JPS58187276A - 電子ビ−ム溶接方法 - Google Patents
電子ビ−ム溶接方法Info
- Publication number
- JPS58187276A JPS58187276A JP6930682A JP6930682A JPS58187276A JP S58187276 A JPS58187276 A JP S58187276A JP 6930682 A JP6930682 A JP 6930682A JP 6930682 A JP6930682 A JP 6930682A JP S58187276 A JPS58187276 A JP S58187276A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- welding
- welded
- electronic beam
- vacuum
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
- B23K15/0046—Welding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、電子ビームの通路および溶接部近傍を真空
に保って溶接を行なう真空式の電子ビーム溶接方法に関
し、開先部内部を高真空に保ち、安価に溶接できること
を目的とする。
に保って溶接を行なう真空式の電子ビーム溶接方法に関
し、開先部内部を高真空に保ち、安価に溶接できること
を目的とする。
一般に、電子ビーム溶接方法において、電子ビームの通
路は電子の散乱を防止するため高真空にゝ維持する必要
がある。したがって通常は、第１図に示すように、被溶
接物（υを真空室（２〕の中に入れ。
路は電子の散乱を防止するため高真空にゝ維持する必要
がある。したがって通常は、第１図に示すように、被溶
接物（υを真空室（２〕の中に入れ。
排気ポンプ（３）により真空室（２）を真空にし、電子
銃（４）からの電子ビーム（５）により溶接を行なって
いる。
銃（４）からの電子ビーム（５）により溶接を行なって
いる。
しかし、この全真空形電子ビーム密接力演の場合、被溶
接物ｔ１）がきわめて大きなものでは、被溶煮物（υを
収納する真空室（２）が巨大となる。
接物ｔ１）がきわめて大きなものでは、被溶煮物（υを
収納する真空室（２）が巨大となる。
そこで、第２図に示すような局部真空形電子ビーム溶接
力演が実用化されている。この力演は。
力演が実用化されている。この力演は。
電子銃（４）からの電子ビーム（５）の通路および溶接
部近傍と開先線のみを、下面が開口した遮蔽体（６）に
より覆い、遮蔽体（６）の内部を真イと排気して電子ビ
ーム溶接を行なうものである。この場合に問題となるの
は、遮蔽体（６）と被溶接吻（υの接触部における真空
維持力法および開先部の真空シール力法である。
部近傍と開先線のみを、下面が開口した遮蔽体（６）に
より覆い、遮蔽体（６）の内部を真イと排気して電子ビ
ーム溶接を行なうものである。この場合に問題となるの
は、遮蔽体（６）と被溶接吻（υの接触部における真空
維持力法および開先部の真空シール力法である。
たとえば、第３図に示すように″、２個の平桧状の被溶
接物（υを突合わせて電子ビーム溶接する場合、溶接線
（７）に清い電子銃（４）または被溶接物（１）のいず
れかが溶接の進行とともにスライドしていく必要があり
、この場合、電子銃（４）の遮Ｖｉ、体１６１と被溶接
物（１）がスライドするため、溶接部近傍を高度の真空
に維持することがきわめて困離である。
接物（υを突合わせて電子ビーム溶接する場合、溶接線
（７）に清い電子銃（４）または被溶接物（１）のいず
れかが溶接の進行とともにスライドしていく必要があり
、この場合、電子銃（４）の遮Ｖｉ、体１６１と被溶接
物（１）がスライドするため、溶接部近傍を高度の真空
に維持することがきわめて困離である。
そこで、第４図に示すように、溶接線（７）の溶接１４
１Ｘの両側にそれぞれあらかじめテープ（８）をはりつ
けておき、電子銃（４）の下部に２個のロール（９′）
を並設するとともに、電子銃（４）の両側にそねそれテ
ープリールａ３を設け、電子銃（４）または被溶接物（
υの移動にしたがい、−力のテープ（８）を−力のロー
ル（９）を介して一力のり−ルｄＱに巻成るとともに、
他力のリールｔｌｃｌから他力のロール（９）を介して
他力のテープ（８）をくり出す。しかしこの場合、テー
プ（８）のシール範囲が限られており、溶接線（７）が
非常に長くなり、真空シール機構の及ば々いところでは
、溶接線（７）から空気が侵入し、電子ビーム溶接部近
傍の真空度を低下させ、かつ構造が複雑である。
１Ｘの両側にそれぞれあらかじめテープ（８）をはりつ
けておき、電子銃（４）の下部に２個のロール（９′）
を並設するとともに、電子銃（４）の両側にそねそれテ
ープリールａ３を設け、電子銃（４）または被溶接物（
υの移動にしたがい、−力のテープ（８）を−力のロー
ル（９）を介して一力のり−ルｄＱに巻成るとともに、
他力のリールｔｌｃｌから他力のロール（９）を介して
他力のテープ（８）をくり出す。しかしこの場合、テー
