JPH11221496A

JPH11221496A - スプレー装置

Info

Publication number: JPH11221496A
Application number: JP31100198A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Otsuka; 和弘大塚
Original assignee: Kawasaki Steel Corp
Current assignee: JFE Steel Corp
Priority date: 1997-11-21
Filing date: 1998-10-30
Publication date: 1999-08-17

Abstract

(57)【要約】【課題】金属ストリップ幅に応じてスプレー幅を調整可
能となっているのにも拘わらず、ノズル設置位置が電気
めっきのセル内又はクロメート処理槽内のような狭い空
間であっても取付けが可能なスプレー装置を提供する。【解決手段】連続的に搬送される金属ストリップ４の幅
方向Ｌに沿って複数のノズル１１を配列し且つスプレー
幅が調整可能なスプレー装置である。幅方向Ｌに沿って
延びる中空体１０を設け、その中空体１０から上記各ノ
ズル１１を上記鋼帯４側に対向させる。さらに、上記中
空体１０内に複数の供給管１２を通し、各供給管１２を
対応するノズル１１に，あるいは複数の組に区分けした
ノズルの組に接続する。また、各供給管１２に流体の供
給・遮断を行う開閉弁１４を設ける。また、各供給管１
２に流体圧調整手段を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、連続的に搬送され
る金属ストリップ表面に水や油などの流体を噴射するス
プレー装置であって、特に、電気めっきのセル内又はク
ロメート処理槽内のような狭い空間であっても設置可能
でかつスプレー幅を金属ストリップの幅の変化に応じて
調整可能なスプレー装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属ストリップの表面処理においては、
一般に、金属ストリップの幅方向に沿って複数のノズル
を配設し、その複数のノズルから金属ストリップの幅方
向全面に水等の流体を噴射してスプレー処理をする。

【０００３】このようなスプレー処理を行う装置として
は、例えば、特開平８−１９７３９８号公報に記載され
ているような、連続電気めっき処理において、ストリッ
プの縁部に生成した粉状の不所望電着物を除去する目的
で、金属ストリップ全幅表面に接触する回転ブラシロー
ルを配置し、さらにその回転ブラシロールの近傍で金属
ストリップ搬送方向下流から水を噴射する電気めっき金
属ストリップの清浄装置がある。

【０００４】また、特開平４−１７６９５号公報に記載
されているような、電解処理によって生じた不純物を溶
解するために、通電ロール上とその上流側の金属ストリ
ップ上に酸またはアルカリ水溶液を散布する表面処理方
法に使用されるスプレー装置がある。

【０００５】しかし、上述の装置では、処理する金属ス
トリップの最大幅に流体のスプレー幅を固定して設置し
ているため、上記最大幅より狭い金属ストリップの処置
の際には、余剰流体が発生し溶液の無駄が生じる。特
に、連続電気めっき処理においては、めっき槽中の水を
吹き付ける場合に、ストリップ幅を越えて吹き付けると
槽内のめっき液濃度が大きく変化し、めっき製品の品質
が劣化する原因となる。さらには、噴射したスプレー液
が裏側の非スプレー面に回り込み品質不良の原因となっ
たりするなどの問題がある。

【０００６】これに対処可能な従来のスプレー装置とし
ては、例えば，特公平３−６７４４６号公報に記載され
ているような、金属ストリップの幅に応じてスプレー幅
を調整可能としたものがある。この公報に記載のスプレ
ー装置のうち第１の装置は、図１０（ａ）に示すよう
に、複数のノズル５０を中央のグループ、その外側のグ
ループ、及び最外側のグループの３系統に分類すること
で、ノズル設置位置に対し５つのヘッダ５１を幅方向に
並べて構成され、各系統毎に流体の供給・遮断を行うこ
とで噴出幅を可変とするものである。

【０００７】第２の装置は、図１０（ｂ）に示すよう
に、ノズル設置位置に内部に流体が供給されるヘッダ５
１を設けて、そのヘッダ５１から複数のノズル５０を突
設させると共に、その突設するノズル５０自身に、個別
に開閉弁５２を介装することで、スプレー幅を可変とす
るものである。

