に吹込んでいるN.ガスが大量に流れ、
炉内還元性夢囲気バランスを乱し、H2濃度を低下さげ
、そのために鋼板表面が還元されずにメッキ性不良が生
ずる等の欠点もあった。
本発明1まこのような従来の不利欠点を解決するために
検討の精米提案されたものであシ、特に連続解融亜鉛メ
ッキ設備において、両面メッキと片面メッキの製造をメ
ッキ装置の簡単な切換えだけで行なえるようにし、さら
には片面メッキ製造に必要な設備である酸洗設備、ブラ
シ設備及び特殊処理設備は、両面メッキ製造設備と連設
して片面、両面の製造に応じて使用、不使用を簡便に行
ない得るようにした連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メッ
キ装置を提イ1(【一ようとするものである。
以下本発明の置体的実施例を添付図面に従って説明する
。着す第1図は本発明に係る溶融亜鉛メツキラインの配
置図でお91図中1は無酸化炉、2は還元炉、3は徐冷
帯、4は急冷帯、5はターン・ダウンロール部、6はメ
ッキ槽である。前記ターンダウンロール部5は、開閉可
能なシール・フラッパー7と遮断弁8を有してお9、前
記急冷帯4とはシール・フラッパー7を介して接続され
ている。
また遮断弁8はシール・フラッパー7の直後に設けられ
ており、シリンダ9により開閉するように構成されてい
る。
こうしたターンダウンロール部空の出側には気体シール
IQ、IIが2連設けられている。この気体シール10
.11は例えば特開昭52−107207号にて提案さ
れた構成のものが用いられる。また最後尾の気体シール
11には7ランジ12が設けられておplこのフランジ
12に後記する片面メッキ装置−iたは両面メッキ装置
が必要に応じて適宜接続されるものである。
第1図は片面メッキ装置を設置した状態を示しでおシ十
の片面メッキ装置の詳細が第2図、第3図及び彫4図に
示さn、ている。即ち第2図は本発明に係る片i[W1
融亜鉛メッキ装置の平面図、第8図は同じく正面図、第
4図ロ一部切欠側面図である。
図中20は片面メッキ装置を支持するための支持フレー
ムであり、この支持フレーム20は一対の縦ビーム21
 、21aと同じく一対の横ビーム22 、22aとか
ら構成されている。
そして各縦ビーム21 、21aには七れぞれ一対のア
ーA23,23a及び2db 、 23Cが突設されて
お如、各アーム28・・・・・・の端部はメッキ411
160両側部に設けらルた架台24 、24a(他側の
架台は図示せず)の受部25 、25aにピン等により
x脱可能に支持されている。
咳受部25 、2fiaはモータ26と拝承しない昇降
機構によシ昇降口」能となっており、これによシ支持フ
レーム20の全体の高さ調節、傾きv4A節が可能とな
っている。
また図中30はメッキ室となる底部開放型ボックスであ
シ、このボックス30の適当な高さの周凹にはフランジ
31が設けられると共に、前記支持フレーム20の内周
部には適所に舌片32が突設されてお9、前記フランジ
31を該舌片32に載置し、溶接等によp固定せしめる
ことで、ボックス30を支持7レーム20に支持してい
る。
こうしたボックス30の内部には一対の水平ロール33
 、33aが枢着されると共に、上面部にはストリップ
人口34及び気体シール機構となったストリップ出口3
5が設けられておp、前記ストリップ人口34にはフレ
キシブルダクト36が接続されている。
また第4図に示すごとく前記ボックス30の内部には出
側水平ロール33に近接してメッキ付着量調節ノズル3
7が設けら扛ておシ、このノズル37は図示しない装置
によって角度調節、水平方向及び高さ方向の移動調節が
可能となっている。38はこのノズル37にガスを供給
するための配管であシ、フレキシブルチューブ89を介
してノズル87とmiされている。なお、ボックス80
の上面部には不活性ガス供給口40と排気ガス出口41
が設けられ、さらに前鱈己ストリップ出口35の上部に
はガイドロール42が設けられている。
一方、第4図において50で示すものはメッキ浴噴流装
f11を支持するためのフレームである。この支持フレ
ーム50にはメッキ浴噴出ノズル51及びメッキ浴送給
管52が支持されると共に、メッキ浴面より上方に供給
モータ53 、53aが支持され、ている。なお、これ
らメッキ浴噴流装wは本出願人が先に提案した特願昭5
4−67445号、特願昭56−72929号岬と同様
である。
こうしたメッキ浴噴流装置を支持するフレーム50は前
記ボックス80と独立して昇降可能となっている。即ち
第2図及び第4図に示すように、前記縦ビーム21 、
21aにはモータ60 、60aによって同転するウオ
ームギ子装置61 、61a 、 61b 、 61C
が設けられると共に、このウオームギア装置61・・・
・・・によって上下動するロッド62 、62a 、 