プ（８）のシール範囲が限られており、溶接線（７）が
非常に長くなり、真空シール機構の及ば々いところでは
、溶接線（７）から空気が侵入し、電子ビーム溶接部近
傍の真空度を低下させ、かつ構造が複雑である。
この発明は、前記の諸問題を簡便に解決するものであり
、電子ビームの通路および溶接部近傍を東学に１米って
溶接を行なう真空式の電子ビーム溶接方法において、被
溶接物の開先部をあらかじめシール溶接し、開先部内部
を排気して高真空に保ち電子ビーム溶接を行なうことを
特徴とする電子ビーム浴接υ法を提供するものである。
、電子ビームの通路および溶接部近傍を東学に１米って
溶接を行なう真空式の電子ビーム溶接方法において、被
溶接物の開先部をあらかじめシール溶接し、開先部内部
を排気して高真空に保ち電子ビーム溶接を行なうことを
特徴とする電子ビーム浴接υ法を提供するものである。
したがって、被溶接物の開先部があらかじめシール溶接
され、開先部内部が高へ空に維持されているため、外気
が侵入して真空度を低下させることが完全に防止され、
かつ、あらかじめ行なうシール溶接手段もきわめて簡単
であり、安価に電子ビーム溶接を行なうことができる。
され、開先部内部が高へ空に維持されているため、外気
が侵入して真空度を低下させることが完全に防止され、
かつ、あらかじめ行なうシール溶接手段もきわめて簡単
であり、安価に電子ビーム溶接を行なうことができる。
つき゛にこの発明をそのｌ実施例を示した第５図以下の
図面とともに詳細に説明する。
図面とともに詳細に説明する。
第５図および第６図に示すように、まず、被溶接物（υ
の溶接線の表面、裏面９両端面全ての浴接部を、手溶接
、ＭＩＧ溶接、’１”ｌＧ溶接、ＳＡＷ溶接等通常の溶
接方法によりソール溶接（１１）を行なう。また、第７
図に示すように、被溶接物（υの裏面に裏当て板（１２
１を用いる場合は、裏当てＭ Ｌ１２１と被溶接物（υ
とをシール溶接０３する。図中、 ＋１４１は開光線を
示す。したがって、前記シール溶接（１１）により開先
部内部が大気より完全に遮断された状態になる。その後
、第８図に示すように、／−ル溶接（１１）の一部を削
除して開放部（１５）を形成する。なお、この開放部＋
１５１の形成は、シール溶接（１１ｊの後削除して形成
するほか、あらかじめ開放ｇ（！ １１５１のｊｆ（（
分をシール浴接せずに形成してもよく、開放部（１５）
の長さは電子銃（４）の遮蔽体（６）の及ぶ範囲内であ
ｔＩばよい。
の溶接線の表面、裏面９両端面全ての浴接部を、手溶接
、ＭＩＧ溶接、’１”ｌＧ溶接、ＳＡＷ溶接等通常の溶
接方法によりソール溶接（１１）を行なう。また、第７
図に示すように、被溶接物（υの裏面に裏当て板（１２
１を用いる場合は、裏当てＭ Ｌ１２１と被溶接物（υ
とをシール溶接０３する。図中、 ＋１４１は開光線を
示す。したがって、前記シール溶接（１１）により開先
部内部が大気より完全に遮断された状態になる。その後
、第８図に示すように、／−ル溶接（１１）の一部を削
除して開放部（１５）を形成する。なお、この開放部＋
１５１の形成は、シール溶接（１１ｊの後削除して形成
するほか、あらかじめ開放ｇ（！ １１５１のｊｆ（（
分をシール浴接せずに形成してもよく、開放部（１５）
の長さは電子銃（４）の遮蔽体（６）の及ぶ範囲内であ
ｔＩばよい。
つぎにｆＪ９図に示すように、開放部（１５）に電子銃
（４）の遮蔽体（６）を設ｉゴシ、排気ポンプ（３）に
より開先部内部を排気し真空にする。したがって、開先
部内部と電子銃（４）とは完全に真空に保ｆＣれ、外部
からの大気の侵入を完全に防止することかでさる。
（４）の遮蔽体（６）を設ｉゴシ、排気ポンプ（３）に
より開先部内部を排気し真空にする。したがって、開先
部内部と電子銃（４）とは完全に真空に保ｆＣれ、外部
からの大気の侵入を完全に防止することかでさる。
そして、電子ビーム溶接のスタート後は、遮蔽体＋６１
を備えた′電子銃（４）または被溶接物（υを移動させ
、電子ビームにより第１０図および第１１図に示すよう
に、被溶接物（υの裏面側のシール溶接１１１）の近傍
捷たは裏当て板（１２）の近傍捷で溶融させる部分浴込
み溶接を行ない、電子ビーム溶接部（１６）を形Ｉｊｋ
する。なお、電子ビームが裏面側のシール溶接１１１）
捷たは裏当て板（１２１を貫通する貫通溶接になると、
裏面側のシールの破れた部分より空気が侵入するため、
ぼ通溶接にならないよう部分浴込み溶接を行なう。
を備えた′電子銃（４）または被溶接物（υを移動させ
、電子ビームにより第１０図および第１１図に示すよう
に、被溶接物（υの裏面側のシール溶接１１１）の近傍
捷たは裏当て板（１２）の近傍捷で溶融させる部分浴込
み溶接を行ない、電子ビーム溶接部（１６）を形Ｉｊｋ
する。なお、電子ビームが裏面側のシール溶接１１１）
捷たは裏当て板（１２１を貫通する貫通溶接になると、
裏面側のシールの破れた部分より空気が侵入するため、
ぼ通溶接にならないよう部分浴込み溶接を行なう。
捷だ、前記部分浴込み溶接において、溶込み先端部に欠
陥が生じた場合、この欠陥は、噴１２図に示すように、
欠陥の集中している溶込み先端部をガウジングにより除
去（１ηし、第１３図に／１”すように再溶接して補修