【０００８】第３の装置は、図１０（ｃ）に示すよう
に、上記第２の装置とほぼ同じ構成であるが、ヘッダ５
１自体を幅方向に沿って変位できるようにして、更にス
プレー幅位置の微調整を可能としたものである。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
装置にあっては、電気めっきのセル内のような狭い空間
にノズル５０を配置する際に不利となる。すなわち、上
記第１の装置では、狭い空間に複数のヘッダ５１を個々
に配置する必要があり、その設置作業も手間が掛かる
し、その各ヘッダ５１に流体を供給する複数の供給管に
ついても他の設備と干渉しないように個々にレイアウト
等を考える必要がある。

【００１０】また、上記第２の装置や第３の装置では、
供給管は、ヘッダ５１に接続した１本で済むものの、各
ノズル５０単位に開閉弁５２を必要とする。つまり、ノ
ズル設置位置の空間に対して調整幅に応じた複数の開閉
弁５２及びその開閉弁５２に指令を供給するリード線等
を配置する必要がある。

【００１１】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、金属ストリップ幅に応じてスプレー幅
を調整可能とし、かつ、ノズル設置位置が電気めっきの
セル内又はクロメート処理槽内のような狭い空間であっ
ても取付けが可能なスプレー装置を提供することを課題
としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のうち請求項１に記載したスプレー装置は、
連続的に搬送される金属ストリップの幅方向に沿って複
数のノズルを有し、且つスプレー幅が調整可能なスプレ
ー装置において、上記金属ストリップの幅方向に沿って
延びる中空体を設け、その中空体に上記各ノズルを上記
金属ストリップ側に対向するように設置し、且つ、これ
ら各ノズルにあるいは複数の組に区分けされたノズルの
各組に、流体を供給する供給管を上記中空体内を通じて
接続すると共に、その各供給管には流体の供給・遮断を
行う開閉弁を設けたことを特徴とするものである。

【００１３】本発明によれば、ノズル設置位置には、複
数の供給管の集合体が１本の中空体に収められた状態で
配置される。つまり、各供給管が中空体で保護され且つ
支持されているために、個々の供給管の取合いを考慮す
ることなく、１本の中空体の配置だけを考慮すればよ
い。

【００１４】次に、請求項２に記載した発明は、請求項
１に記載した構成に対し、上記各供給管に流体圧調整手
段を設けたことを特徴とするものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。ここで、本願発明は、鋼帯、Ａ
ｌストリップ、しんちゅうストリップなどの金属ストリ
ップの表面処理をする際に適用できるが、以下の説明で
は金属ストリップとして鋼帯を例にとり、また、スプレ
ー装置の設置例として電気めっき処理設備を挙げて説明
する。

【００１６】図１は、その電気めっき処理設備の概略構
成図であり、図２は、一部のスプレー装置におけるノズ
ル設置位置での概略図である。電気めっき処理設備は、
処理液１を溜めた処理槽２と、通電ロール３とを備え
る。設備に搬送されてきた鋼帯４は、入側のデフレクタ
ロール５によって搬送方向を下方に変更されて処理槽２
に向けて搬送され、続いて上記通電ロール３に巻き付い
て搬送方向を上方に方向転換し、さらに出側のデフレク
タロール６を通じて後工程に送られる。そして、鋼帯４
は、通電ロール３に巻き付いている間に通電され、さら
に処理液１に浸漬されてめっき液に接し、処理液１中に
設置された電極との間の電解反応によりめっきが施され
る。

【００１７】ここで、上記前記鋼帯４は、熱延鋼帯、冷
延鋼帯、表面処理鋼帯（電気亜鉛めっき鋼帯、電気亜鉛
系合金めっき鋼帯、溶融亜鉛めっき鋼帯、溶融亜鉛−Ａ
ｌめつき鋼帯、溶融Ａｌめつき鋼帯、合金化溶融亜鉛め
っき鋼帯など）など、鋼帯であればなんでも良く、特に
限定しない。

【００１８】そして、通電ロール３における入側および
出側にそれぞれスプレー装置７，８が配置されて、鋼帯
４に対してスプレー処理を行う。また、通電ロール３に
対する上面に対向させてスプレー装置９が配置されて、
スプレー処理を行う。この各スプレー装置７，８，９の
ノズル１１の配置位置は、図１に示されるように、処理
槽２に収容された処理液１の上側で、比較的に狭い空間
である。