62b、62Cが垂設さj7、このロッド62・・・・
・・の下端部に前記支持フレーム50の適所がビン等に
よって結合されている。そして前記モータ60゜60a
k駆動することで、ウオームギア族[61・・・・を介
してロッド62・・・・・・及びこれに吊持される支持
フレーム50を上下方向に動かし、前記メッキ浴噴出ノ
ズル51と鋼ストリップ(S)との間隔を調節するもの
である。
63 、63aは前記モータ60 、60aの回転数を
検知するためのセルシン発信器であり、その回転数を検
知することで噴出ノズル51と鋼ストリップ(S)の間
隔の度合を知ることができる。
他方、第5図及び第6図は前記片面メッキ装置に代えて
使用される両面メッキ装置であり、70はこの両面メッ
キ装置を支持するフレームである。この支持フレーム7
0tj:、上記片面メッキ装置支持用フレーム20のア
ーム23 、2sa 、 23b 、 28cと同じス
パンテ配列された一対の横ビーム71 、71aと、こ
の横ビーム71 、71aに対して直角に配列された一
対の縦ビーム72 、72aから構成されている。そし
て前記横ビーム7 I 、 71aの各端部は上記した
メッキ檜ザイドに設置された架台24 、24aの受部
25 、25aにビン等により着脱可能に支持されるも
のである。
1だ縦ビーム72 、72aには第6図に示すごとくそ
れぞれブラケット73 、73aが垂設されてお)、そ
の下端部にはジンクロール74が枢着されると共に、メ
ッキ浴向付近にはドロス除去用のコーディングロール7
5が枢着されている。さらにまた前記鋼ストリツプ入側
の横ビーA71aには支持金物76を介してスナウト7
7が固定されているが、そのスナウト77の固定位置は
特に図示したものに限定されることはない。本発明では
このスナウト77の上部にフレキシブルダクト78を接
続してもよい。
以上説明した片面メッキ装置及び両面メッキ装置は本発
明の一例を示したものであり細部の構成は本発明の趣旨
にしたがって適宜設計変更し得ることはいうまでもない
一方、本発明では第1図に示すごとく上記した片面メッ
キ装置または両面メッキ装置が取付けられるメッキ槽6
の下流に合金化処理炉80、空冷装置81、水冷装[8
2,82aが設置され、続いて電解酸洗装[83が設置
されている。
本発明における前記電解酸洗装置83は第7図に示すよ
うな構成となっている。即ち同電解酸洗装[88は下段
槽90と上段1191とから成っておシ、下段槽91に
はグリッド92が配設されると共に、側面部には液面調
節装[193が設けられている。この液面調節装置93
としては、例えに調節板98を水密的に昇降可能な構造
としたり、あるいはパルプ構造にするなどその方式は任
意である。
また94は循環ポンプでTop1下段槽9゜内の酸洗液
95梓この循環ポンプ94によって汲上げられ、配管9
6を通って上段槽91のグリッド92の下方にある出口
から供給されている。そしてオーバーフローした液i側
流路97を通って下段槽90に落下せしめている。
本発明で4こうした電解酸洗装置88に続いてリンス装
置1184−ブラッシング装置85−ドライヤ86−テ
ンパーロール装置87−テンションレベラー装fill
BB−化成処理it89−Nllジブラッシング装置8
5a順次連設されているが、これらの装置の具体的構成
抹公知のものでよい。
次に本発明の作用について説明すると、まず片面メッキ
を行なう場合、鋼ストリップ(S)は無酸化炉1−還元
炉2−徐冷帯8−急冷帯4t−通り、ターンダウンロー
ル部5及び気体シール10.Itを通って片面メッキ装
置のボックス80内に搬入される。この際ターンタウン
ロール部5に有するシールフラッパー1は閉となってお
シ、また気体シール10゜11はブロワ−が作動してシ
ール状態となっている。
片面メッキ装置は上述のように支持フレーム20にユニ
ット化されて支持されており、その支持フレーム20は
クレーン等で吊9下けられて各アーム23・・・・・・
が架台24・・・・・・の受台25・・・・・・に支持
されると共に、フレキシブルダクト36の上部フランジ
36aと気体シール11の7ランジ12とが接続され、
かつ付N量調節ガス用配管38不活性ガス供給口40等
が所定の外装配管と接続される。
ボックス30内に入った鋼ストリップ(S)はメッキ浴
の浴面に対して水平に保持されると共に、その鋼ストリ
ップ(S)の下面に噴出ノズル51によってメッキ浴が
衝突接触し、片面(下面)だけにメッキが施される。
その後鋼ストリップ(S)はメッキ付着量調節ノズル3
7によpメッキ付着量が調節されることになるが、本発
明では同刺節ノズル87がボックス80内に設置されて
いる之め、絞り液はメッキ檜内に落下することになる。
ストリップ出口85を通ってボックス30から出た鋼ス
) IJツブ(8)は必要に応じ合金化処理炉80で合
金化された後、空冷装置81及び水冷装置82 、82