溶接（１８１すれは部子に補修できる。なお、前記シー
ル溶接（１１）および補修溶接（１８）に要するコスト
は、この発明を適用することにより得られるコストの低
下に比べると微々たるものである。
陥が生じた場合、この欠陥は、噴１２図に示すように、
欠陥の集中している溶込み先端部をガウジングにより除
去（１ηし、第１３図に／１”すように再溶接して補修
溶接（１８１すれは部子に補修できる。なお、前記シー
ル溶接（１１）および補修溶接（１８）に要するコスト
は、この発明を適用することにより得られるコストの低
下に比べると微々たるものである。
第１−ないし第４図はそれぞれ従来の電子ビーム溶接方
法を示し、第１図は一部切断正面図、第２図は正面図、
第３図は斜視図、第４図は一部切断正面図、第５図以下
の図面はこの発明の電子ビーム溶接方法の実施例を示し
、第５図はシール溶接状態の斜視図、第６図は＠５図の
切断正面図、第７図は他の例の切断正面図、第８図は開
放部を示す斜視図、第９図は電子銃を設置した状態の斜
視図、第１０図および第１１図はそれぞれ電子ビーム溶
接部を示す切断正面図、第１２図および第１３図は補修
溶接の過程を示す切断正面図である。 ・、１）・・・被溶接物、（３）・・・排気ポンプ、（
４）・・・宙子銃、（６）・・・遮蔽体、（１１）・・
・シール溶接、（１５）・・・開放部、ｄ６）・・重子
ビーム溶接部。 代理人 弁理士 藤田龍太部 第１図 第２図 第８図 第１２図 第１３図
法を示し、第１図は一部切断正面図、第２図は正面図、
第３図は斜視図、第４図は一部切断正面図、第５図以下
の図面はこの発明の電子ビーム溶接方法の実施例を示し
、第５図はシール溶接状態の斜視図、第６図は＠５図の
切断正面図、第７図は他の例の切断正面図、第８図は開
放部を示す斜視図、第９図は電子銃を設置した状態の斜
視図、第１０図および第１１図はそれぞれ電子ビーム溶
接部を示す切断正面図、第１２図および第１３図は補修
溶接の過程を示す切断正面図である。 ・、１）・・・被溶接物、（３）・・・排気ポンプ、（
４）・・・宙子銃、（６）・・・遮蔽体、（１１）・・
・シール溶接、（１５）・・・開放部、ｄ６）・・重子
ビーム溶接部。 代理人 弁理士 藤田龍太部 第１図 第２図 第８図 第１２図 第１３図
Claims (1)
- ■ 電子ビームの通路および溶接部近傍を真空に保って
溶接を行なう真空式の電子ビーム溶接方法において、被
溶接物の開先部をあらかじめシール溶接し、開先部内部
を排気して高真空に保ち電子ビーム溶接を行なうことを
特徴とする電子ビーム溶接方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6930682A JPS58187276A (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | 電子ビ−ム溶接方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6930682A JPS58187276A (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | 電子ビ−ム溶接方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58187276A true JPS58187276A (ja) | 1983-11-01 |
Family
ID=13398738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6930682A Pending JPS58187276A (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | 電子ビ−ム溶接方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58187276A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4573876A (en) * | 1983-02-14 | 1986-03-04 | Williams International Corporation | Integral bladed disk |
| JPH0395182U (ja) * | 1990-01-16 | 1991-09-27 |
-
1982
- 1982-04-23 JP JP6930682A patent/JPS58187276A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4573876A (en) * | 1983-02-14 | 1986-03-04 | Williams International Corporation | Integral bladed disk |
| JPH0395182U (ja) * | 1990-01-16 | 1991-09-27 |
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