【００１９】上記スプレー装置７，８の構成について説
明すると、図３に示すように、鋼帯４の幅方向Ｌに沿っ
て例えば円筒体１０（中空体）が延在し、その中空体の
鋼帯４に対向する壁面から複数のノズル１１が上記鋼帯
４に向けて突設している。前記各ノズル１１に流体を供
給する各供給管１２は、それぞれ対応するノズル１１に
接続している。その供給管１２には、それぞれ電磁開閉
弁１４が介装されている。

【００２０】ここで、開閉弁１４はノズル設置位置と離
隔されていることが好ましい。つまり、スプレー幅の調
整のための開閉弁１４による各ノズル１１への流体の供
給及び遮断は、ノズル設置位置から離れたところで行う
ことにより、スプレー幅調整のための開閉弁１４及びそ
の開閉弁用のリード線等を、ノズル設置位置に配置する
必要がない。

【００２１】この結果、ノズル設置位置では、スプレー
幅の調整が不能な１本のヘッダを配置したのと同程度の
簡易な構成となる。また、ノズル設置位置においては、
各供給管１２が中空体１０によって保護されて他の設備
との干渉を考慮しなくてよいので、各供給管１２を、従
来よりも小径に設定したりすることが可能である。この
ため、さらに中空体１０の断面積を小さくすることがで
き、スプレー装置７，８が占有する空間を小さく設定で
きる。

【００２２】さらに、各供給管１２には、それぞれ流体
圧調整手段が設けられていることが好ましい。また、上
記流体圧調整手段はノズル設置位置と離隔されているこ
とが好ましい。流体圧調整手段とは、後述のように圧力
計１５により流体圧を測定して、その測定圧をコントロ
ーラ１６に供給し、圧力調整弁１３によりコントローラ
１６からの指令に応じて対応する供給管１２の流体圧を
調整する等の手段である。

【００２３】これにより、各ノズル１１から噴出する流
体の圧力を調整可能となる。さらに、その流体圧調整手
段もノズル設置位置から離隔された供給管１２の位置に
設けられることが好ましく、ノズル設置位置に配置する
必要がなくなる。さらに、上記複数のノズル１１は、複
数の組に区分けされ、その組単位に上記中空体１０内に
供給管１２を配置する。

【００２４】これにより、組単位に供給管１２を配置す
ることで、中空体１０内に配置される供給管１２の数が
抑えられて中空体１０内の断面積を小さく、つまりノズ
ル設置位置でのスプレー装置７，８が占有する空間を小
さく設定可能となる。また、組単位にノズル１１を介し
た流体の供給制御が可能となる。

【００２５】さらに好ましくは、上記ノズル１１の組
は、上記鋼帯４の幅方向で対称の位置にあるノズル１１
同士で組を成すことが好ましい。これによれば、鋼帯４
の幅の変更に応じて、一つの開閉弁１４で対称に位置す
るノズル１１による噴射の有無の制御が同期をとって調
整できるようになる。

【００２６】前記複数のノズル１１は、幅方向Ｌに所定
ピッチで配列していると共に、幅方向Ｌ中央部の５つの
ノズル１１ａで一つの組を構成し、他のノズル１１につ
いては、幅方向Ｌで対称位置にあるノズル１１同士がそ
れぞれ組を構成している。ここで、上記ノズル１１の列
は、搬送される鋼帯４の最大幅に対応可能な長さ及びノ
ズル数に設定されている。また、ノズル配置のピッチは
必ずしも一定にする必要はなく、例えば、両端部では、
左右両端に向けて徐々にピッチが小さくなるように設定
して、スプレー幅の調整のピッチが小さくなるように設
定してもよい。

【００２７】上記各ノズル１１に流体を供給する各供給
管１２は、上記組単位で上記円筒体１０内に配置され、
それぞれ対応するノズル１１に接続している。その各供
給管１２には、それぞれ、ノズル設置空間に設けられた
円筒体１０から離れた位置に、電磁開閉弁１４、圧力調
整弁１３、及び圧力計１５が介装されている。上記各電
磁開閉弁１４は、コントローラ１６からの指令に応じて
開閉し対応する供給管１２での流体の供給・遮断を行
う。また、上記各圧力調整弁１３は、コントローラ１６
からの指令に応じて対応する供給管１２での流体圧の調
整を行う。また、各圧力調整弁１３は、対応する供給管
１２での流体圧を測定してその測定圧をコントローラ１
６に供給するものである。

【００２８】上記複数の供給管１２は、供給管本体１７
に接続し、その供給管本体１７を通じて流体が供給され
るようになっている。図３中、符号１８は流体を収納し
たタンクを、符号１９は流体を圧送するポンプを、符号
２０は電磁開閉弁をそれぞれ示している。