gで冷却され、次いで電解酸洗装置f188で非メッキ
面の酸化膜除去が行なわれる。即ち電解酸洗装置83で
は鋼ストリップ(S)の非メッキ面が下向きになってお
p、この鋼ス) IJツブ(8)の下面だけが酸洗液に
接触するように液面綱部装置1193で上段[91の液
面レベルが調節される。そしてグリッド92に所定の電
解電流を通電することにより、上面のメッキ簡側の溶解
を極小におさえて非メツキ向の酸化膜除去が行なわれる
ものである。
こうした電解酸洗処理を終えた鋼ストリップ(S)は次
にリンス装置84で酸洗後の表面が水洗清浄化され、さ
らにブラッシング装置85で活性となった非メッキ面の
二次酸化膜及び残留物が除去される。このブラシは砥粒
入りナイロンブラシで非メッキ面の表面粗さを原板の冷
延鋼板と変えない程度に研削ブラッシングするものであ
る。
その後、鋼ストリップ(S)はドライヤ86を経て両面
メッキと同様にテンパーロール装[87−テンションレ
ベラー1f8B −(t[処理装置89−最終ブラッシ
ング装R85a ヲ通過する。化成処理装置89は、片
面メッキには特殊処理を施し、後述する両面メッキには
クロメート処理を施すことができる兼用設備をMしてい
る。
なお、上記したボックス30内の圧力制御線、不活性ガ
ス供給口40からの不活性ガスの供給、ダンパ等による
排気ガス出口41からの排気量調整、さらには鋼ストリ
ツプ出口35(7)fi体シール、ターンダウンロール
部5の気体シール10.11の圧力調整によって行なわ
れる。
次に」二連した片面メッキを両面メッキに切撓える場合
について説明すると、1ず鋼ストリップC8)を無酸化
炉1よp−F流にある加熱炉(図示せず)の手前で切断
し、炉内の鋼ストリップケ片面メッギ装置外に1で引き
抜く。
次いで遮断弁8ケ閉じて急冷帯4より上流側を遮断した
後、ターンダウンロール部5とボックス30の内部がエ
アー置換される。その後気体シールIIのフランジ12
がらフレキシブルチューブ36のフランジ36aがはず
され、その他の各揮配営が所定の位箇で分離された後、
その片面メッキ装置がクレーン等で吊シ上けられる。か
わって両面メッキ装置がユニット化して支持された支持
フレーム7゜が搬入さ扛、架台24 、24aに設置さ
れた後スナウト77もしくはンンキ7フ゛ルダクト78
と前記気体シール11のフランジ12が接続さ扛る。続
いてb「定の手順に従って切断された鋼ス) IJツブ
(S)が縁続された後、両面メッキが開始されることに
なる。
両面メッキの操業法は従来のそれと同様である。即ち無
酸化炉1−還元炉2−徐冷帯3−急冷帯4を経た鋼スト
リップ(S)はターンダウンロール部5、気体シール1
0.11を通ってメッキ槽6内に浸漬される。この際、
シールフラッパー7は開、気体シールI O。
11はブロワ−停止となっている。
メッキ槽6から出た鋼ストリップ(8) U、図示しな
い両面メッキ用のメッキ付着量調節ノズルで付層量調節
がなされた後、必要に応じて合金化処理炉80で合金化
され、次いで空冷装置81及び水冷装[82,82aで
冷却される。
続いて鋼ス) IJツブ(S)は電解酸洗装置88−リ
ンス装[84−ブラッシング装置85−ドライヤ86を
通過することになるが、電解酸洗装置83では循環ポン
プ94を停止し、液面調節装置93を開いて下段檜90
を空もしくはメッキ浴面が鋼ストリップ(8)のパスラ
インよりも下方になるよう調節しておく。
まタリンス装置t84.ブラッシング装置84及びドラ
イヤ86はその操作スイッチにより運転音停止しておけ
ばよい。
このように、両面メッキの場合、鋼ストリップ(S)は
′lt解酸洗工程を素通pした後、デンバーロール装置
87−テンションレベラー装fi188−化成処理装[
89−厳終ブラッシング装置85aを通過することにな
る。化成処理装置189は上述したごとく、片面・両面
としてそれぞ扛異なった処理液が用いられるが、同一タ
ンクを使用しているので切換えはタンクのブラッシング
だけで短時間(2〜3時間程度)で行なうことができる
以上説明したように本発明によれば、既存の連続溶融亜
鉛メッキ設備を利用して、片面メッキと両面メッキを短
時間の切換え作業で行なうことが可能となp1設備の稼
動率及び生産性が向上する。また片面メッキ時炉条件や
メッキ付着量調節ノズルのガス条件等に応じてボックス
30F3の圧力制御を追従性及び応答性良く行えるため
、そのボックス30内に大気が侵入することなくメッキ
性が良好である等従来にはみられない種々のすぐれた効
果が得られることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は不発明を適用した連続溶融亜鉛メッキ設備の配
置図、第2図、第3図及び第4図はいずれも本発明に係
る片面メッキ装置を示し、第2図は平面図、第3図株正