【００２９】ここで、上記タンク１８に収納されてスプ
レー処理に使用される流体は、酸、アルカリ、水などの
水溶液あるいは有機溶剤、水、可塑剤を溶媒とした塗料
など、適用する設備に応じて決められるが、本発明との
関係では特に限定されるものではない。

【００３０】コントローラ１６は、不図示の前工程から
供給された鋼帯４の板幅情報に基づいて、ノズル１１と
対向する鋼帯４の板幅を推定して、鋼帯４と対向しない
ノズル１１に接続する供給管１２の電磁開閉弁１４に閉
信号を供給し、鋼帯４と対向するノズル１１に接続する
供給管１２の電磁開閉弁１４に開信号を供給する。

【００３１】ここで、上記鋼帯４の板幅情報は、例えば
板幅計で測定されたものである。また、コントローラ１
６には、電気めっき処理の品種別にテーブルをもってお
り、例えば板幅計で測定した板幅情報と共に品種情報を
作業者が与えると、コントローラ１６は、その情報に基
づいて電磁開閉弁１４が開状態の供給管１２の圧力調整
弁１３の開度を調整して、各ノズル１１でのスプレー圧
を調整を行う。

【００３２】例えば、めっき処理の種類によっては、全
てのノズルが同じ圧力となるように調整し、使用ノズル
個数が変化しても圧力は全て同じとする。また、スプレ
ー装置７，８は品種情報によってそれぞれ別のスプレー
処理条件のテーブルを使用して制御することになる。ま
た、めっき処理種類によっては、幅方向端部の圧力を強
くするというスプレー処理条件が設定されたテーブルを
コントローラが有しており、この条件に従い、幅方向端
部が中央部より強くなされる。この場合、ノズル配置の
ピッチを端部が小さくなるように配置されるとさらに効
果的である。

【００３３】また、図１中、符号９のスプレー装置は、
通電ロール３に付着した不所望電着物等を除去するため
のもので、その構造は、図３に示す構成となっていて、
スプレー装置７，８と同様な構成である。次に、上記ス
プレー装置７，８を備えためっき処理設備の作用等につ
いて説明する。

【００３４】連続して搬送される鋼帯４は、入側のスプ
レー装置７によって表面の前処理が行われた後に、通電
ロール３に巻き付き通電され、処理液１に接しめっき処
理が行われ、続けて、出側のスプレー装置８によるスプ
レー処理によって後処理等が行われる。

【００３５】このとき、スプレー装置７，８によるスプ
レー処理においては、鋼帯４の板幅に応じて鋼帯４と対
向しないノズル１１ｂからの流体の噴射が停止される。
例えば、幅方向Ｌ最外端部の両ノズル１１ｂが鋼帯４と
対向しない場合には、そのノズル１１の組に接続する鋼
帯４の供給管１２の開閉弁１４を閉状態とする。

【００３６】これによって、鋼帯４の板幅と同じ幅のス
プレー幅でスプレ−処理が可能となる。さらに、噴射状
態のノズル１１においては、各スプレー圧を調節するこ
とにより、鋼帯４の幅方向Ｌで均一に或いは所定のスプ
レー圧でのスプレー処理が可能となり、幅方向Ｌに均一
な品質の鋼帯４を得ることができる。

【００３７】すなわち、スプレー液の回り込みによる
非スプレー面の外観・品質不良が防止され、無駄な流
体の噴射が抑えられることで流体液のコスト上，有利と
なり、処理液１に混入するスプレー液が必要最小限に
抑えられて、処理液１に対する処理が低減すると共にめ
っき処理後の品質への影響を小さく抑える、等のことが
達成される。

【００３８】ここで、処理する鋼帯４に対向しない部分
のノズル１１は閉じなければならないが、鋼帯４に対向
するノズル１１であっても、予定するスプレー処理が可
能であれば、全てを開状態（噴射状態）とする必要はな
く、例えば、鋼帯４中央部のノズル１１ａを閉とするよ
うに上記電磁開閉弁１４を制御してもよい。

【００３９】また、本発明においては、各ノズル１１の
開閉を制御しつつ各ノズル１１のスプレー圧を調整して
いるが、開状態のノズル１１のスプレ−圧を個々に調整
することによって、例えば、鋼帯４中央部のノズル１１
での一部を閉とした場合の圧力不足は開状態のノズル１
１のスプレ―圧を上昇させることによって防止できる。
また、鋼帯４幅最端部のノズル１１のスプレー圧を低下
させることによって、非スプレー面へのスプレー液の回
り込みをさらに有効に防止できる。

【００４０】さらに、本実施形態のスプレー装置７，８
では、上述のようにスプレー幅が鋼帯４幅に応じて調整
可能であるにも拘らず、ノズル設置位置には、従来のス
プレー幅調整が不能なヘッダと同程度の円筒体１０が配
置されるだけであるので、電気めっきのセル内又はクロ
メート処理槽内のような狭い空間にノズル１１を配置す
る場合であっても容易に取り付けることが可能となる。

【００４１】しかも、各ノズル１１に流体を供給する各
供給管１２は円筒体１０に保護及び支持されるので、ノ
ズル設置位置では、各供給管１２を従来よりも小径にし
たり、鋼管の替わりに高圧ゴム管等を直接配置したりす
ることが可能となる。ここで、上記説明では、複数のノ
ズル１１を複数の組に区分けした例で説明しているが、
組を構成しなくてもよい。この場合には、各ノズル毎に
１本の供給管１２を設ける。

【００４２】また、複数のノズル１１を、中央部を除
き、幅方向Ｌで対称にある左右の１本ずつで組を構成し
ているが、これに限定されるものではない。例えば、図
４に示すように、幅方向Ｌで対称に４本以上で組を構成
するように設定してもよい。さらに、ノズル１１の組構
成は上記組み合わせに限定されず、図５に示すように、
幅方向Ｌで対称な位置にない、隣合うノズル１１同士で
組を構成させるようにしてもよい。

【００４３】また、上記説明では、中空体として円筒体
１０を例に説明しているが、断面円形の中空体に限定さ
れるわけではなく、矩形などの断面形状を有する中空体
であってもよい。要は、ノズル１１を支持し且つそのノ
ズル１１に接続する供給管１２を内部に配置できればよ
い。

【００４４】また、上記円筒体１０（中空体）を幅方向
Ｌに変位させる変位機構を設けてノズル１１群の位置の
微調整を可能としてもよい。また、ノズル配置の異なる
円筒体を複数個，用意しておき、処理する鋼帯に応じて
交換してもよい。

【００４５】また、中央部のノズル１１ａでは確実に流
体を噴射するので、その供給管に設けられる電磁開閉弁
１４ａは省略してもよい。

【００４６】

【実施例】（実施例１）実際に、図１及び図２に示す電
気めっき設備を用い、幅の異なる冷延鋼帯をめっき処理
する際に、処理液１としてＺｎＣｌ₂とＫＣｌからなる
めっき液を使用して、入側スプレー装置７として図３に
示す構成のスプレー装置を使用して、めっき液を流体と
してスプレー処理を行った。

【００４７】このとき、コントローラが有する，各鋼帯
幅に応じたスプレー処理条件が設定されたテーブルの条
件に従い、スプレー処理をした。ノズル構成は、図６に
示すように、最大スプレー幅Ｗｓは１８００mm、ノズル
１１のピッチＮｓは１５０mmに設定した。中空体１０と
して５０mmφの塩化ビニル系樹脂管を、供給管１２とし
て６mmφのテフロンチューブを用いた。また、電磁開閉
弁１４及び圧力調整弁１３は中空体１０から隔離し、め
っき設備の操作側に設置した。また、図６中符号Ａ₁〜
Ａ₁₃をノズル番号とすると、幅１２００mmの場合には、
（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ₁₂）の電磁開閉弁１４は閉と
なるように制御した。また、（Ａ₃とＡ ₁₁）と中央部
（Ａ₄〜Ａ₁₀）は、スプレー圧を一定の条件で調整し
た。

【００４８】比較例として、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ
₁₂）（Ａ₃とＡ₁₁）の３対および中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）
の電磁開閉弁１４および圧力調整弁１３は全く制御せ
ず、また、スプレーめっき液の供給側の電磁開閉弁１４
を開として処理した。そして、鋼帯スプレー処理面から
裏面へのめっき液スプレーの回り込みを、当該裏面にお
ける幅両端部の各変色部分をそれぞれ測定して評価し
た。