面図、第4図は一部切欠左側面図である。 また第5図、第6図は本発明に係る両面メッキ装置を示
し、第5図は平面図、第6図は第5図のA−A断面図、
第7図は不発明に係る電解酸洗装置の概略図である。 図中20は片面メッキ装置支持フレーム、30はボック
ス、33 、338は水平ロール、36はフレキシブル
ダクト、37はメツギ付:5ifIk調節ノズル、40
は不活性ガス供給口、41は排気ガス出口、50はメッ
キ浴噴流装置支持フレーム、51株メッキ浴噴v 11 出ノズル、58 、53aはメッキ浴供給モータ、70
ij:両面メッキ装置支持フレーム、74Uジンクロー
ル、77Uスナウ)、83は電解酸洗装置、89は化成
処理装置を各示す。 特許出願人  日本鋼管株式会社 発 明  省   廣   野   忠   大同  
       袴   着   弘   幸同    
     横   山   昭   二同      
   大   中   将   司に) A−

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  片面メッキ装置と両面メッキ装置との兼用を
    可能とした溶融亜鉛メッキ設備であって、片面メッキ装
    置と両面メッキ装置から構成され、片面メッキ装置はメ
    ッキ槽側部の架台に着脱可能に横架可能な支持フレーム
    にユニット化して支持せしめ、かつストリップ人口には
    フレキシブルダクトを設けると共に、両面メッキ装置も
    前記架台に着脱可能に横架可能な別の支持フレームにユ
    ニット化して支持せしめることを特徴とする連続式片面
    ・両面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
  2. (2)  片面メッキ装置が、底部開放のボックスと、
    該ボックスの内部に備えられた一対の水平ロールと、該
    水平ロールによって水平に移送される鋼ストリップの下
    方に位置せしめたメッキ浴噴流ノズルと、前記ボックス
    内の鋼ス) IJツブ出側水平ロールに近接]7て設け
    られたメッキ付着1a14節ノズルとから構成されてい
    ることを特徴とする^1+記第1項記載の連続式片面・
    両面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
  3. (3)噴流ノズル装置がボックスと独立して上下可能と
    なるよう支持フレームに支持されていることを特徴とす
    る前記第2項記載の連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メッ
    キ設備。
  4. (4)  メッキ付潰t*節ノズルが水平方向の移動及
    び角JW調節可能となっている前記第2項記載の連続式
    片面・両面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
  5. (5)  両面メッキ装置がジンクロールとコーティン
    グロールとから構成され、これらが同一の支持フレーム
    に支持されていることを特徴とする前記第1項記載の連
    続式片面・両面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
  6. (6)  片面メッキ装置と両面メッキ装置との兼用を
    可能とした溶融亜鉛メッキ設備であって、片面メッキ装
    置と両面メッキ装置から構成され、片面メッキ装置はメ
    ッキ槽側部の架台に着脱可能に横架可能な支持フレーム
    にユニット化して支持せしめ、かつストリップ入口には
    フレキシブルダクトに設けると共に、両面メッキ装置も
    前記架台に着脱可能に横架可能な別の支持フレームにユ
    ニット化して支持せしめ、嘔らにメツギ楢以降に電解酸
    洗設備及び化成処理設備を設けたことを特徴とする連続
    式片面・両面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
  7. (7)電解酸洗設備が下段槽と上段槽とから構成され、
    上段槽にはグリッドと液面調節装置を設けると共に、下
    段槽の酸洗液を上段槽に循環供給するためのポンプを設
    けたことを特徴とする前記第6項記載の連続式片面・両
    面兼用溶融亜鉛メッキ設備。
JP57097010A 1982-06-08 1982-06-08 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備 Pending JPS58213863A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57097010A JPS58213863A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57097010A JPS58213863A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58213863A true JPS58213863A (ja) 1983-12-12