【００４９】結果を図７に示す。この図７から分かるよ
うに、発明に基づく実施例では、全ての鋼帯幅条件で変
色部分の幅が５mm以内であり、良好な品質が得られ、ま
た、幅両端での変色域の幅に差が無かった。また、本実
施例では、外観不良は全く発生しなかった。

【００５０】一方、比較例では、鋼帯幅が小さい程、裏
面の変色域が広く、実施例と比べて外観不良が多く発生
した。さらに、幅両端での変色域の差も大きかった。（実施例２）同様に、図１及び図２に示す電気めっき設
備を用い、幅１２００mmの冷延鋼帯をめっき処理する
際、処理液１としてＺｎＣｌ₂とＫＣｌからなるめっき
液を使用して、出側スプレー装置８として図３に示す構
成のスプレー装置を使用して、希塩酸を流体としてスプ
レー処理を行った。

【００５１】このとき、ノズル構成は、図６に示すよう
に、最大スプレー幅Ｗｓは１８００mm、ノズル１１のピ
ッチＮｓは１５０mmに設定した。中空体１０として５０
mmφの塩化ビニル系樹脂管を、供給管１２として６mmφ
のテフロンチューブを用いた。また、電磁開閉弁１４及
び圧力調整弁１３は中空体１０から隔離し、めっき設備
の操作側に設置した。また、図６中符号Ａ₁〜Ａ₁₃をノ
ズル番号とすると、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ₁₂）の電
磁開閉弁１４は閉となるように制御した。また、（Ａ₃
とＡ₁₁）と中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）は、スプレー圧を一定
の条件で調整した。

【００５２】比較例として、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ
₁₂）（Ａ₃とＡ₁₁）の３対および中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）
の電磁開閉弁１４および圧力調整弁１３は全く制御せ
ず、また、希塩酸の供給側の電磁開閉弁１４を開として
処理した。この結果、比較例においては、実施例に比較
し希塩酸スプレー液によるめっき槽中めっき液の濃度変
化（希釈）が著しく、めっき液を濃縮するためのエバポ
レーターに使用する蒸気およびスプレ−用塩酸の使用量
が過大であった。

【００５３】表１に比較結果を示す。

【００５４】

【表１】（実施例３）同様に、図１及び図２に示す電気めっき設
備を用い、幅１２００mmの冷延鋼帯をめっき処理する
際、処理液１としてＺｎＣｌ₂とＫＣｌからなるめっき
液を使用して、スプレー装置９として図３に示す構成の
スプレー装置を使用し、水（イオン交換水）を流体とし
てスプレー処理を行った。

【００５５】このとき、ノズル構成は、図６に示すよう
に、最大スプレー幅Ｗｓは１８００mm、ノズル１１のピ
ッチＮｓは１５０mmに設定した。中空体１０として５０
mmφの塩化ビニル系樹脂管を、供給管１２として６mmφ
のテフロンチューブを用いた。また、電磁開閉弁１４、
圧力調整弁１３は中空体１０から隔離し、めっき設備の
操作側に設置した。また、図６中Ａ₁〜Ａ₁₃をノズル番
号とすると、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ₁₂）の電磁開閉
弁１４は閉となるように制御した。また、（Ａ ₃と
Ａ₁₁）と中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）は、スプレー圧を一定の
条件で調整した。

【００５６】比較例として、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ
₁₂）（Ａ₃とＡ₁₁）の３対および中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）
の電磁開閉弁１４および圧力調整弁１３は全く制御せ
ず、また、水の供給側の電磁開閉弁１４を開として処理
した。図８にめっき液の濃度変化を示す。

【００５７】この結果、比較例においては、実施例に比
較し余剰のスプレー水による濃度変化（希釈）が著し
く、めっき液濃度が安定しなかった。従って、めっき液
を濃縮するためのエバポレーターに使用する蒸気および
スプレ−用水の使用量が過大であった。

【００５８】（実施例４）図９に示すクロメート処理設
備を用い、幅１５００mmの亜鉛メッキ鋼帯にクロメート
処理する際、処理液としてＣｒ−フッ化物−リン酸を含
有する反応型クロメート液を使用して、スプレー装置２
１として図３に示す構成のスプレー装置を使用してクロ
メート液を流体としてスプレー処理を行った。図９中の
符号２２は、クロメート処理槽を表す。