Family

ID=14180334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57097010A Pending JPS58213863A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58213863A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1988000983A1 (en) * 1986-07-30 1988-02-11 Paul Fontaine Single- or two-sided galvanizing plant
CN115478238A (zh) * 2022-08-29 2022-12-16 上海天阳钢管有限公司 一种光伏焊带加工用涂锡装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5562153A (en) * 1978-11-02 1980-05-10 Nippon Steel Corp Hot dipping unit in two modes

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5562153A (en) * 1978-11-02 1980-05-10 Nippon Steel Corp Hot dipping unit in two modes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1988000983A1 (en) * 1986-07-30 1988-02-11 Paul Fontaine Single- or two-sided galvanizing plant
CN115478238A (zh) * 2022-08-29 2022-12-16 上海天阳钢管有限公司 一种光伏焊带加工用涂锡装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4164454A (en) Continuous line for plating on metal strip material
JP2001323399A (ja) めっき処理装置およびめっき処理方法
US3845540A (en) Hot galvanizing process and apparatus
JPS58213863A (ja) 連続式片面・両面兼用溶融亜鉛メツキ設備
JPH0734209A (ja) 連続溶融めっき方法及びその方法に使用するドロス除去装置
CN115003846A (zh) 用于从用于连续涂覆金属带的线的管道内的液态金属浴的表面移除哑光的装置
US3908593A (en) Continuous galvanizing manifold for tube and the like
US3375805A (en) Combined doctor means
JP2564552B2 (ja) 帯鋼板の酸洗装置
JPH11221496A (ja) スプレー装置
KR20220027542A (ko) 아연도금조의 드로스 제거 장치 및 이를 포함하는 용융아연 도금 설비
JPS6227589A (ja) 金属ストリツプの連続式片面、両面兼用電気めつき装置
JP3490689B2 (ja) 連続溶融金属めっき装置
US3276984A (en) Plating machine
US3278409A (en) Electroplating machine
CN217095076U (zh) 一种不锈钢丝生产过程中的去粉装置
JPH0718491A (ja) 鋼ストリップの電解方法
JP4710619B2 (ja) 錫めっき鋼帯の製造方法および錫めっきセル
JPS6130020B2 (ja)
CN110158006B (zh) 一种用于连退热镀锌双用生产线的最终水冷系统
JP3098891B2 (ja) めっき装置
JPS5996294A (ja) ストリツプの電解表面処理方法
JPS5881960A (ja) 連続溶融亜鉛メツキ設備
JPH0570914A (ja) 連続溶融めつきラインのめつき浴組成切替え方法ならびにその装置
RU1805140C (ru) Агрегат непрерывной электрохимической обработки круглых металлических изделий