【００５９】このとき、コントローラが有する，各鋼帯
幅に応じたスプレー処理条件が設定されたテーブルの条
件に従い、スプレー処理をした。ノズル構成は、図６に
示すように、最大スプレー幅Ｗｓは１８００mm、ノズル
１１のピッチＮｓは１５０mmに設定した。中空体１０と
して５０mmφの塩化ビニル系樹脂管を、供給管１２とし
て６mmφのテフロンチューブを用いた。また、電磁開閉
弁１４、圧力調整弁１３は中空体１０から隔離し、クロ
メート処理設備の操作側に設置した。また、図６中Ａ₁
〜Ａ₁₃をノズル番号とする。（Ａ₁とＡ₁₃）の電磁開閉
弁１４は閉となるように制御した。また、（Ａ₂と
Ａ₁₂）（Ａ₃とＡ₁₁）と中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）は、スプ
レー圧を一定の条件で調整した。

【００６０】比較例として、（Ａ₁とＡ₁₃）（Ａ₂とＡ
₁₂）（Ａ₃とＡ₁₁）の３対および中央部（Ａ₄〜Ａ₁₀）
の電磁開閉弁１４および圧力調整弁１３は全く制御せ
ず、また、スプレー液の供給側の電磁開閉弁１４を開と
して処理した。この結果、比較例においては、クロメー
ト液スプレーの回り込みにより、裏面の端部に変色域が
過大に存在し、外観不良の不具合が発生した。

【００６１】また、本発明例では、外観不良が極めて少
なかった。

【００６２】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明のスプ
レー装置を採用すると、ノズル設置位置には、供給管の
集合体が１本の中空体に収められた状態で配置されるだ
けであるので、金属ストリップの幅に応じてスプレー幅
が調整でき、且つ、その占有空間が小さくすることが可
能となり、電気めっきのセル内又はクロメート処理槽内
のような狭い空間であっても余裕を持って設置すること
ができるという効果がある。

【００６３】しかも、中空体をノズル設置位置に取り付
けるだけでいいので、設置作業も容易である。また、ノ
ズル設置位置においては、各供給管が中空体によって保
護されて他の設備との干渉を考慮しなくてよいので、各
供給管を従来よりも小径に設定したり、各供給管に圧力
ゴム管等を直接使用したりすることが可能である。

【００６４】このとき、請求項２に記載の発明を採用す
ると、スプレー圧も調整可能となって、きめ細かなスプ
レー処理が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る電気めっき処理設備
の構成を示す概要図である。

【図２】本発明の実施の形態に係るスプレー装置におけ
るノズル設置位置での概要図である。

【図３】本発明の実施の形態に係るスプレー装置の構成
を示す図である。

【図４】本発明の実施の形態に係るノズルの組の別の例
を説明するための図である。

【図５】本発明の実施の形態に係るノズルの組の別の例
を説明するための図である。

【図６】実施例におけるスプレー装置を説明するための
図である。

【図７】実施例及び比較例における鋼帯幅とスプレー液
回り込みによる裏面の変色幅を示す図である。

【図８】実施例及び比較例におけるスプレー水によるめ
っき液濃度変化を示す図である。

【図９】本発明の実施例におけるクロメート処理槽及び
スプレー装置の関係を示す概略図である。

【図１０】従来のスプレー装置におけるノズル設置位置
での構成を示す図であり、（ａ）が第１の装置を、
（ｂ）が第２の装置を、（ｃ）が第３の装置をそれぞれ
示している。

【符号の説明】

１処理液２処理槽３通電ロール４鋼帯７，８，９，２１スプレー装置１０円筒体（中空体）１１ノズル１２供給管１３圧力調整弁１４，２０電磁開閉弁１５圧力計１６コントローラ１７供給管本体１８タンク１９ポンプ２２クロメート処理槽

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続的に搬送される金属ストリップの幅
方向に沿って複数のノズルを有し、且つスプレー幅が調
整可能なスプレー装置において、上記金属ストリップの幅方向に沿って延びる中空体を設
け、その中空体に上記各ノズルを上記金属ストリップ側
に対向するように設置し、且つ、これら各ノズルにある
いは複数の組に区分けされたノズルの各組に、流体を供
給する供給管を上記中空体内を通じて接続すると共に、
その各供給管には流体の供給・遮断を行う開閉弁を設け
たことを特徴とするスプレー装置。
【請求項２】上記各供給管に流体圧調整手段を設けた
ことを特徴とする請求項１に記載のスプレー装置。